“苏州苏大维格科技集团股份有限公司”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果386个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]大面积纳米光刻系统及其方法-CN201910024456.4有效
发明人：浦东林;陈林森;朱鹏飞;朱鸣;邵仁锦 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2019-01-10 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种大面积纳米光刻系统，包括工件台、位置反馈系统、干涉光学系统和控制系统，工件台上设有待光刻的光刻基片；位置反馈系统用于测量和计算工件台的误差；干涉光学系统用于产生干涉曝光场，对光刻基片进行干涉光刻，干涉光学系统包括衍射光学器件；控制系统分别与该工件台、该位置反馈系统和该干涉光学系统电性连接；该控制系统控制该衍射光学器件的运动，用以补偿该工件台的误差。本发明的大面积纳米光刻系统能达到大面积纳米结构高精度制备。本发明还涉及一种大面积纳米光刻方法。
大面积纳米光刻系统及其方法

[发明专利]裸眼三维显示系统、拼接显示装置和生成方法-CN202010059575.6在审
发明人：周振;罗明辉;乔文;成堂东;陈林森 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
申请日： 2020-01-19 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： G02B30/30 文献下载
摘要：本申请涉及一种裸眼三维显示系统、拼接显示装置和生成方法，属于显示技术领域，该系统包括：投影装置，用于投射待显示的图像信息；拼接显示装置，用于对所述图像信息进行光场信息的重构，以在n个视点上对所述图像信息进行三维显示；其中，所述拼接显示装置包括在同一平面内拼接的至少两个拼接子模块，每个拼接子模块对应n个视点；可以避免投影装置的投影幅面大于显示装置的接收幅面，导致降低裸眼三维显示系统的显示分辨率的问题；由于可以按照投影装置的投影幅面对多个拼接子模块进行拼接，得到拼接显示装置，从而可以保证投影装置的投影幅面小于或等于拼接显示装置的接收幅面，解决显示信息不全的问题。
裸眼三维显示系统拼接显示装置生成方法

[发明专利]可拉伸电极的制备方法及可拉伸电极-CN202010061805.2在审
发明人：赵瑶瑶;刘艳花;李亚雷 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2020-01-19 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： H01B13/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种可拉伸电极的制备方法及可拉伸电极，可应用于穿戴装置中，该方法包括：S1、在第一载体上形成电极的微图案；S2、在所述第一载体上覆盖可形成具有拉伸功能的第二载体的溶液，所述溶液覆盖于所述微图案的一侧，进而固化；S3、将所述第二载体从所述第一载体上剥离以形成可拉伸电极。与现有技术相比，本发明的制备过程不需要引入牺牲层，从而极大地降低了工艺的复杂性，不仅节约了成本还提高了效率，使得其方法具有成本低、操作简单、成品率高的特点。
拉伸电极制备方法

[实用新型]一种压印设备-CN202023137441.6有效
发明人：魏国军;卢国;周杨;范广飞;魏玉宽;魏中文;毛立华;陈林森 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种压印设备，包括机架、设置在所述机架上用于放置待压印物的承载平台、设置在所述承载平台上方的治具，以及压印结构，所述治具包括用于固定模具的固定结构和用于调节所述固定结构两相对侧的相对高度的第一升降结构，所述压印结构包括压辊和与所述压辊连接的动力结构，在工作时，所述动力结构驱动所述压辊由所述固定结构高度低的一侧向高度高的一侧运动，所述第一升降结构随所述压辊运动驱动所述固定结构逐步下降高度以使所述模具自所述待压印物的一侧向另一侧压印。通过上述结构，使压得压印过程中待压印物受力均匀，有效地防止压印时气泡的生成，保证了压印的精度。
一种压印设备

[发明专利]光刻方法-CN201910448289.6有效
发明人：邵仁锦;朱鹏飞;张瑾;浦东林;陈林森 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2019-05-27 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种光刻方法，用于将待处理图形进行无掩模版的光刻，所述方法包括如下步骤：S1：将所述待处理图形进行K次拆分，形成K幅子图形；S2：预设分割宽度M，分别将K幅所述子图形按照所述预设分割宽度M切割成n条子条带；S3：将K幅所述子图形中形成的n条宽度为M的所述子条带进行重组，形成n条新条带；S4：光刻所述新条带，其中，每完成一条新条带光刻，步进一条所述子条带的宽度M，进行另一待处理的新条带光刻。通过将待处理图形拆分分割形成的n条子条带进行重组，实现子条带分辨率的增强，从而达到光刻分辨率增强的效果。
光刻方法

