“石洪”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果134个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]翻新双极静电卡盘的方法-CN200980138719.9有效
发明人：石洪 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-10-10 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：根据本发明的一方面，双极静电卡盘翻新处理无需物理分离所述静电卡盘的两个电极。本发明的一方面涉及处理双极静电卡盘的方法，所述双极静电卡盘具有前表面和后表面并包括设置在所述前表面上的第一电极、第二电极以及设置在所述前表面、所述第一电极和所述第二电极上的阳极氧化层。所述方法包括测量所述静电卡盘的第一参数；如果所述测量得的第一参数不在第一预定范围内，丢弃所述静电卡盘；如果所述测量得的第一参数在所述第一预定范围内，清洁所述静电卡盘，用密封剂密封所述前表面上的所述第一电极和所述第二电极之间的缝隙，而不使所述第一电极相对应于第二电极位移，消除所述氧化层；以及在所述前表面、所述第一电极和所述第二电极上设置新的阳极氧化层。
翻新静电卡盘方法

[发明专利]测试静电夹盘的系统和方法-CN200980139294.3有效
发明人：石洪;绍拉·乌拉尔;托川·黄;方严;麦克切斯尼·乔恩 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-10-10 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供用于预测静电夹盘(ESC)的满意性能的可靠的、非侵入式的、电气测试方法。根据本发明的一个方面，在频带上测量ESC的参数(例如阻抗)以产生参数函数。此参数函数可被用于在该频带内为该参数建立预定的可接受范围。
测试静电系统方法

[发明专利]周边啮合电极载架以及包含所述载架的总成-CN200980125831.9有效
发明人：杰森·奥古斯蒂诺;阿芒·阿沃扬;方言;杜安·奥特卡;石洪;斯特芬·惠藤 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-06-26 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H05H1/34 文献下载
摘要：根据本公开的一种实施方式，提供了一种包含多部件电极和周边啮合电极载架的总成。所述周边啮合电极载架包含托架和多个往复电极支座。所述多部件电极位于所述托架的所述电极安装孔里。所述电极的所述垫板包含多个形成于其周边的安装凹口。所述往复电极支座可以往复进出所述安装凹口。范围较宽和较窄的其它实施方式是可以预料的。
周边啮合电极以及包含述载架总成

[发明专利]整修多部件电极的方法-CN200980125834.2有效
发明人：阿芒·阿沃扬;方言;杜安·奥特卡;石洪;斯特芬·惠藤 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-06-23 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H05H1/34 文献下载
摘要：本发明提供了一种整修多部件电极的方法，所述多部件电极包含连接在导电垫板上的硅电极。所述方法包括：(i)去除多部件电极上的金属离子，所用方法为将多部件电极在基本上无醇的并且包含硫酸、过氧化氢和水的磷酸氢二钠(DSP)溶液中浸泡，接着用去离子水清洗所述多部件电极；(ii)去除所述多部件电极上的金属离子后，将所述多部件电极抛光；并且(iii)去除所述多部件电极硅表面的杂质，所用方法为用包含氢氟酸、硝酸、醋酸和水的混合酸溶液处理所述已抛光的多部件电极，接着用去离子水清洗所述经处理的多部件电极。范围更宽和更窄的其它实施方式是可以预料的。
整修部件电极方法

[发明专利]背面安装电极载架和结合该载架的组件-CN200980126144.9有效
发明人：杰森·奥古斯蒂诺;阿芒·阿沃扬;方言;杜安·奥特卡;石洪;斯特芬·惠藤 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-06-26 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H05H1/38 文献下载
摘要：提供一种载架组件，包括背面安装电极载架和电极安装硬件。该背面安装电极载架包括电极容纳孔，其转而包括构造为限制设在该孔中的电极的横向移动的侧壁结构。该电极容纳孔进一步包括一个或多个侧壁突出部，其支撑设在该孔中的电极的重量。该电极安装硬件构造为从该载架的背面啮合设在该电极容纳孔中的电极，并且促使该电极抵靠该侧壁突出部以便限制在该电极容纳孔中的电极的轴向移动。还考虑范围更广和更窄的额外实施方式。
背面安装电极结合组件

[发明专利]密封等离子处理室的氧化钇等离子喷镀涂覆部件的方法-CN201010521844.2有效
发明人：石洪;杜安·奥特卡;刘身健;约翰·多尔蒂 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2008-01-03 - 公布日： 2011-04-06 - 主分类号： H01J9/24 文献下载
摘要：提供密封等离子处理室的氧化钇等离子喷镀涂覆部件的方法。一种方法包括a)施加室温粘度小于50cP的液体厌氧密封剂到该部件的全部氧化钇层表面；b)湿法清洁该部件；c)在N2环境中至少150℃下固化该湿法清洁的部件超过2小时；以及，d)以及通过重复a)到c)的步骤将第二液体厌氧密封剂施加于该固化的基片。
密封等离子处理氧化钇喷镀涂覆部件方法

[发明专利]利用KELVIN探针分析检查静电卡盘的方法-CN200980107037.1有效
发明人：阿芒·阿沃扬;石洪;约翰·多尔蒂 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-02-26 - 公布日： 2011-02-09 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：提供一种检查静电卡盘(ESC)的方法。该ESC具有用于半导体晶片的介电支撑表面。该介电支撑表面利用Kelvin探针扫描以获得表面电势映射。该表面电势映射对比基准Kelvin探针表面电势映射以确定该ESC是否通过检查。
利用 kelvin 探针分析检查静电卡盘方法

