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[发明专利]药液生成方法、药液生成装置及基板处理装置-CN201810994507.1有效
发明人：西出基;伊豆田崇;林孝俊;福井克洋;冈本浩一;藤田和宏;三浦淳靖;小林健司;根来世;辻川裕贵 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-08-29 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种药液生成方法、药液生成装置及基板处理装置。一种药液生成方法，生成用以对基板上所形成的膜进行处理的药液，所述药液生成方法包括气体溶解工序，所述气体溶解工序通过将含有氧气的含氧气体及含有惰性气体的含惰性气体供给至药液来使所述含氧气体及所述含惰性气体溶解至药液中，并且通过将供给至所述药液的所述含氧气体与所述含惰性气体的混合比设定为与规定的目标溶解氧浓度相对应的混合比来调整药液的溶解氧浓度。
药液生成方法装置处理

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201780046189.X有效
发明人：岩尾通矩;菊本宪幸;安田周一;藤田和宏;大泽瑞树;戎居博志 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-09-07 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理装置包括：基板保持单元，保持基板；处理液配管，与用以朝上述基板的主面喷出处理液的喷出口连通；处理液供给单元，用以对上述处理液配管供给处理液；抽吸单元，用以对存在于上述处理液配管的内部的处理液进行抽吸；以及控制装置，控制上述处理液供给单元及上述抽吸单元；上述控制装置执行：处理液供给步骤，通过上述处理液供给单元对上述处理液配管供给处理液以从上述喷出口喷出；及抽吸步骤，通过上述抽吸单元对存在于上述处理液配管的内部的处理液进行抽吸；上述控制装置在上述抽吸步骤中选择性地执行第1抽吸步骤与第2抽吸步骤，该第1抽吸步骤是抽吸处理液，使抽吸后的处理液的前端面配置于上述处理液配管的内部的预先设定的待机位置的步骤，该第2抽吸步骤是抽吸处理液，使处理液的前端面比上述待机位置后退的步骤。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201880027510.4有效
发明人：辻川裕贵;田中真人;奥村刚;三浦淳靖;高冈诚;宫路信行;藤田和宏;泽崎尚树;秋山刚志;土桥裕也 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-04-17 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：基板处理方法包含有：液体喷出步骤，从喷嘴朝在腔室内被基板保持单元保持的基板的主面中的规定的供给区域喷出液体；加湿气体供给步骤，为了去除在所述基板上带有的电荷而对所述基板的主面供给比所述腔室内的湿度还高的湿度的加湿气体；以及旋转干燥步骤，在所述液体喷出步骤之后，使所述基板绕着规定的旋转轴线旋转并甩离所述基板的主面的液体成分。所述加湿气体供给步骤从所述液体喷出步骤开始前开始，在所述液体喷出步骤的开始之后且在所述旋转干燥步骤之前的规定的结束时机结束。
处理方法以及装置

[发明专利]基板处理方法、送液方法以及基板处理装置-CN201780077433.9有效
发明人：辻川裕贵;三浦淳靖;藤田和宏;土桥裕也 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-11-07 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种基板处理方法，包含：药液供给步骤，将含有离子的药液供给至基板的表面；低纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤之后执行，并将含有杂质的低纯度冲洗液供给至所述基板的表面，所述杂质通过与所述药液所含有的所述离子相互作用而形成析出物；以及高纯度冲洗液供给步骤，在所述药液供给步骤与所述低纯度冲洗液供给步骤之间执行，将所含有的所述杂质的量比所述低纯度冲洗液少的高纯度冲洗液供给至所述基板的表面。
处理方法以及装置

[发明专利]回收配管清洗方法以及基板处理装置-CN201710858481.3有效
发明人：土桥裕也;三浦淳靖;辻川裕贵;藤田和宏;池田昌秀 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-09-21 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能防止或抑制清洗液进入到药液回收配管，并能降低清洗用药液的消耗量的回收配管清洗方法及基板处理装置。该方法为清洗回收配管的方法，在基板处理中使用过的药液经由处理杯引导至回收配管，回收配管将引导至该回收配管的药液向预先设定的药液回收配管引导，包括：配管清洗工序，通过对回收配管供应清洗液并且将被引导至回收配管的液体引导至与药液回收配管不同的排液配管，从而用清洗液清洗所述回收配管内；清洗用药液供应工序，配管清洗工序后，为了将回收配管内存在的清洗液替换为与药液同种的清洗用药液，将被引导至回收配管的液体引导至所述排液配管，并且对回收配管供应来自与回收配管相连的清洗用药液供应配管的清洗用药液。
回收清洗方法以及处理装置

