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[实用新型]柔性连续性磁控溅射沉积镀膜工作腔室隔离装置-CN201920686228.9有效
发明人：王鲁南;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型提供一种柔性连续性磁控溅射沉积镀膜工作腔室隔离装置，采用高低真空腔真空度隔离装置，利用高低真空度压力差，将磁控溅射镀膜机的工作腔室物理隔离，有效减少工作气体的流失以维持各个工作腔室的真空度；可广泛应用于连续柔性薄膜显示器、薄膜太阳能电池、柔性调光窗膜、柔性电磁屏蔽膜等成膜的生产制造中。
柔性连续性磁控溅射沉积镀膜工作隔离装置

[实用新型]柔性宽幅连续磁控溅射镀膜气体混合装置-CN201920276808.0有效
发明人：王鲁南;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2019-03-05 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： B01F3/02 文献下载
摘要：本实用新型是柔性宽幅连续磁控溅射镀膜气体混合装置，包括若干级气体混合子单元顺次连接组成的气体混合单元，气体混合子单元包括导流混合舱和混合舱，混合舱为空心管状且侧壁两端边缘分别设置有环形进气带和环形出气带，混合舱的环形进气带与导流混合舱出气端连通，混合舱的环形出气带与下一级气体混合子单元内的导流混合舱的进气端连通，气体混合单元前置第一混合舱，第一混合舱的环形出气带与第一级气体混合子单元内导流混合舱的进气端连通，第一混合舱的进气端与反应气体混合室连通，第一混合舱的环形进气带与工作气体储气舱连通。该装置体积小、结构简单、经济，多种气体混合密度分布均匀，对柔性宽幅连续磁控溅射镀膜横向均匀性控制作用明显。
柔性宽幅连续磁控溅射镀膜气体混合装置

[实用新型]柔性卷对卷磁控溅射镀膜中超薄基带牵引装置-CN201920686229.3有效
发明人：王鲁南;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2020-03-06 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及真空镀膜领域，提供一种柔性卷对卷磁控溅射镀膜中超薄基带牵引装置，采用高低真空腔真空度隔离装置，利用高低真空度压力差将需要沉积镀膜的柔性超薄基带与柔性辅助基带贴合形成抗拉强度较好的复合基带，为柔性超薄基带提供移动载体，防止柔性超薄基带变形，可广泛应用于连续柔性薄膜显示器、薄膜太阳能电池、柔性调光窗膜、柔性电磁屏蔽膜等的生产制造中。
柔性磁控溅射镀膜超薄基带牵引装置

[实用新型]CIGS制备用强化隔离膜及制备装置-CN201920686231.0有效
发明人：王鲁南;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2020-03-06 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供一种CIGS制备用强化隔离膜制备装置，以柔性有机材料为基材，经该制备装置一次性制成的成膜，具有较好的服帖性能；它包括在一个真空镀膜腔内的多个磁控溅射装置，各磁控溅射装置包括以氩气作为工作气体、以氧气为反应气体的沉积阴极室、位于沉积阴极室内的阴极靶材；磁控溅射装置分为用于对柔性有机基材下表面磁控溅射镀膜的下镀膜磁控溅射装置和用于对柔性有机基材上表面磁控溅射镀膜的上镀膜磁控溅射装置；在真空镀膜腔内还设置有用于对连续移动的柔性有机基材进行冷却的冷鼓；本实用新型还提供一种CIGS制备用强化隔离膜，具有较好的服帖性能，有利于增宽透过光谱的范围，加宽光谱透射窗口宽度，有助于增加全光线透过率。
cigs 制备强化隔离装置

[实用新型]柔性透明电磁屏蔽膜及制备装置-CN201920692169.6有效
发明人：王鲁南;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2020-03-06 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型提供一种柔性透明电磁屏蔽膜制备装置，以柔性有机透明材料为基材，采用柔性、卷绕式、连续型有机基材磁控溅射镀膜技术在有机透明基材上下两面一次性镀膜制成的柔性透明电磁屏蔽膜；它使用在一个真空镀膜腔内的多个磁控溅射装置，各磁控溅射装置包括以惰性气体氩气作为工作气体、以氧气为反应气体的沉积阴极室、位于沉积阴极室内的阴极靶材，连续移动的柔性有机透明基材依次通过各磁控溅射装置的沉积阴极室，通过各磁控溅射装置的溅射，并控制通入各沉积阴极室的氧气和惰性气体的流量，使得阴极靶材氧化物一次性沉积在柔性有机透明基材的上下表面。
柔性透明电磁屏蔽制备装置

