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[发明专利]用于固定半导体片的组装体系及半导体片的制造方法-CN02820050.0无效
发明人： S·F·万奈特;R·普拉斯 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2002-10-02 - 公布日： 2005-01-19 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种适于加工半导体片的用于固定半导体片的组装体系，该体系包含(a)支持块；(b)半导体片；和(c)置于所述陶瓷块和所述半导体片之间的水性粘合剂组合物，该粘合剂组合物包含水；至少一种隔离剂和至少一种树脂，其中，所述粘合剂组合物对支持块的粘合比对半导体片强。也公开了一种制造半导体片的方法，其包括如下步骤：(a)提供支持块；(b)提供半导体片；(c)用前述水性粘合剂组合物涂覆所述支持块或所述半导体片的一面；(d)将所述半导体片的一面与所述经涂覆过的支持块接触，或将该半导体片的所述经涂覆过的面与所述支持块接触；(e)抛光所述半导体片的另一面；和(f)从经涂覆过的陶瓷支持块上取下半导体片。
用于固定半导体组装体系制造方法

[发明专利]负作用水性光刻胶组合物-CN02818896.9有效
发明人：卢炳宏;M·O·尼斯尔;R·R·达米尔;吴恒鹏 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2002-09-07 - 公布日： 2004-12-29 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明涉及一种包含聚乙烯醇缩醛聚合物，水溶性光活性化合物，和交联剂的新型负性的水性光刻胶组合物。所述水溶性光活性化合物优选锍盐。本发明还涉及由该新型光刻胶组合物形成反像的方法。
作用水性光刻组合

[发明专利]适于光刻胶组合物的聚合物-CN02809711.4无效
发明人： R·R·达默尔;R·萨卡穆里 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2002-04-25 - 公布日： 2004-10-13 - 主分类号： C08F222/30 文献下载
摘要：本发明涉及新颖的聚合物，该聚合物包括至少一个衍生自烯属不饱和化合物的单元和至少一个非芳族环状单元，该化合物包含至少一个氰基官能度。当用于在深紫外区域中敏感的光刻胶组合物时，新颖聚合物是特别有用的。
适于光刻组合聚合物

[发明专利]铝或铝合金导电材料层的机械化学抛光方法-CN00102240.7有效
发明人： E·杰克奎恩特;P·莱托尼奥;M·里瓦尔 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2000-02-18 - 公布日： 2004-09-15 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明涉及在微电子半导体工业中使用的铝或铝合金导电材料层的机械化学抛光方法，其中使用一种磨料组合物研磨所述铝或铝合金层，该磨料组合物包括相互之间不以硅烷键连接的分立的胶体二氧化硅粒子的碱性水悬浮体、氢氧化四烷基铵和氧化剂。
铝合金导电材料机械化学抛光方法

[发明专利]半导体装置的生产方法-CN01116342.9无效
发明人： M·D·拉曼;D·P·奥宾 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 1995-12-21 - 公布日： 2004-09-15 - 主分类号： C08G8/08 文献下载
摘要：水不溶性、含水碱溶性可溶可熔酚醛树脂，该树脂的制备方法，合有该树脂的光刻胶以及制备半导体装置的方法，其中该树脂通过液面下强制水蒸汽蒸馏法得到分离。
半导体装置生产方法

[发明专利]用于深紫外光刻术的光刻胶组合物-CN02809702.5无效
发明人： R·R·达默尔;R·萨卡穆里 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2002-04-25 - 公布日： 2004-08-25 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明涉及在深紫外区域敏感的新颖光刻胶组合物和加工光刻胶组合物的方法，其中光刻胶包括新颖的共聚物，光活性组分和溶剂。新颖的聚合物包括衍生自烯属不饱和化合物的单元和衍生自不饱和环状非芳族化合物的单元，该烯属不饱和化合物包含至少一个氰基官能度。
用于深紫光刻组合

