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[发明专利]一种硅片减薄净化工件及采用该工件的减薄净化工艺-CN202110012997.2在审
发明人：刘姣龙;刘建伟;刘园;武卫;由佰玲;裴坤羽;孙晨光;王彦君;祝斌;常雪岩;杨春雪;谢艳;袁祥龙;张宏杰;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2021-01-06 - 公布日： 2021-05-14 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本发明提供一种硅片减薄净化工件，用于净化放置台面靠近被磨硅片的一侧面，包括基片及置于所述基片一侧的吸附层；所述基片侧面与所述吸附层连接设置，且其结构与所述吸附层相适配；所述吸附层远离所述基片一侧为平面，且其面积不小于被磨所述硅片的面积，并所述吸附层远离所述基片一侧具有粘性。本发明还提出一种采用该工件的减薄净化工艺。本发明减薄净化工件，结构简单且易于操作，可快速与放置被磨硅片的台面配合，经过空置旋转一段时间后，即可完全将台面上的磨削颗粒吸附走，同时还可吸附台面上其它硅粉颗粒，完全净化台面与被磨硅片接触的表面，保证台面洁净度，提高晶片研磨质量，提高研磨效率。
一种硅片净化工件采用工艺

[实用新型]一种磨后清洗机中抽测硅片外观的装置-CN202022275977.8有效
发明人：裴坤羽;武卫;刘建伟;由佰玲;刘园;孙晨光;王彦君;祝斌;刘姣龙;常雪岩;杨春雪;谢艳;袁祥龙;张宏杰;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2020-10-14 - 公布日： 2021-05-14 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型提供一种磨后清洗机中抽测硅片外观的装置，包括底板，用于支撑整个装置；支撑件，支撑硅片的所述支撑件设置在所述底板上；限位件，限位所述硅片的所述限位件设置在所述支撑件顶部；动力件，用于提供装置运动动力的所述动力件设置在所述底板的底部。本实用新型的有益效果是有效的解决清洗干燥后无法进行人工目检，不能检测硅片表面清洗后的状态，需要时间长，不便于操作的问题。
一种清洗抽测硅片外观装置

[实用新型]一种晶圆片寿命测试设备-CN202022530874.1有效
发明人：由佰玲;周迎朝;原宇乐;董楠;邓春星;苗向春;武卫;刘建伟;刘园;孙晨光;王彦君;祝斌;刘姣龙;裴坤羽;常雪岩;杨春雪;谢艳;袁祥龙;张宏杰;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2020-11-05 - 公布日： 2021-05-14 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本实用新型提供一种晶圆片寿命测试设备，包括：用于放置晶圆片的放置装置；用于对所述晶圆片双侧表面进行氧化的氧化装置；依次对氧化后的所述晶圆片双侧表面进行钝化和对其中一个被钝化的所述晶圆片表面进行载流子寿命测试的检测装置；以及用于操作所述晶圆片位置移动的操作装置；其中，所述操作装置被设置于所述放置装置和所述氧化装置之间，且与所述检测装置同侧设置。本实用新型可批量地对同一型号的硅片进行载流子寿命检测，测试结果精准，每组测试时间短，且自动化控制精准、整体联动性好，结构设计紧凑且合理，占用空间小，测试效率高。
一种晶圆片寿命测试设备

[实用新型]一种硅片寿命测试时的氧化和检测装置-CN202022531985.4有效
发明人：周迎朝;由佰玲;邓春星;董楠;苗向春;原宇乐;武卫;刘建伟;刘园;孙晨光;王彦君;祝斌;刘姣龙;裴坤羽;常雪岩;杨春雪;谢艳;袁祥龙;张宏杰;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2020-11-05 - 公布日： 2021-05-14 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本实用新型提供一种硅片寿命测试时的氧化和检测装置，至少包括：用于对硅片单侧表面进行氧化的氧化单元；和依次对氧化后的硅片表面进行钝化和载流子寿命测试的检测单元；其中，氧化单元与检测单元相互独立设置；氧化单元至少包括用于放置硅片的放置部和使硅片单侧表面氧化的氧化部；硅片被置于放置部内且其单侧表面被裸漏设置；氧化部被设置于放置部上方；检测单元至少包括用于对被氧化的硅片表面进行电荷沉积的钝化部和用于对钝化后的硅片表面进行载流子寿命测试的检测部，钝化部和检测部同侧设置。本实用新型的氧化和检测装置，整体结构设计合理，占用空间小，测试效率高，设备稼动率高，节约流程，亦可降低成本。
一种硅片寿命测试氧化检测装置