[发明专利]柔性透明电磁屏蔽膜及制备方法-CN201910399811.6在审
发明人：王鲁南;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种柔性透明电磁屏蔽膜制备方法，以柔性有机透明材料为基材，采用柔性、卷绕式、连续型有机基材磁控溅射镀膜技术在有机透明基材上下两面一次性镀膜制成的柔性透明电磁屏蔽膜；它使用在一个真空镀膜腔内的多个磁控溅射装置，各磁控溅射装置包括以惰性气体氩气作为工作气体、以氧气为反应气体的沉积阴极室、位于沉积阴极室内的阴极靶材，连续移动的柔性有机透明基材依次通过各磁控溅射装置的沉积阴极室，通过各磁控溅射装置的溅射，并控制通入各沉积阴极室的氧气和惰性气体的流量，使得阴极靶材氧化物一次性沉积在柔性有机透明基材的上下表面。
磁控溅射装置沉积电磁屏蔽膜透明基材阴极室阴极靶材透明制备氧气磁控溅射镀膜惰性气体氩气有机透明材料阴极一次性沉积真空镀膜腔惰性气体反应气体工作气体连续移动上下表面有机基材卷绕式连续型一次性氧化物镀膜基材溅射室内

[发明专利]CIGS制备用强化隔离膜及制备方法-CN201910399825.8在审
发明人：王鲁南;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2019-07-12 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种CIGS制备用强化隔离膜制备方法，以柔性有机材料为基材，采用有机基材磁控溅射镀膜技术一次性制成的CIGS制备用强化隔离膜，具有较好的服帖性能；它使用在一个真空镀膜腔内的多个磁控溅射装置，各磁控溅射装置包括以惰性气体氩气作为工作气体、以氧气为反应气体的沉积阴极室、位于沉积阴极室内的阴极靶材，连续移动的柔性有机基材依次通过各磁控溅射装置的沉积阴极室，通过各磁控溅射装置的溅射，使得阴极靶材氧化物一次性沉积在柔性有机基材的上下表面；本发明还提供一种CIGS制备用强化隔离膜，有利于增宽透过光谱的范围，加宽光谱透射窗口宽度，有助于增加全光线透过率，提高转换效率。
制备磁控溅射装置隔离膜有机基材沉积阴极靶材阴极室光谱磁控溅射镀膜惰性气体氩气全光线透过率阴极一次性沉积一次性制成真空镀膜腔反应气体工作气体连续移动上下表面透射窗口有机材料转换效率氧化物基材加宽溅射增宽氧气室内

[发明专利]柔性连续性磁控溅射沉积镀膜工作腔室隔离方法-CN201910399824.3在审
发明人：王鲁南;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2019-07-12 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种柔性连续性磁控溅射沉积镀膜工作腔室隔离方法，采用高低真空腔真空度隔离装置，利用高低真空度压力差，将磁控溅射镀膜机的工作腔室物理隔离，有效减少工作气体的流失以维持各个工作腔室的真空度；可广泛应用于连续柔性薄膜显示器、薄膜太阳能电池、柔性调光窗膜、柔性电磁屏蔽膜等成膜的生产制造中。
工作腔室磁控溅射沉积高低真空镀膜薄膜太阳能电池磁控溅射镀膜机柔性电磁屏蔽膜隔离薄膜显示器隔离装置工作气体连续柔性物理隔离有效减少压力差成膜窗膜调光应用制造生产

[发明专利]柔性卷对卷磁控溅射镀膜中超薄基带牵引方法-CN201910400163.1在审
发明人：王鲁南;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2019-05-14 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明涉及真空镀膜领域，提供一种柔性卷对卷磁控溅射镀膜中超薄基带牵引方法，采用高低真空腔真空度隔离装置，利用高低真空度压力差将需要沉积镀膜的柔性超薄基带与柔性辅助基带贴合形成抗拉强度较好的复合基带，为柔性超薄基带提供移动载体，防止柔性超薄基带变形，可广泛应用于连续柔性薄膜显示器、薄膜太阳能电池、柔性调光窗膜、柔性电磁屏蔽膜等的生产制造中。
基带磁控溅射镀膜高低真空卷对卷牵引薄膜太阳能电池柔性电磁屏蔽膜薄膜显示器复合基带隔离装置连续柔性移动载体真空镀膜压力差窗膜调光镀膜贴合沉积变形应用制造生产

[发明专利]磁控溅射阴极表面气体密度分布控制装置及方法-CN201610161476.2有效
发明人：王鲁南;朴賸一;王建华;全武贤;李锺允;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2016-03-22 - 公布日： 2019-06-25 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本技术提供一种能够使得阴极表面气体密度分布均匀，进而保证镀膜厚度在阴极靶的长度方向上基本相同的磁控溅射阴极表面气体密度分布控制装置。它包括位于屏蔽罩内的阴极靶，在正对阴极靶的屏蔽罩面板上开有中间宽度一致，两端宽度逐渐变小的腰形溅射孔，腰形溅射孔的长度方向与阴极靶的长度方向一致。
磁控溅射阴极表面气体密度分布控制装置方法