[发明专利]生产含有碳酸酯的酸敏液体组合物的方法-CN02808086.6无效
发明人： J·E·奥博兰德 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2002-03-19 - 公布日： 2004-06-02 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明公开了生产酸敏液体组合物的方法。该方法包括以下步骤：让含有用式ROC(＝O)OR¹表示的碳酸酯(其中R和R¹独立是1到大约10个碳原子的烃基)的酸敏液体组合物通过以下两种滤片的至少一种：(a)包括其中固定有颗粒助滤剂和具有大约2到大约10微米(μm)的平均粒度的颗粒离子交换树脂的自承纤维基质的滤片，其中该颗粒助滤剂和离子交换树脂颗粒基本上均匀分布在所述基质的整个截面部分；和/或(b)包括其中固定有颗粒助滤剂和粘结剂树脂的自承纤维基质，且具有大约0.05到0.5μm的平均孔径的滤片。本发明还公开了处理置于表面上的光致抗蚀剂组合物的薄膜的方法，所述方法包括让所述光致抗蚀剂组合物与通过上述方法制备的酸敏液体组合物接触，其量足以使在所述整个薄膜表面上具有基本均匀薄膜厚度的光致抗蚀剂组合物。
生产含有碳酸液体组合方法

[发明专利]用于集成电路电子工业的新型磨料组合物-CN99123477.4有效
发明人： E·扎奎诺特;P·莱托尔尼奥;M·瑞沃里 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 1999-11-09 - 公布日： 2004-02-04 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：用于集成电路电子工业的磨料组合物，包含一种相互间不以硅氧烷键连接的、各自独立的胶态二氧化硅粒子的含水酸性悬浮体以及一种磨料表面活性剂。该磨料用于集成电路工业中的机械化学抛光，本发明还包括一个浸渍有这种组合物的载体，以及一种进行机械化学抛光的方法。
用于集成电路电子工业新型磨料组合

[发明专利]使用静态混合器和液－液离心机的树脂分级-CN01817241.5无效
发明人： S·F·瓦纳特;M·D·拉赫曼;向中 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2001-10-02 - 公布日： 2004-01-21 - 主分类号： C08G8/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种制备成膜树脂的低分子量低聚物的方法，所述方法包括：a)提供成膜树脂在第一溶剂体系中的溶液，所述第一溶剂体系包括光致抗蚀剂溶剂和非必需的水溶性有机极性溶剂；b)提供第二溶剂体系，其包含至少一种基本上纯的C₅－C₈烷烃和/或至少一种具有至少一个烃基取代基的芳族化合物和/或水/C₁－C₄醇混合物；和以如下次序进行步骤c)－e)：c)在静态混合器中将a)的溶液与b)的第二溶剂体系混合足以进行有效混合的时间；d)在从约0℃至高达小于第一或第二溶剂体系中沸点最低溶剂的沸点的最高温度下，将c)的混合物和b)的第二溶剂体系经两个独立的进口加入到液/液离心机中，一个所述的进口加入所述来自c)的混合物，第二个进口加入来自b)的第二溶剂体系，c)的混合物与b)的第二溶剂体系的进料比值为约10/90至约90/10；e)在液/液离心机内对d)的混合物进行旋转，旋转速度足以使d)的混合物分离成两个分离的相，然后收集该两个分离的相，经两个独立的出口进入到两个独立的容器中，其中较重的相(H)包含分级过的成膜树脂，其包含成膜树脂的较高分子量级分，较轻的相(L)包含成膜树脂的低分子量低聚物。本发明还提供了制备光致抗蚀剂组合物的方法，和使用前述分级过的树脂或成膜树脂的低分子量低聚物来制备微电子器件的方法。
使用静态混合器离心机树脂分级

[发明专利]用于深紫外线的光刻胶组合物及其方法-CN01812974.9无效
发明人： M·D·拉曼;M·帕德马纳本;R·R·戴米尔 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2001-07-11 - 公布日： 2003-09-17 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明涉及一种化学放大体系，它对300nm和100nm之间的波长敏感，并包含a)一种不溶于碱性水溶液且包含至少一个酸不稳定基团的聚合物，b)一种能够在辐射时生产酸的化合物。本发明包含一种由脂环族烃烯烃，具有侧环状部分的丙烯酸酯，和环状酸酐制成的聚合物。本发明还涉及一种用于成像这种光刻胶的方法。
用于深紫外线光刻组合及其方法

