专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]双磁穿隧接面与其形成方法-CN201910882982.4有效
  • 维格纳许·桑达;王郁仁;路克·汤马斯;真杰诺;沙希·帕特尔;童儒颖 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2019-09-18 - 2023-05-30 - H10N50/10
  • 本公开涉及一种双磁穿隧接面与其形成方法,其中第一穿隧阻障层(TB1)具有比上覆的第二穿隧阻障层(TB2)的电阻与表面积乘积RA2大致上较低的电阻与表面积乘积RA1,以提供可接受的净磁阻比(DRR)。此外,第一固定层(PL1)的磁化方向与第二固定层(PL2)的磁化方向反平行排列,以能够获得比平行排列时更低的临界切换电流。在第二固定层上形成具有RACAP的氧化物覆盖层,以提供更高的第二固定层稳定性。当第一穿隧阻障层与氧化物覆盖层具有比第二穿隧阻障层更小的厚度和更低的氧化态中的一者或两者,第一穿隧阻障层(TB1)与氧化物覆盖层包括金属氧化物或金属氮氧化物基质中的导电(金属)通道,或者包括掺杂的金属氧化物或掺杂的金属氮氧化物层时,实现条件RA1RA2和RACAPRA2
  • 双磁穿隧接面与其形成方法
  • [发明专利]可降低磁性装置的薄膜粗糙度的多层结构-CN201680068533.0有效
  • 朱健;诺真·杰;李元仁;刘焕龙;童儒颖;王柏刚 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2016-10-24 - 2022-03-29 - H01L43/08
  • 本发明公开了一种可降低磁性装置的薄膜粗糙度的多层结构、一种磁性穿隧接面以及一种形成磁性穿隧接面的方法,其中,可降低磁性装置的薄膜粗糙度的多层结构,包括:(a)一第一层,其由具有一第一键能的材料所制成,并具有一第一表面,该第一表面具有一“刚沉积的”第一峰间粗糙度;以及(b)一上面的第二层,其为非晶或纳米晶,并由具有大于该第一键能的一第二键能的材料所制成,使得该上面的第二层的沉积导致该第一层的再溅镀,以得到具有一第二峰间粗糙度的一第二表面的一第一层,该第二峰间粗糙度小于该“刚沉积的”的第一峰间粗糙度,该上面的第二层形成于该第二表面上,该上面的第二层具有一第三表面,该第三表面具有该第二峰间粗糙度。
  • 降低磁性装置薄膜粗糙多层结构
  • [发明专利]用于垂直磁力异向性薄膜的种子层-CN201480028737.2有效
  • 森山贵広;王郁仁;童儒颖 - 海德威科技公司
  • 2014-04-14 - 2020-08-18 - H01L43/08
  • 本发明公开了一种形成具有垂直磁力异向性的磁性薄膜结构的方法、一种具有垂直磁力异向性的磁性薄膜结构和一种具有垂直磁力异向性的穿隧磁阻装置,其中,具有垂直磁力异向性的磁性薄膜结构是由具有不同晶体对称结构的材料以多层方式制作而成,其通过促进晶体匹配的种子层的使用来提供平滑过渡。在沉积结构上的层间界面,如氧化镁层和含铁铁磁层之间的界面会发生垂直磁力异向性,后续过程中,垂直磁力异向性将通过对称结构匹配种子层的方式传播到整个沉积结构的其余部分。
  • 用于垂直磁力向性薄膜种子

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