[实用新型]一种外置充电式投影机-CN202022478247.8有效
发明人：徐忠庆;祝斌;危春丽 -专利权人：维亮（深圳）科技有限公司
申请日： 2020-10-30 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： G03B21/54 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种外置充电式投影机，具体涉及投影机技术领域，包括机壳本体，机壳本体的一侧固定安装有投影头，机壳本体的底部活动安装有吸尘设备，其特征在于，机壳本体的底部固定安装有齿轮条，吸尘设备的底部固定安装有滚轴，滚轴的外壁活动套接有滑动齿轮，机壳本体的内部设有液压杆。上述方案中，所述吸尘设备、齿轮条与滑动齿轮之间的相互配合，利用微型气泵将投影头周围的灰尘颗粒吸进集尘箱中，避免灰尘遮挡投影视线，影响观感体验，通过移动吸尘设备，避免吸尘设备对投影区域有所遮挡，从而根据投影机光线的发射角度范围，调节吸尘设备的位置；且通过所述液压杆、清理杆和第一防尘网之间的相互配合，实现对第一防尘网的清理效果。
一种外置充电式投影机

[实用新型]一种投影机用快速调焦结构-CN202022620090.8有效
发明人：徐忠庆;祝斌;危春丽 -专利权人：维亮（深圳）科技有限公司
申请日： 2020-11-12 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： G03B21/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种投影机用快速调焦结构，具体涉及投影机领域，包括置物底座，置物底座的顶面固定安装有投影机，投影机的侧端滑动连接有固定板，固定板位于置物底座的顶面，投影机的侧端固定连接有滑动机构，滑动机构的侧端与投影机的侧端固定连接，投影机的顶面固定安装有调焦机构。上述方案，上述方案中，通过调焦机构与弹簧滑动块的相互配合，使得通过调焦环调控焦距之后可以通过弹簧限位块与弹簧滑动块之间卡接进行固定，实现了对调焦环的卡接固定，提高了调焦环的稳定性；且通过滑动机构与固定板的相互配合，使得投影机在固定于地面的顶端可以通过滑动机构的滑动进行调控，实现了对于投影机位置的微调，提高了投影机的显示效果。
一种投影机快速调焦结构

[发明专利]一种降低晶圆片损伤层厚度偏差值的腐蚀工艺-CN202110015782.6在审
发明人：刘姣龙;刘建伟;刘园;武卫;由佰玲;裴坤羽;孙晨光;王彦君;祝斌;常雪岩;杨春雪;谢艳;袁祥龙;张宏杰;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2021-01-07 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明提供一种降低晶圆片损伤层厚度偏差值的腐蚀工艺，步骤包括：执行将若干晶圆片同步进入药液内并稳定放置，且所有所述晶圆片的V型槽均朝同一方向设置；控制所述晶圆片在所述药液内以设定转速同步旋转(N+0.5)圈，N为大于1的整数；再提取所述晶圆片离开药液；其中，所述晶圆片从进入所述药液至稳定放置所用时间与所述晶圆片从静置完成后到完全被提取离开所述药液所用时间相同。本发明可使晶圆片进而保证先进入槽体中药液的部位先离开药液，最大限度地缩小晶圆片双面腐蚀厚度的差值，提高晶圆片腐蚀厚度的均匀性和一致性，从而为后续抛光加工获得合格的几何参数奠定基础，提高生产效率。
一种降低晶圆片损伤厚度偏差腐蚀工艺

[实用新型]LCR探针模组-CN202022110791.7有效
发明人：朱彦强;祝斌;张晓荣;卞程辉;谷新 -专利权人：立讯电子科技（昆山）有限公司
申请日： 2020-09-23 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： G01R31/28 文献下载
摘要：本实用新型揭示一种LCR探针模组，包括探针座、宽度调整部件、横向滑轨、以及两组探针组件，所述宽度调整部件及所述横向滑轨均设置于所述探针座上，每组所述探针组件均包括一承载台、一夹持部件以及一探针，每组所述探针组件均通过所述承载台与所述横向滑轨滑动连接，各所述承载台受所述宽度调整部件驱动而沿着所述横向滑轨横向滑动以调整距离，所述承载台上设置所述夹持部件，所述探针夹持在所述夹持部件上；能够便于通过宽度调整部件调整两个夹持部件的距离，从而调节探针的距离，便于适用于不同尺寸的电感、电容和电阻元件的物理值的测量。
lcr 探针模组