[发明专利]柔性宽幅连续磁控溅射镀膜气体混合装置-CN201910165227.4在审
发明人：王鲁南;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2019-03-05 - 公布日： 2019-06-18 - 主分类号： B01F3/02 文献下载
摘要：本发明是柔性宽幅连续磁控溅射镀膜气体混合装置，包括若干级气体混合子单元顺次连接组成的气体混合单元，气体混合子单元包括导流混合舱和混合舱，混合舱为空心管状且侧壁两端边缘分别设置有环形进气带和环形出气带，混合仓的环形进气带与导流混合舱出气端连通，混合仓的环形出气带与下一级气体混合子单元内的导流混合舱的进气端连通，气体混合单元前置第一混合舱，第一混合舱的环形出气带与第一级气体混合子单元内导流混合舱的进气端连通，第一混合舱的进气端与反应气体混合室连通，第一混合舱的环形进气带与工作气体储气舱连通。该装置体积小、结构简单、经济，多种气体混合密度分布均匀，对柔性宽幅连续磁控溅射镀膜横向均匀性控制作用明显。
混合舱气体混合连通子单元导流磁控溅射镀膜出气进气端进气宽幅气体混合单元气体混合装置混合仓横向均匀性反应气体工作气体空心管状控制作用密度分布顺次连接出气端第一级混合室体积小侧壁储气前置

[发明专利]节能型柔性透明导电薄膜及其制备方法-CN201510086267.1有效
发明人：王鲁南;王建华;窦立峰;朴賸一;全武贤;朱丽萍;叶志镇 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2015-02-18 - 公布日： 2017-12-19 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种节能型柔性透明导电薄膜的制备方法，成膜后无须高温退火，减少能耗；膜晶化程度达到80％，适合于大规模、产业化生产。该方法使用在一个真空镀膜腔内的多个磁控溅射装置，各磁控溅射装置包括以惰性气体作为工作气体、以氧气为反应气体的溅射腔、位于溅射腔内的靶材，连续移动的柔性透明基材依次通过各靶机的溅射腔，柔性透明基材温度<80℃，通过控制通入各溅射腔的氧气和惰性气体的流量，使得靶材或靶材氧化物一次性沉积在柔性透明基材上。本发明还提供一种透光率高，电阻率低，色度值低的节能型柔性透明导电薄膜，它包括柔性透明基材及依次沉积在柔性透明基材上的SiO2层、Nb2O5层、Nb2Ox层(x＝4.5‑4.98)、SiO2层、银层或铜层、半导体氧化物层。
节能型柔性透明导电薄膜及其制备方法

[发明专利]柔性消影透明导电薄膜及触摸屏-CN201310746250.5有效
发明人：王鲁南;王建华;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2013-12-30 - 公布日： 2017-08-25 - 主分类号： H01B5/14 文献下载
摘要：本发明提供一种能够提高全光线透光率，同时对电路蚀刻图案有着很好的消影作用的柔性消影透明导电薄膜，它包括依次层叠的柔性透明薄膜基材、ZrO2薄膜层、ITO透明导电薄膜层。本发明同时还提供了一种全光线透光率更高，色差b*更小，能够提高屏幕显示两度与清晰度，具有节能效果的触摸屏，它包括依次层叠的保护层、第一导电薄膜、第二导电薄膜，相连两层之间通过光学胶粘接，第一导电薄膜和第二导电薄膜为上述的柔性消影透明导电薄膜。
柔性透明导电薄膜触摸屏

[发明专利]制备导电薄膜使用的磁控溅射装置中的沉积腔体隔板及其制备方法-CN201510389433.5有效
发明人：王鲁南;王建华;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2015-07-06 - 公布日： 2017-07-14 - 主分类号： H01B13/00 文献下载
摘要：本发明提供一种硬度高，不易变形，无需清洁，耐用性好，使用成本低，节约能耗的制备导电薄膜使用的磁控溅射装置中的沉积腔体隔板，它包括不锈钢基板及附着在不锈钢基板内表面的厚度约0.2‑0.5mm的铝膜，不锈钢基板内表面和铝膜表面粗糙、凹凸不平。本发明还提供了上述沉积腔体隔板的制备方法，将不锈钢板内侧表面采用喷砂处理，砂粒为金刚砂，使得不锈钢板内表面形成凹凸不平，然后清洗，以清除表面异物、杂质及粉尘；然后烘干；使用融射喷铝装置，对经喷砂处理的不锈钢基板内侧表面熔射喷镀一层铝膜；对覆膜后的不锈钢基板升温至210‑230℃，然后自然降温，消除应力。以该方法制备的沉积腔体隔板，基板与铝膜结合牢固，不易剥离，提高沉积物在其表面的亲和力。
制备导电薄膜使用磁控溅射装置中的沉积隔板及其方法

[实用新型]防干扰柔性磁控溅射装置-CN201620546641.1有效
发明人：王鲁南;李锺允;朴勝一;全武贤;朴翰镇;王建华;窦立峰 -专利权人：南京汇金锦元光电材料有限公司
申请日： 2016-06-07 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本技术解决了因各溅射腔内输入的气流流量不同而导致相邻溅射腔相互干扰，影响各溅射腔的沉积效果的问题，提供了一种相邻溅射腔互不干扰的防干扰柔性磁控溅射装置。它是在一个真空腔体内设置有多个磁控溅射阴极，每个磁控溅射阴极具有一个阴极屏蔽罩所形成的溅射腔体，阴极靶材位于各溅射腔内，各溅射腔体均与输入工作气体、反应气体的输入装置相通，各溅射腔均通过一个可以调节开度的阀门与真空泵相连。
干扰柔性磁控溅射装置

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