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[发明专利]使用内嵌缺陷部分平均测试进行半导体自适应测试的系统及方法-CN202280018925.1在审
发明人： R·J·拉瑟;D·W·普利斯;C·伦诺克斯;O·唐泽拉;J·鲁滨逊;K·榭曼 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2022-04-29 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G01R31/28 文献下载
摘要：使用内嵌缺陷部分平均测试进行半导体自适应测试的系统及方法经配置以：接收来自内嵌缺陷部分平均测试(I‑PAT)系统的多个I‑PAT分数，其中所述多个I‑PAT分数是通过所述I‑PAT系统基于多个半导体裸片的半导体裸片数据而产生，其中所述半导体裸片数据包含所述多个半导体裸片的特性化测量，其中所述多个I‑PAT分数中的每一I‑PAT分数表示通过所述I‑PAT系统基于所述多个半导体裸片中的对应半导体裸片的特性化测量而确定的加权缺陷率；在动态决策过程期间，将一或多个规则应用到所述多个I‑PAT分数；及基于所述动态决策过程来产生所述多个半导体裸片中的至少一个半导体裸片的一或多个自适应测试。
使用缺陷部分平均测试进行半导体自适应系统方法

[发明专利]增强重叠计量的性能-CN202180095179.1在审
发明人： A·玛纳森;A·V·希尔;Y·瓦克宁;Y·西蒙;D·内格里;V·莱温斯基;Y·帕斯卡维尔;A·戈洛塔斯万;N·罗斯曼;N·K·雷迪;N·本大卫;A·阿布拉莫夫;D·雅科夫;Y·于齐耶尔;N·古特曼 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：一种用于计量的方法包含引导至少一个照明射束照明半导体晶片，在所述半导体晶片上已相继沉积了至少第一经图案化层及第二经图案化层，包含所述第一经图案化层中的第一目标特征及所述第二经图案化层中的重叠在所述第一目标特征上的第二目标特征。在使一或多个成像参数变化的同时捕获所述第一目标特征及所述第二目标特征的一序列的图像，此变化是在整个所述序列期间发生。处理所述序列中的所述图像，以便识别所述图像中所述第一目标特征及所述第二目标特征的相应对称中心且测量所述对称中心随变化的图像参数的变化。在测量所述第一经图案化层与所述第二经图案化层之间的重叠误差时应用经测量变化。
增强重叠计量性能

[发明专利]传感器、成像系统及用于形成传感器的方法-CN202280019706.5在审
发明人： S·察梅克;D·L·布朗;H·陈;V·伊艾 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2022-06-14 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：提供传感器、成像系统及用于形成具有指定深度分布的传感器的方法。一种传感器包含衬底及附接到所述衬底的一或多个组件。所述传感器还包含传感器裸片，其具有薄化背面及经配置用于检测照射所述传感器裸片的所述薄化背面的能量的能敏元件。所述传感器进一步包含离散导热结构，其通过倒装芯片过程形成于所述传感器裸片的正面与所述衬底之间，借此将所述传感器裸片接合到所述衬底且引起所述传感器裸片的所述薄化背面具有预选形状。所述离散导热结构的至少一部分将所述传感器裸片电连接到所述一或多个组件。
传感器成像系统用于形成方法

[发明专利]用于裸片到裸片检验的适应性关注区域-CN201880065545.7有效
发明人： H·法加里亚;J·劳贝尔;永·张 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2018-10-17 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明描述用于使用适应性关注区域ACA来执行裸片图像的缺陷检验的方法、系统及制品。使用ACA解决以下问题：处置需要旋转关注区域的组件的旋转；处置其中每一关注区域自身需要旋转、平移或仿射变换的情形；及使由缺陷或工艺变动引起的强度差与由大小变动引起的强度差解耦的情形。
用于裸片到裸片检验适应性关注区域

[发明专利]光学计量的准确度提升-CN202310920074.6在审
发明人： B·布林戈尔茨;E·古列维奇;I·阿达姆;Y·弗莱;D·阿鲁穆特;Y·拉姆霍特;N·夕拉;Y·德莱乌;T·耶其夫;E·亚希渥;L·撒尔通;T·里维安特 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2017-02-23 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本公开涉及光学计量的准确度提升。本发明提供提升计量测量的准确度的方法、计量模块及目标设计。方法提供对多个测量处方及设置的灵活处置且使得能够使所述多个测量处方及设置与指示其与谐振区域及平坦区域的关系的图谱特征相关。单独地或以组合方式采用对处方的群集化、自身一致性测试、对经汇总测量的共同处理、噪声降低、群集分析、对具有偏斜单元的图谱及目标的详细分析，以提供测量准确度的累积提升。
光学计量准确度提升