[发明专利]应用于3D打印设备的数据处理方法和3D打印设备-CN201811544100.5有效
发明人：朱鸣;吕帅;朱鹏飞;浦东林 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2018-12-17 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： B29C64/386 文献下载
摘要：本发明公开了一种应用于3D打印设备的数据处理方法，包括：确定切片的分层数目；确定STL模型中与每个切片相交的所有三角形面片；将每个切片按X轴方向或Y轴方向中其中一个轴方向分成若干列，每一列中至少含有一条与列方向相同的扫描线，确定每条扫描线与切片中三角形面片所相交的交点以及交点的坐标；将每条扫描线上的交点按照坐标的大小进行排序；将所有扫描线上的交点转换成对应的像素坐标，再将每条扫描线上奇数交点和奇数交点下一个相邻的偶数交点之间的所有像素填充连接；将切片中所有扫描线经过处理，得到切片填充的位图图形。本发明不用对STL模型建立拓扑信息，避免了大量计算和排序，提高了数据处理的效率。
应用于打印设备数据处理方法

[实用新型]一种反射式光栅分束器-CN202022896326.0有效
发明人：李瑞彬;罗明辉;乔文;杨博文;李玲;成堂东;朱平;陈林森 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
申请日： 2020-12-03 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种反射式光栅分束器，包括具有光栅的衬底，所述光栅与所述衬底一体，光栅上覆盖有金属层，金属层的形状随行于光栅。通过上述的结构，增强了对光的反射效率，从而提高了反射式光栅分束器的工作效果；同时，采用光栅与衬底一体设计，可以有效地解决由于金属反射率高，造成先做金属层再制作光栅导致制作光栅栅条时产生驻波的技术难题，降低了制造工艺难度。
一种反射光栅分束器

[实用新型]一种手机膜片-CN202022910405.2有效
发明人：杨颖;刘晓宁;韩春芳 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州迈塔光电科技有限公司
申请日： 2020-12-08 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： G02B5/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种手机膜片，包括微透镜放大成像膜片层、光学胶层、衬底和纹理层，所述微透镜放大成像膜片层由上向下包括微透镜层、基膜和微图文层，所述衬底的下表面设置所述纹理层，所述衬底的上表面设置所述光学胶层，所述光学胶层包裹所述微透镜放大成像膜片层，且所述光学胶层未覆盖所述微透镜层的上表面。通过上述结构，可以使外部光线从空气中直接入射至微透镜层，从而不会改变微透镜层成像的焦距，进而使微透镜阵列放大成像膜片能产生清晰的景深和动态效果，以使手机膜片具有独特的视觉效果。
一种手机膜片

[实用新型]一种光学扩瞳波导片及显示装置-CN202023044680.7有效
发明人：罗明辉;乔文;周振;李瑞彬;成堂东;陈林森 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
申请日： 2020-12-17 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光学扩瞳波导片，包括波导衬底，以及设置在所述波导衬底上的用于图像光线耦入的耦入区域和用于经所述耦入区域的图像光线耦出的耦出区域，所述耦入区域包括形成光栅矢量G1和光栅矢量G2的二维光栅元件，所述耦出区域包括形成光栅矢量G3的一维光栅元件，其中，所述光栅矢量G1、所述光栅矢量G2、所述光栅矢量G3三者矢量和为零。本实用新型还公开了一种显示装置，包括上述的光学扩瞳波导片。通过上述结构，使得耦出区域均可观看到全视场图像；结构简单，易于制备加工，可以实现批量生产；同时耦入区域二维对称传导，可扩大视场角度。
一种光学波导显示装置