[发明专利]含有脂肪酸改性硅油的氨纶纺丝油剂及其制备方法-CN201811614320.0有效
发明人：江四九;白桂增;焦纪伟;马桂玲;祝斌 -专利权人：北京光华纺织集团有限公司;北京中纺海天新材料技术有限公司
申请日： 2018-12-27 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： D06M15/643 文献下载
摘要：本申请涉及纺织技术领域，具体而言，涉及一种含有脂肪酸改性硅油的氨纶纺丝油剂及该油剂的制备方法。含有脂肪酸改性硅油的氨纶纺丝油剂，其包括以下重量份数的原料组分：30～80份的二甲基硅油、1～20份的环氧改性硅油、10～60份的矿物油、1～10份的脂肪酸和3～20份的抗静电剂，所述二甲基硅油的运动粘度为10～100厘泊，所述矿物油的运动粘度为10～100厘泊，所述环氧改性硅油的环氧当量为0.05～0.3mol/100g。发明提供的含有脂肪酸改性硅油的氨纶纺丝油剂及其制备方法，使用环氧改性硅油和脂肪酸，通过接枝反应制备了脂肪酸接枝改性硅油，改善了甲基硅油与矿物油和脂肪酸的相容性，同时可替代硬脂酸盐，制备良好稳定性和隔离性的氨纶油剂。
含有脂肪酸改性硅油纺丝及其制备方法

[发明专利]一种晶圆片承载装置-CN202110012359.0在审
发明人：裴坤羽;武卫;刘建伟;由佰玲;刘园;孙晨光;王彦君;祝斌;刘姣龙;常雪岩;杨春雪;谢艳;袁祥龙;张宏杰;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2021-01-06 - 公布日： 2021-04-20 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供一种晶圆片承载装置，具有：用于承载晶圆片的箱体、用于可抓取配合的基座、用于与检测机配合的安装座、以及与所述箱体配合的盖体；其中，所述基座和所述安装座分设于所示箱体外侧并对位设置；且所述基座和所述安装座均与所述晶圆片并行放置。本发明承载装置，尤其适用于大尺寸晶圆片的放置，结构强度高且晶圆片放置稳定，可以盖合晶圆片，降低碎片率；可以配合人工操作或机械手夹取操作，而且还可使晶圆片水平或立式放置，使用范围广，实用性强，保证晶圆片质量，提高生产效率。
一种晶圆片承载装置

[发明专利]一种半导体晶圆片花篮-CN202110012998.7在审
发明人：裴坤羽;武卫;刘建伟;由佰玲;刘园;孙晨光;王彦君;祝斌;刘姣龙;常雪岩;杨春雪;谢艳;袁祥龙;张宏杰;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2021-01-06 - 公布日： 2021-04-16 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明提出一种半导体晶圆片花篮，包括侧板、底柱和端板，至少在侧板内侧沿其高度方向设有若干用于放置晶圆片的插槽；侧板外侧面沿端板外边缘设置；侧板底部与其相邻的底柱一侧边无缝隙连接；底柱下端面与其中一个端板的下端面连接，且在该端板远离插槽一侧面设有卡槽组件；端板除去下端面的其它侧边面均为弧形面；设有卡槽组件的端板相邻侧边面的连接处均设有转角；两个端板靠近底柱一侧的侧边面的结构不同。本发明尤其适用于大尺寸晶圆片的承载放置，不仅结构简单，强度高且稳定性好，便于生产过程的搬运，而且还可与检测机配合，使晶圆片水平、稳定地放置在检测台上，保证晶圆片放置的安全性，降低碎片率。
一种半导体晶圆片花篮