[发明专利]多场扫描覆盖计量-CN202280018259.1在审
发明人： A·V·希尔;A·玛纳森 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2022-02-18 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：一种计量工具可包含照明子系统以用两个或更多个照明光束照射两个或更多个获取场内的样本，其中所述两个或更多个获取场以非重叠配置沿扫描方向分布，且其中平移台沿所述扫描方向平移所述样本上的计量目标循序通过所述两个或更多个获取场。所述计量工具可进一步包含成像子系统以在沿所述扫描方向扫描所述样本时使所述两个或更多个获取场成像。所述成像子系统可包含场重定位光学中继器以将所述两个或更多个获取场的图像中继到扫描检测器，所述扫描检测器包含沿列方向分布的一或多个像素列，其中所述场重定位光学中继器沿所述列方向将所述两个或更多个获取场的所述图像定位于所述扫描检测器上。
扫描覆盖计量

[发明专利]用于多光束阵列配置的成形光圈组-CN202280018927.0在审
发明人： T·普勒特纳;E·埃斯科尔西亚;S·施瑞恩;J·H·李 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2022-03-04 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：提供一种用于多光束阵列系统的光圈阵列及一种选择来自多光束阵列系统的光束的子集的方法。所述光圈阵列包括布置成接近光束源的阵列本体。所述阵列本体包括多个光圈，所述光圈中的至少两者具有不同几何形体。所述阵列本体可经由致动器相对于所述光束源的光轴移动，使得基于与所述光轴相交的所述光圈的所述几何形体来选择来自所述光束源的光束的子集。
用于光束阵列配置成形光圈

[发明专利]减轻温度探针构造设备及方法中的热膨胀失配-CN202280017624.7在审
发明人： F·A·库利;R·马赫佐恩;刘冉 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2022-04-26 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：公开一种工艺条件感测设备。所述设备包含衬底及包含一或多个电子组件的电子壳体。所述设备包含经配置以将所述电子壳体机械耦合到所述衬底的浮动连接组合件，所述浮动连接组合件包含腿部及脚部。所述腿部或脚部经布置以减轻一或多个界面之间的热应力。所述一或多个界面包含腿部‑壳体界面或脚部‑衬底界面。
减轻温度探针构造设备方法中的热膨胀失配

[发明专利]具有图像上取样的光学晶片特征化的系统及方法-CN202280017885.9在审
发明人： A·塞兹希内尔;赵伟;R·威灵福德;G·H·陈;刘旭钊;G·丛;L·余;K·维尔克;张博升;A·帕特尔;P·麦克布赖德 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2022-05-11 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：一种系统包含通信地耦合到光学晶片特征化系统的检测器阵列的处理单元。所述处理单元经配置以执行包含以下步骤的方法或过程的一或多个步骤：从所述检测器阵列获取晶片上的目标位置的一或多个目标图像；将去噪滤波器应用到至少所述一或多个目标图像；从一或多个参考图像及所述一或多个目标图像确定一或多个差异图像；及上取样所述一或多个差异图像以产生一或多个经上取样图像。可在所述一或多个差异图像或所述经上取样图像中检测一或多个晶片缺陷。
具有图像取样光学晶片特征系统方法

[发明专利]利用短波红外线波长的光学计量-CN202280018258.7在审
发明人： A·玛纳森;I·萨利布;R·约哈南;D·沙皮罗乌;E·哈贾;V·莱温斯基;A·阿布拉莫夫;M·申迪思;A·希尔德斯海姆;Y·格劳尔;S·艾森巴赫;E·拉维特;I·尼尔 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2022-02-25 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G01N21/35 文献下载
摘要：一种光学计量工具可包含：一或多个照射源，其用以产生既具有短波红外线(SWIR)光谱范围内又具有所述SWIR光谱范围外的波长的照射；照射光学器件，其经配置以将所述照射引导到样本；第一成像通道，其包含经配置以基于包含所述SWIR光谱范围中的至少一些波长的第一波长范围将所述样本成像的第一检测器；第二成像通道，其包含经配置以基于包含所述SWIR光谱范围外的至少一些波长的第二波长范围将所述样本成像的第二检测器；及控制器。所述控制器可从所述第一检测器接收所述样本的第一图像，从所述第二检测器接收所述样本的第二图像，并基于所述第一图像及所述第二图像来产生所述样本的光学计量测量。
利用短波红外线波长光学计量