[发明专利]负作用化学放大的光刻胶组合物-CN01811264.1有效
发明人：徐平永;盧炳宏;R·R·达梅尔 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2001-05-22 - 公布日： 2003-08-13 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：一种化学放大的、副作用的、辐射敏感性光刻胶组合物，该组合物可在碱性介质中显影，该光刻胶包括：a)含有环键合羟基的酚类成膜聚合物粘合剂树脂；b)在曝露于辐射时形成酸的光酸产生剂，数量足以引发成膜粘合剂树脂的交联；c)在曝露于来自步骤b)通过曝露于辐射而产生的酸时形成正碳离子的交联剂，和该交联剂包括醚化氨基塑料聚合物或低聚物；d)在曝露于来自步骤b)通过曝露于辐射而产生的酸时形成正碳离子的第二交联剂，和该第二交联剂包括：1)羟基取代或2)羟基C1－C4烷基取代的C1－C12烷基酚，其中来自步骤c)和d)的交联剂总量是有效交联量；和e)光刻胶溶剂，和采用这样光刻胶组合物生产微电子器件的方法。
作用化学放大光刻组合

[发明专利]用于深紫外线辐射的光刻胶组合物-CN00816779.6有效
发明人： M·帕德马纳本;R·R·戴米尔 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2000-11-18 - 公布日： 2003-04-02 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及在深紫外线区域敏感的新型光刻胶组合物，其中光刻胶对在光刻胶的处理环境中的碱污染物不敏感。
用于深紫外线辐射光刻组合

[发明专利]制备具有色旋效果的成型制品的方法-CN01804224.4无效
发明人： W·G·布拉休斯;R·D·卡莱斯;D·G·嘉伯瑞;D·Y·乔伊 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2001-01-29 - 公布日： 2003-02-12 - 主分类号： B29C67/24 文献下载
摘要：一种在表面上具有色旋效果的成型制品的制备方法，该方法包括a)提供携载在结晶有机聚合物和无定形有机聚合物混合物中的含第一种着色剂的第一种浓色母料，和任选地提供携载在无定形有机聚合物中的含第二种着色剂的第二种浓色母料，其中无定形聚合物与第一种着色剂中用作载体的聚合物相容；b)提供与步骤a)的浓色母料相容的一种可流动的有机聚合物；c)将步骤a)的浓色母料和步骤b)的可流动有机聚合物转移到能制备成型制品的挤塑机或模塑机中；d)提供充足的热量，保持步骤c)中混合物的温度高于步骤a)和b)中聚合物的玻璃化转变温度，也高于步骤a)中的无定形聚合物熔融或流动的温度，但是低于步骤a)中结晶聚合物的熔融或流动温度；e)通过提供充足的压力和必要的混合，制备成型制品，从而使浓色母料进行分布，以便在成型制品的表面上赋予色旋效果来形成成型制品。
制备有色效果成型制品方法

[发明专利]聚合偶氮染料的合成方法-CN00813862.1有效
发明人：单会;丁术季;E·B·冈萨雷斯;D·N·坎纳 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2000-09-22 - 公布日： 2002-10-30 - 主分类号： C09B69/10 文献下载
摘要：本发明披露了一种重氮盐与有机聚合物的偶合方法,顺序包括如下步骤提供于一液相中的聚合物;提供于独立液相中的重氮盐;使两独立的相接触,由此使所述聚合物和所述重氮盐进行反应。
聚合偶氮染料合成方法

[发明专利]用于光致抗蚀剂组合物的抗反射涂料-CN00811167.7有效
发明人： S·丁;D·N·坎纳;M·A·斯帕克;D·L·杜哈姆;单会;E·宫扎尔兹 -专利权人： 科莱恩金融(BVI)有限公司
申请日： 2000-07-27 - 公布日： 2002-09-04 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明涉及一种新型抗反射涂料组合物及其在光刻中应用的方法。该抗反射涂料溶液包含一种新型聚合物和一种有机溶剂或溶剂的混合物,其中所述新型聚合物包含含有可吸收约180nm到约450nm的染料的单元且不含交联基团。
用于光致抗蚀剂组合反射涂料