[发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN201711237826.X有效
发明人： 藤田和宏;三浦淳靖;辻川裕贵;土桥裕也;泷昭彦 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-11-30 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能抑制或防止基板间的蚀刻处理的偏差的基板处理方法和装置。基板处理方法对多张基板依次实施共同的共同蚀刻处理，共同蚀刻处理具有：蚀刻工序，通过向共同配管供给第一液温的蚀刻液，并从喷嘴喷出蚀刻液，对基板进行蚀刻；高温液体喷出工序，在蚀刻工序之后向共同配管供给具有高于第一液温的液温的高温液体，并从喷嘴喷出高温液体，基板处理方法还包括配管升温工序，在配管升温工序中，在对上述多张基板进行的多个上述共同蚀刻处理中的最初的共同蚀刻处理之前，使共同配管的管壁升温至高于第一液温的规定的第二液温，在各共同蚀刻处理中，在各高温液体喷出工序之后且下一次的各蚀刻工序之前不进行使共同配管的管壁降温的工序。
处理方法装置

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201710837918.5有效
发明人：菊本宪幸;安田周一;藤田和宏;岩尾通矩 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-09-15 - 公布日： 2021-09-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及遮断部的清洗，提供一种能够提高处理能力的基板处理方法以及基板处理装置。本发明的基板处理方法具有：第一供给工序，包括向旋转的基板的上表面供给处理液的一个以上的第一处理；第二供给工序，包括向旋转的遮断部的下表面供给冲洗液的一个以上的第二处理。并且，存在执行第一供给工序的第一期间和执行第二供给工序的第二期间重叠的重叠期间。
处理方法以及装置

[发明专利]演奏辅助器具以及气簧乐器-CN202011525139.X在审
发明人：有元庆太;福家真史;藤田和宏;三木晃 -专利权人：雅马哈株式会社
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： G10D7/03 文献下载
摘要：本发明的课题在于能够无关于演奏者的演奏技巧地接近气簧乐器原本的音色。提供一种演奏辅助器具(3)，其具有位于气簧乐器(MI)的吹口(12)侧的第一面(4)、位于演奏者的嘴唇侧的第二面(5)、以及从第一面(4)贯通至第二面(5)而使演奏者的呼气流向吹口(12)的流路(6)，第一面(4)中的流路(6)的截面面积比从第一面(4)向第二面(5)侧远离的位置处的流路(6)的截面面积小。
演奏辅助器具以及乐器

[发明专利]基板处理装置和处理杯清洗方法-CN201710565095.5有效
发明人：辻川裕贵;池田昌秀;三浦淳靖;藤田和宏;土桥裕也 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-07-12 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种基板处理装置，具有：筒状的挡板，其接住从旋转夹具向外侧飞散的液体；环状的杯，其用接液槽接住被挡板向下方引导的液体；挡板升降单元，其使挡板沿上下方向移动；清洗液供给单元，其将从冲洗液喷嘴喷出的纯水经由旋转夹具和挡板向接液槽供给；清洗液排出单元，其排出接液槽内的纯水；控制装置，其通过控制清洗液供给单元和清洗液排出单元，来在接液槽中积存纯水，通过控制挡板升降单元，来使筒状部的下端部浸渍于接液槽内的纯水中。
处理装置清洗方法

[发明专利]基板处理装置和喷嘴清洗方法-CN201710755442.0有效
发明人：三浦淳靖;池田昌秀;辻川裕贵;藤田和宏;土桥裕也 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-08-29 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置和喷嘴清洗方法，该基板处理装置的控制装置执行：液柱形成工序，在旋转夹具没有保持基板时，通过使下面喷嘴喷出清洗液，形成从下面喷嘴向上方延伸的液柱；以及，第一下垂部清洗工序，与液柱形成工序并行地执行，通过使上面喷嘴在上面喷嘴的下垂部没有接触液柱的第一位置和上面喷嘴的下垂部没有接触液柱的第二位置之间沿着水平方向往返，使上面喷嘴经过第一中间位置，所述第一中间位置指，在俯视时上面喷嘴的上喷出口与液柱重叠的位置。
处理装置喷嘴清洗方法