[实用新型]一种晶圆片抛光用上抛机构-CN202021644203.1有效
发明人：刘建伟;祝斌;袁祥龙;武卫;由佰玲;刘园;刘姣龙;裴坤羽;孙晨光;王彦君;常雪岩;杨春雪;谢艳;张宏杰;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2020-08-10 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： B24B37/28 文献下载
摘要：本实用新型一种晶圆片抛光用上抛机构，包括上抛盘、置于所述上抛盘上方的上压盘、以及用于连接并控制所述上抛盘和所述上压盘移动的上液压系统，其中，所述上液压系统加压或泄压以控制所述上压盘带动所述上抛盘向远离晶圆片一侧形变或靠近所述晶圆片一侧形变，以调整所述上抛盘的形变量。本实用新型尤其是适用于大尺寸晶圆片的双面抛光，设置结构合理，且结构简单，抛光效率好且可控性高，提升晶圆片品质。
一种晶圆片抛光用上机构

[实用新型]一种双面抛光中用于放置晶圆片的放置机构-CN202021644211.6有效
发明人：刘建伟;祝斌;袁祥龙;武卫;由佰玲;刘园;刘姣龙;裴坤羽;孙晨光;王彦君;常雪岩;杨春雪;谢艳;张宏杰;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2020-08-10 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： B24B37/28 文献下载
摘要：本实用新型一种双面抛光中用于放置晶圆片的放置机构，置于抛光设备的下抛盘内侧，其特征在于，包括设有内齿轮的外圈盘和若干设有外齿轮的内圈盘，其中，所述外圈盘和所述内圈盘相互独立设置且所述内圈盘沿所述外圈盘圆周均匀设置；相邻所述内圈盘相互啮合；所述内圈盘均分别与所述外圈盘内齿轮啮合和置于所述下抛盘内侧的轴心轮外齿轮啮合。本实用新型尤其是适用于大尺寸晶圆片的双面抛光，可以批量放置晶圆片，相邻放置的内圈盘不仅与下抛盘中的轴心轮啮合而且还与外圈盘内齿轮啮合，结构简单，性能稳定，配合运行一致性好。
一种双面抛光用于放置晶圆片机构

[实用新型]一种晶圆片研磨承载装置-CN202021645459.4有效
发明人：裴坤羽;武卫;刘建伟;由佰玲;刘园;孙晨光;王彦君;祝斌;刘姣龙;常雪岩;杨春雪;谢艳;袁祥龙;张宏杰;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2020-08-10 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： B24B37/28 文献下载
摘要：本实用新型提供一种晶圆片研磨承载装置，用于晶圆片的双面研磨，其特征在于，包括置于外圈盘内侧的若干内圈盘，所述内圈盘具有：用于放置晶圆片的若干放置仓；若干用于磨削液流通的通孔组合；以及用于所述晶圆片追溯标记的标号组合；所述放置仓、所述通孔组合和所述标号组合均贯穿所述内圈盘厚度设置；置于所述外圈盘内的相邻所述内圈盘间隔设置或相互啮合设置。本实用新型提出的研磨承载装置，尤其适合大尺寸晶圆片的双面研磨放置，结构设计合理且易于加工，配合精度高且研磨控制一致性好；每批次研磨可放置多组晶圆片，研磨质量好且具有可追溯性，生产效率高。
一种晶圆片研磨承载装置

[发明专利]一种氧化膜硅基产品磷含量的测试方法-CN202011471226.1在审
发明人：齐禹纯;由佰玲;武卫;刘建伟;刘园;孙晨光;王彦君;常雪岩;裴坤羽;祝斌;刘姣龙;张宏杰;袁祥龙;谢艳;杨春雪;刘秒;吕莹;徐荣清 -专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请日： 2020-12-15 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： G01N27/64 文献下载
摘要：本发明提供一种氧化膜硅基产品磷含量的测试方法，包括使用二次质谱仪检测一级标样的离子强度，计算出RSF值，利用RSF值计算出二级标样的磷元素浓度，与已知二级标样的磷元素浓度对比，在标准范围内则利用此RSF值计算待测样片和区熔样片的磷元素浓度，检测区熔样片和待测样片的离子强度计算出磷元素浓度，用待测样片的临时磷元素浓度减去区熔样片磷元素浓度得到最终待测样片的磷元素浓度。本发明的有益效果是有效的解决磷含量过高会导致整个产品失效；利用现有检测技术测试出来的元素浓度存在不确定性，不能去除背景环境对磷元素含量的影响以及不能确定RSF值是否正确的问题。
一种氧化膜硅基产品含量测试方法