[发明专利]一种全息膜材料及其制作方法-CN201911323056.X在审
发明人：朱昊枢;叶瑞;左志成;刘晓宁;刘朋;任家安;王建强;魏国军;孙菁;陈林森;朱志坚 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： C08J7/046 文献下载
摘要：本发明公开了一种全息膜材料及其制作方法，其特征在于：所述全息膜材料为设置在基层上的复合表层，其中所述全息膜材料包括：全息层，所述全息层靠近基层一侧的表面材质与所述基层材质相同，所述全息层远离所述基层一侧的表面上形成有全息防伪微纳结构；全息膜材料设置有形成于所述全息层上并覆盖所述全息防伪微纳结构的透明介质层；全息层之上的透明介质层上还设置有保护层，所述保护层由UV光固化涂料涂层和/或热固性涂料涂层固化而成，本发明克服现有技术存在的不足，提供了一种产品能强好、长期使用中产品品质稳定的全息膜材料。
一种全息材料及其制作方法

[发明专利]激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法-CN202110270751.5有效
发明人：陈林森;浦东林;张瑾;朱鸣;朱鹏飞;乔文;朱昊枢;刘晓宁;邵仁锦;杨颖 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2021-03-12 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。这样，可以得到任意三维微纳形貌结构。
激光光刻机制三维形貌结构及其制备方法

[实用新型]一种激光打印系统-CN202020273603.X有效
发明人：魏国军;卢国;范广飞;魏玉宽;周杨;毛立华;陈林森 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2019-12-17 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： B41J2/435 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种激光打印系统，其包括控制系统和分别与所述控制系统通讯连接的打印机台、激光打印装置和所述无遮挡证卡拍照装置，其中：所述无遮挡证卡拍照装置被配置的能够驱动证卡平移的同时，还能对所述证卡进行无遮挡拍照。这样，可以实现对证卡表面的无遮挡拍照、全景拍照，降低对证卡识别、检验的影响。
一种激光打印系统

[发明专利]一种无酶葡萄糖传感器及其制备方法-CN202010005090.9在审
发明人：李亚雷;刘艳花 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2020-01-03 - 公布日： 2021-07-06 - 主分类号： G01N27/327 文献下载
摘要：本发明涉及的无酶葡萄糖传感器为在柔性衬底上原位生长活性物质而形成的电极，柔性衬底为金属网格。由于无酶葡萄糖传感器的制备仅需要简单的电化学原位生长即可，该制备过程简单、成本较小并且易于微型化，为可穿戴医疗检测糖尿病的广泛应用提供了光明的前景；金属网格具有柔性和镂空部，相对表面积较大的特点，得到的无酶葡萄糖传感器柔性可贴附、超薄透明且具有较高的灵敏度、选择性和透过率以及较好的线性度，对葡萄糖的氧化具有良好的催化活性和自身稳定性。
一种葡萄糖传感器及其制备方法

[发明专利]一种激光点焊拼版方法-CN201810832929.9有效
发明人：朱昊枢;贾俊伟;蔡文静;周聚鹤;张德智;朱志坚;陈林森 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
申请日： 2018-07-26 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： B41C3/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光点焊拼版方法，包括如下步骤：A、将全息图像的单元镍版裁切至所需形状和尺寸，以获得裁切后的单元镍版；B、将若干个所述裁切后的单元镍版进行拼接，以全息图像向下，用激光点焊的方法将所述拼接的各单元镍版间局部固定，以获得带有缝隙的单元组合版；C、将所述单元组合版放入电铸槽中进行电铸处理，使单元组合版的缝隙填平，进而获得拼版母版。本发明公开的方法，可适用具有较大版厚差值的单元镍版之间的拼版，单元镍版厚度差可达100μm，且采用镍版背面点焊结合电铸的拼版方法，对镍版正面全息图像无损伤。
一种激光点焊拼版方法

[发明专利]一种消除零级衍射影响的结构光组件-CN201911317253.0在审
发明人：浦东林;邵仁锦;王冠楠;朱鹏飞;张瑾;陈林森 -专利权人： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
申请日： 2019-12-19 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： G02B27/42 文献下载
摘要：本发明提供一种消除零级衍射影响的结构光组件，包括：激光光束；衍射光学器件，用于接收及扩束激光光束，并向图形面投射图案化光束；折射透镜，位于衍射光学器件的一侧，用于使图案化光束中的零级衍射光在图形面上形成背景光，并使图案化光束中的负一级衍射光或正一级衍射光在图形面上聚焦形成图案。本发明提供的消除零级衍射影响的结构光组件，将衍射器件和折射透镜相结合，入射激光从衍射器件出射到图形面之间没有聚焦点，既能使图形面上形成的图案更加清晰，也能对激光安全防护起到作用。
一种消除衍射影响结构组件