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[发明专利]新型化合物及其制造方法、产酸剂、抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法-CN201410152054.X有效
发明人： 羽田英夫;内海义之;石塚启太;松泽贤介;金子文武;大下京子;清水宏明;吉井靖博 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-12-18 - 公布日： 2017-08-01 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1‑1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但下述通式(w‑1)表示的离子除外)。
新型化合物及其制造方法产酸剂抗蚀剂组合以及图案形成

[发明专利]新型化合物及其制造方法、产酸剂、抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法-CN201710046671.5在审
发明人： 羽田英夫;内海义之;石塚启太;松泽贤介;金子文武;大下京子;清水宏明;吉井靖博 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-12-18 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： C07C303/32 文献下载
摘要：本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1－1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但下述通式(w‑1)表示的离子除外)。
新型化合物及其制造方法产酸剂抗蚀剂组合以及图案形成

[发明专利]新型化合物及其制造方法、产酸剂、抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法-CN201210243584.6有效
发明人： 羽田英夫;内海义之;石塚启太;松泽贤介;金子文武;大下京子;清水宏明;吉井靖博 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-12-18 - 公布日： 2013-01-09 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1-1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，式中，R^X是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q²和Q³分别独立地为单键或2价的连接基团；Y¹是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z⁺是有机阳离子(但下述通式(w-1)表示的离子除外)。
新型化合物及其制造方法产酸剂抗蚀剂组合以及图案形成

[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂-CN201110402834.1无效
发明人：濑下武广;内海义之;川上晃也;羽田英夫;清水宏明;中村刚 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-11-13 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q¹是2价连接基团或单键；Y¹是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO₂-键。M⁺是碱金属离子。A⁺是有机阳离子)。
抗蚀剂组合图案形成方法新型化合物以及产酸剂

[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂-CN201110206830.6有效
发明人：濑下武广;内海义之;川上晃也;羽田英夫;清水宏明;中村刚 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-11-13 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： C07D327/04 文献下载
摘要：本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q¹是2价连接基团或单键；Y¹是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO₂-键。M⁺是碱金属离子。A⁺是有机阳离子。)
抗蚀剂组合图案形成方法新型化合物以及产酸剂

[发明专利]光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置及涂布装置-CN200910164462.6有效
发明人： 羽田英夫;岩井武;嶋崎真明;室井雅昭;厚地浩太;富田浩明;尾崎弘和 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2003-12-18 - 公布日： 2010-04-21 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
光致抗蚀剂组合制造方法过滤装置

[发明专利]光致抗蚀剂组合物的制造方法、过滤装置及涂布装置-CN200910164463.0有效
发明人： 羽田英夫;岩井武;崎真明;室井雅昭;厚地浩太;富田浩明;尾崎弘和 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2003-12-18 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
光致抗蚀剂组合制造方法过滤装置

[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂-CN200810173347.0有效
发明人：濑下武广;内海义之;川上晃也;羽田英夫;清水宏明;中村刚 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-11-13 - 公布日： 2009-07-01 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q¹是2价连接基团或单键；Y¹是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO₂-键。M⁺是碱金属离子。A⁺是有机阳离子)。
抗蚀剂组合图案形成方法新型化合物以及产酸剂

[发明专利]新型化合物及其制造方法、产酸剂、抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法-CN200810185226.8有效
发明人： 羽田英夫;内海义之;石塚启太;松泽贤介;金子文武;大下京子;清水宏明;吉井靖博 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-12-18 - 公布日： 2009-06-24 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1-1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，R^X-Q³-O-Q²-Y¹-SO₃^-Z⁺ …(b1-1)；式中，R^X是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q²和Q³分别独立地为单键或2价的连接基团；Y¹是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z⁺是有机阳离子(但通式(w-1)表示的离子除外)。
新型化合物及其制造方法产酸剂抗蚀剂组合以及图案形成

[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、新型化合物及其制法-CN200810212866.3有效
发明人：川上晃也;岩井武;羽田英夫;秀坂慎一;黑泽刚志;圆山夏子;松泽贤介;濑下武广;清水宏明;中村刚 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-09-10 - 公布日： 2009-04-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及含有能用作产酸剂的新型化合物的抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、所述化合物、能用作所述化合物的前体的化合物及其制造方法。其中，涉及式(I)表示的化合物以及式(b1-1)表示的化合物[式中，X是-O-、-S-、-O-R³-或-S-R⁴-，R³和R⁴分别独立地是碳原子数为1～5的亚烷基；R²是碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为1～6的烷氧基、碳原子数为1～6的卤代烷基、卤原子、碳原子数为1～6的羟烷基、羟基或氰基；a是0～2的整数；Q¹是碳原子数为1～12的亚烷基或单键；Y¹是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；M⁺是碱金属离子；A⁺是有机阳离子。
抗蚀剂组合图案形成方法新型化合物及其制法

