专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果168个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]衬底沟槽中具有浮栅的双位非易失性存储器单元-CN201810011007.1有效
  • 王春明;刘国勇;X.刘;邢精成;刁颖;N.杜 - 硅存储技术公司
  • 2018-01-05 - 2023-04-07 - H10B41/30
  • 本发明公开了双位存储器单元,所述双位存储器单元包括在半导体衬底的所述上表面的第一沟槽和第二沟槽中形成的间隔开的第一浮栅和第二浮栅。擦除栅或一对擦除栅分别设置在所述浮栅上方并且与所述浮栅绝缘。字线栅设置在介于所述第一沟槽和所述第二沟槽之间的所述上表面的一部分上方并且与所述第一沟槽和所述第二沟槽绝缘。在所述第一沟槽下方的所述衬底中形成第一源极区,并且在所述第二沟槽下方的所述衬底中形成第二源极区。所述衬底的连续沟道区沿着所述第一沟槽的侧壁、沿着介于所述第一沟槽和所述第二沟槽之间的所述上表面的所述部分、沿着所述第二沟槽的侧壁,从所述第一源极区延伸并且到所述第二源极区。
  • 衬底沟槽具有非易失性存储器单元
  • [发明专利]在专用沟槽中具有浮栅的非易失性存储器单元-CN201810013633.4有效
  • 邢精成;刘国勇;X·刘;王春明;刁颖;N·杜 - 硅存储技术公司
  • 2018-01-05 - 2023-04-07 - H10B41/00
  • 本发明题为“在专用沟槽中具有浮栅的非易失性存储器单元”。本发明提供了一对存储器单元,所述存储器单元包括:形成于半导体衬底的上表面中的间隔开的第一沟槽和第二沟槽,以及设置在所述第一沟槽和所述第二沟槽中的第一浮栅和第二浮栅。第一字线栅和第二字线栅分别设置在所述上表面的与所述第一浮栅和所述第二浮栅相邻的部分上方并与所述部分绝缘。源极区在所述衬底中横向地形成在所述第一浮栅和所述第二浮栅之间。第一沟道区和第二沟道区分别在所述第一沟槽和所述第二沟槽下方、分别沿着所述第一沟槽和所述第二沟槽的侧壁以及分别沿着所述上表面的设置在所述第一字线栅和所述第二字线栅下方的部分从所述源极区延伸。所述第一沟槽和所述第二沟槽分别仅包含所述第一浮栅和所述第二浮栅以及绝缘材料。
  • 专用沟槽具有非易失性存储器单元
  • [发明专利]采用单独存储器单元读取、编程和擦除的存储器单元阵列-CN201780030383.9有效
  • H.V.陈;V.蒂瓦里;N.杜 - 硅存储技术公司
  • 2017-05-11 - 2023-03-21 - G11C16/04
  • 本发明公开了一种存储器设备和擦除该存储器设备的方法,该存储器设备包括半导体材料衬底,和形成在衬底上并布置成行和列的阵列的多个存储器单元。存储器单元中的每一个储器单元包括在衬底中间隔开的源极区和漏极区,其中衬底中的沟道区在源极区和漏极区之间延伸,设置在沟道区的与源极区相邻的第一部分上方并与该第一部分绝缘的浮栅,设置在沟道区的与漏极区相邻的第二部分上方并与该第二部分绝缘的选择栅,以及设置在源极区上方并与源极区绝缘的编程擦除栅。单独或与选择栅极线或源极线组合的编程擦除栅极线沿列方向布置,使得每个存储器单元可以被单独编程、读取和擦除。
  • 采用单独存储器单元读取编程擦除阵列
  • [发明专利]先进纳米闪速存储器的动态编程技术-CN201810246242.7有效
  • H.V.特兰;A.利;T.伍;H.Q.阮 - 硅存储技术公司
  • 2014-01-14 - 2022-03-25 - G11C16/10
  • 本发明涉及先进纳米闪速存储器的动态编程技术,公开了一种用于对先进纳米闪速存储器单元编程的改进的方法和设备,其中一组镜像电流源(110、111、112、113)中的每个电流源经由多组开关(120‑123、130‑133、140‑143、150‑153)轮流连接到对应的一组位线(160、170、180、190)中的一根位线。所述改进的方法和设备向每根位线提供按时间平均的编程电流,并且减小了编程电流变化,所述编程电流变化归因于,例如,在制造形成所述镜像电流源(110‑113)的所述晶体管时的工艺变化。
  • 先进纳米存储器动态编程技术

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top