[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201710618997.0有效
发明人：三浦淳靖;藤田和宏;辻川裕贵;土桥裕也;竹本宪司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-07-26 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理方法及装置，基板处理方法由基板处理装置执行，装置包括：回收杯，划分出引导使用过的药液的回收空间，回收配管，回收引导至回收空间的药液，排液配管，排出液体，切换单元，将液体在回收配管和排液配管间切换，方法包括：药液供给工序，向基板供给药液；经过期间测量工序，测量结束后经过期间；回收工序，在开始执行药液供给工序的情况下，在结束后经过期间小于第一期间时，将切换单元控制为，将液体向回收配管引导的回收导出状态；排液工序，在开始执行药液供给工序的情况下，在结束后经过期间为第一期间以上时，将切换单元控制为，将液体向排液配管引导的排液导出状态，并根据排液结束条件的成立，切换到回收导出状态。
处理方法以及装置

[发明专利]基板处理装置-CN201680019255.X有效
发明人：平井信行;池田昌秀;藤田和宏;佐佐木光敏 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2016-03-10 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的基板处理装置中，由处理液供应部向喷出部(41)供应处理液，从喷出部(41)的喷出口(411)向基板喷出处理液。喷出部(41)中，液体接触面(45)由不含金属的材料形成，液体接触面(45)中的位于具有喷出口(411)的顶端部(42)的顶端液体接触面(451)具有导电性。顶端液体接触面(451)通过接地部(5)电接地。由此，能够更可靠地使处理液放电，并且防止基板的金属污染。
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN201710112772.8有效
发明人：菊本宪幸;基村雅洋;安田周一;藤田和宏 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-02-28 - 公布日： 2020-08-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种基板处理装置，其中，第二杯檐部的内周缘与相向部件侧壁部的外周面在径向上相向。由此，能够抑制处理液向比杯部更靠上侧飞散。另外，相向部件侧壁部的外周面与第二杯檐部的内周缘之间的径向距离即第二杯部间隙距离比相向部件侧壁部的内周面与基板保持部的外周面之间的径向距离即保持间隙距离大。由此，由第二杯部接受从基板飞散的第二处理液时，能够防止或抑制第二处理液被向下的气流向下方冲走。其结果是，能够由多个杯部分类接受多种处理液。
处理装置

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201880041589.6在审
发明人：岩尾通矩;安田周一;藤田和宏;菊本宪幸;山口贵大 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-06-28 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：一种基板处理装置，包含：吸引单元，用以吸引存在于连通至喷出口的处理液配管的内部的处理液；以及控制装置。所述控制装置执行：吸引步骤，通过所述吸引单元吸引存在于所述处理液配管的内部的处理液。此外，所述控制装置在所述吸引步骤中选择性地执行：第一吸引步骤，使处理液的前端面后退，并使吸引后的处理液的前端面配置于所述处理液配管的内部中的预先设定的待机位置；以及第二吸引步骤，使处理液的前端面后退至比所述待机位置还后方。此外，所述控制装置在所述第二吸引步骤后进一步执行：待机位置配置步骤，通过所述处理液供给单元对所述处理液配管供给处理液，将处理液的前端面配置于所述待机位置。
处理液待机位置控制装置前端面吸引配管吸引单元配置处理液供给单元基板处理装置喷出口连通

[发明专利]凝聚剂-CN200680049455.6有效
发明人：藤田佐内;藤田和宏 -专利权人：艾克塞拉股份有限公司;佐佐木启之
申请日： 2006-12-25 - 公布日： 2009-01-14 - 主分类号： B01D21/01 文献下载
摘要：本发明提供了一种可以在中性区域内反应且处理过的水也处于中性区域的凝聚剂，该凝聚剂可以简便地进行操作，特别是可以有效地进行泥水的净化。本发明涉及一种凝聚剂，其呈粉末状，且添加到纯水中溶解后显示pH5～9，该凝聚剂以混合状态含有包含吸附有金属成分的多孔粒子的酸性粉末、与包含吸附有磷酸钙的多孔粒子的碱性粉末。
凝聚剂

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