[发明专利]车辆用座椅装置-CN200680017654.9无效
发明人：酒井守雄;羽田英夫 -专利权人：爱信精机株式会社
申请日： 2006-05-18 - 公布日： 2008-05-14 - 主分类号： B60N2/42 文献下载
摘要：头垫(5)包括基部(5a)和可相对该基部(5a)移动的可动部(5b)。可动部(5b)随着驱动单元(8a)的驱动，而在靠近基部(5a)的后退位置(5X)以及远离该基部(5a)的前进位置(5Y)之间移动。控制单元(7)，在判定为由就座于座椅部(3)的乘客施加于座椅部(3)的就座面(3a)的负荷发生了移动的情况下，控制驱动单元(8a)以使可动部(5b)朝向前进位置(5Y)移动。
车辆座椅装置

[发明专利]图案形成用基材、负型抗蚀剂组合物及图案形成方法-CN200710141905.0无效
发明人：小岛恭子;羽田英夫;盐野大寿 -专利权人：株式会社日立制作所;东京应化工业株式会社
申请日： 2007-08-16 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：随着微细化，要求半导体电路图案尺寸的精度接近于抗蚀剂分子尺寸，但抗蚀剂图案的边缘粗糙度导致设备性能劣化或对系统性能造成不良影响。本发明使用一种图案形成用基材，其特征在于，所述图案形成用基材为每1分子具有0个以上6个以下在酸的作用下发生化学转化、对碱性显影液的溶解性降低的官能团的化合物的混合物，在除所述官能团之外的部分，具有2个以上三苯基甲烷结构非共轭地连接的结构，所述官能团与多核酚化合物的酚羟基键合，每1分子具有0个所述官能团的多核酚化合物的重量比为15％以下，且每1分子有3个以上所述官能团的多核酚化合物的重量比为40％以下，并且与所述多核酚化合物键合的所述官能团个数平均每1分子为2.5以下。
图案形成基材负型抗蚀剂组合方法

[发明专利]形成抗蚀图案的方法、正型抗蚀剂组合物和层状产品-CN200380104689.2无效
发明人： 羽田英夫;宫入美和;久保田尚孝;岩井武 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2003-12-01 - 公布日： 2007-07-11 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种形成抗蚀图案的方法，该方法可以使在良好控制图案尺寸下形成抗蚀图案，并且提供在该方法中使用的正型抗蚀剂组合物和使用正型抗蚀剂组合物形成的层状产品。在上面方法中，将包含树脂组分(A)和通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)的正型抗蚀剂组合物涂布在基材上，所述的树脂组分(A)包含衍生自由下面通式(I)表示的(甲基)丙烯酸酯的结构单元(a1)，并且在酸作用下显示提高的碱溶解度，进行预烘焙，选择性地曝光抗蚀剂组合物，进行后曝光烘焙(PEB)，然后使用碱性显影以形成抗蚀图案，然后通过热处理使由此产生的抗蚀图案的图案尺寸变窄。
形成图案方法正型抗蚀剂组合层状产品

[发明专利]高分子化合物、酸发生剂、正型抗蚀剂组合物、和抗蚀图案形成方法-CN200580026129.9有效
发明人：松丸省吾;竹下优;岩井武;羽田英夫 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2005-07-01 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： C08F220/38 文献下载
摘要：本发明提供一种可以构成能形成LER降低的高清晰度的图案的正型抗蚀剂组合物的高分子化合物、由该高分子化合物构成的酸发生剂、含有该高分子化合物的正型抗蚀剂组合物、和使用了该正型抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述高分子化合物含有：从具有酸解离性溶解抑制基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a1)、用下述通式(a2－1)表示的结构单元(a2)、从含有含极性基团的脂肪族多环式基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a3)，在式中，R是氢原子或者低级烷基；A是2价的有机基团；B是1价的有机基团；X是硫原子或者碘原子；n是1或者2；Y是至少一个氢原子可以被氟原子取代的直链、支链或者环状的烷基。
高分子化合物发生正型抗蚀剂组合图案形成方法

[发明专利]开关装置-CN200580011717.5无效
发明人：家田清一;羽田英夫;伊藤毅 -专利权人：爱信精机株式会社
申请日： 2005-06-21 - 公布日： 2007-04-04 - 主分类号： H01H13/38 文献下载
摘要：在开关装置(X)中，作为感知使用者的操作输入的感知单元，具有：作为具有弹性的板形部件的第一电极(11)，与第一电极(11)对置的第二电极(12)，第一电极(11)设置为可切换成：向开关的输入解除位置施力的第一稳定姿势、和向开关的输入位置施力的第二稳定姿势，还具有操作部件(17)，在从第一稳定姿势变更为第二稳定姿势后，向第一电极(11)施加操作力而从第二稳定姿势恢复到第一稳定姿势。
开关装置

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