[发明专利]用于基于半导体的应用的深度学习图像去除噪声-CN202280018816.X在审
发明人： A·古拉堤;R·科努鲁;N·拉克希米纳拉辛汉;S·帕拉马西万;M·普利哈尔;P·俄珀鲁里 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2022-05-31 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G06T5/00 文献下载
摘要：提供用于确定样品的信息的方法及系统。一种系统包含计算机子系统及由所述计算机子系统执行的一或多个组件。所述一或多个组件包含经配置用于对由成像子系统产生的样品的图像去除噪声的深度学习模型。所述计算机子系统经配置用于从所述去除噪声的图像确定所述样品的信息。
用于基于半导体应用深度学习图像去除噪声

[发明专利]用于半导体缺陷引导预烧及系统级测试的系统及方法-CN202280018257.2在审
发明人： R·J·拉瑟;D·W·普利斯;C·V·伦诺克斯;O·唐泽拉;J·鲁滨逊 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2022-06-01 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G01R31/28 文献下载
摘要：用于半导体缺陷引导预烧及系统级测试(SLT)的系统及方法经配置以：从线内缺陷部分平均测试(I‑PAT)子系统接收多个线内缺陷部分平均测试(I‑PAT)分数，其中所述多个I‑PAT分数由所述I‑PAT子系统基于多个半导体裸片的半导体裸片数据产生，其中所述半导体裸片数据包含所述多个半导体裸片的特性化测量，其中所述多个I‑PAT分数中的每一I‑PAT分数表示由所述I‑PAT子系统基于所述多个半导体裸片中的对应半导体裸片的特性化测量所确定的缺陷率；在动态决策过程期间将一或多个规则应用于所述多个I‑PAT分数；及基于所述动态决策过程为所述多个半导体裸片中的至少一个半导体裸片产生一或多个缺陷引导安置。
用于半导体缺陷引导系统测试方法

[发明专利]使用差异图像的晶片检验-CN201880029967.9有效
发明人：李晓春;P·库马尔;A·塞兹希内尔;J·黄;高理升;G·H·陈;熊亚霖;方浩任 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2018-05-23 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：系统及方法增加晶片的光学检验的信噪比以获得更高检验灵敏度。计算参考图像可最小化测试图像及所述计算参考图像的差异的范数。确定所述测试图像与计算参考图像之间的差异图像。所述计算参考图像包含第二组图像的线性组合。
使用差异图像晶片检验

[发明专利]用于半导体可靠性故障的Z-PAT缺陷导引统计异常值检测的系统及方法-CN202280018204.0在审
发明人： D·W·普利斯;R·J·拉瑟;C·V·伦诺克斯;O·唐泽拉;J·C·鲁滨逊 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2022-06-02 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G01R31/28 文献下载
摘要：一种用于半导体可靠性故障的Z‑PAT缺陷导引统计异常值检测的系统及方法包含：接收由统计异常值检测子系统产生的一批中的多个晶片的电气测试储仓数据及半导体裸片数据，所述统计异常值检测子系统经配置以在所述一批中的所述多个晶片的制造之后对由电气测试子系统产生的测试数据执行Z方向零件平均测试(Z‑PAT)；接收在所述一批中的所述多个晶片的所述制造期间由半导体制造厂表征子系统产生的所述一批中的所述多个晶片的表征数据；确定所述一批中的所述多个晶片中的每一者上的相同x、y位置处的所述电气测试储仓数据与所述表征数据之间的统计相关；及基于所述统计相关而将缺陷数据签名定位在所述一批中的所述多个晶片上。
用于半导体可靠性故障 pat 缺陷导引统计异常检测系统方法

[发明专利]用于叠加计量的倾斜照明-CN202280017626.6在审
发明人： A·V·希尔;Y·弗莱;A·玛纳森;M·吉诺乌克;Y·瓦克宁 -专利权人： 科磊股份有限公司
申请日： 2022-04-18 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：一种叠加计量系统可包含适合于测量样本上的叠加目标的叠加计量工具，所述叠加目标包含具有沿着一或多个测量方向分布的图案化特征的一或多个光栅结构。所述叠加计量工具可包含物镜及照明通路以用分布在一或多个照明分布当中的两个或更多个倾斜照明波瓣来照明所述叠加目标，使得对于所述测量方向中的每一者，所述叠加目标对由所述物镜收集的所述一或多个照明分布的衍射级排他地包含来自所述两个或更多个照明波瓣中的至少一者的0级衍射波瓣及单个一级衍射波瓣。所述叠加计量工具可进一步包含用以将所述样本成像的至少一个检测器以及用以基于所述图像来产生叠加测量的控制器。
用于叠加计量倾斜照明

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