[发明专利]延长作为等离子室材料的氧化钇的寿命-CN200880002182.9有效
发明人：石洪;杜安·奥特卡;刘身健;约翰·多尔蒂 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2008-01-03 - 公布日： 2009-11-25 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：提供两种延长作为等离子室材料的氧化钇的寿命的方法。一种方法包括共同烧结双层生坯制造等离子处理室的三层部件，其中。一层包括陶瓷颗粒，第二层包括氧化钇颗粒。该两层在烧结工艺期间密切接触。在优选的实施方式中，该三层部件包括外部氧化钇层，YAG中间层和第二外部氧化铝层。可选地，这些圆盘在烧结工艺期间压在一起。所产生的三层部件孔隙度非常低。优选地，该外部氧化钇层、该YAG中间层和该第二外部氧化铝层任一个的孔隙度小于3％。第二种方法包括通过施加室温粘度小于50cP的液体厌氧密封剂而密封氧化钇等离子喷镀涂覆部件，通过将该密封剂刷涂在该部件所有氧化钇表面上，湿法清洁该部件，在N₂环境中至少150℃下固化该湿法清洁的部件超过2小时；以及通过重复施加该第一涂层所使用的步骤将第二密封剂涂层施加于该固化的基片。
延长作为等离子材料氧化钇寿命

[发明专利]用于等离子体处理腔的元件的石英表面的湿清洁方法-CN200580024099.8有效
发明人：石洪;黄拓川;D·奥塔卡;J·库奥;刘身健;B·莫雷;A·陈 -专利权人：兰姆研究公司
申请日： 2005-06-03 - 公布日： 2008-06-04 - 主分类号： C23G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了用于湿清洁元件的石英表面的方法，所述元件用于其中处理半导体基材的等离子体处理腔，如刻蚀腔和抗蚀剂剥离腔，该方法包括将石英表面与至少一种有机溶剂，碱性溶液和不同的酸溶液接触，这样从石英表面除去有机和金属污染物。石英表面优选与一种酸溶液接触至少两次。
用于等离子体处理元件石英表面清洁方法

[发明专利]用于硅电极部件蚀刻速度和蚀刻均匀性恢复的方法-CN200580044362.X无效
发明人：黄拓川;任大星;石洪;凯瑟琳·周;晏淳;恩瑞库·麦格尼;严必明;杰罗姆·胡巴塞克;林大正;宋东永 -专利权人：兰姆研究公司
申请日： 2005-12-15 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：用于清洁电极部件的方法，该电极部件可用于在清洁之后在等离子蚀刻室中蚀刻介电材料，该方法包括抛光电极部件的硅表面，优选地从硅表面去除黑色硅金属沾污。
用于电极部件蚀刻速度均匀恢复方法

[发明专利]用于硅电极组件表面污染去除的清洗方法-CN200580046052.1有效
发明人：任大星;石洪 -专利权人：兰姆研究公司
申请日： 2005-12-15 - 公布日： 2008-01-02 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：硅电极组件的去污清洗方法和溶液，该方法可控制或者消除电极组件结合材料的可能的化学侵蚀，所述溶液包含氟化铵、过氧化氢、醋酸、可选的醋酸铵、和去离子水。
用于电极组件表面污染去除清洗方法

[发明专利]通过酸性溶液进行的硅电极组件表面去污-CN200580046171.7无效
发明人：石洪;黄拓川;周春红 -专利权人：兰姆研究公司
申请日： 2005-12-14 - 公布日： 2008-01-02 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：用于清洗电极组件的硅表面的方法，该方法使用包含氢氟酸、硝酸、醋酸和余量去离子水的酸性溶液，从硅表面上有效去除污染物而不会使硅表面变色。
通过酸性溶液进行电极组件表面去污

[发明专利]用于抗蚀剂剥离室的裸铝隔板-CN200510079142.2有效
发明人： F·D·埃格利;M·康;A·L·陈;J·郭;石洪;D·奥特卡;B·莫雷尔 -专利权人：兰姆研究公司
申请日： 2005-06-24 - 公布日： 2005-12-28 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：裸铝隔板适用于抗蚀剂剥离室并包括一层外部氧化铝层，所述外部氧化铝层可以是天生的氧化铝层，或者是通过用化学方法处理新的或用过的裸铝隔板所形成的一层，以便形成一层薄的外部氧化铝层。
用于抗蚀剂剥离隔板

[发明专利]一种含有天台乌药树树叶提取物的营养液-CN03115686.X无效
发明人：王恩祥;石洪 -专利权人：王恩祥
申请日： 2003-03-06 - 公布日： 2004-09-08 - 主分类号： A61K35/78 文献下载
摘要：本发明公开了一种含有天台乌药树树叶提取物的营养液，包括天台乌药树叶提取物、银杏叶提取物、人参、黄芪、枸杞、蜂胶，其中，所述的天台乌药树叶提取物占所述的营养液的重量百分比在50－70％之间，所述的银杏叶提取物占所述的营养液的重量百分比在25－40％之间，余量为所述的人参、黄芪、枸杞和蜂胶。本发明的制造方法是将上述所述的成分分别粉碎，然后按上述所述的比例搅拌，混匀，可以制成胶囊、或者袋泡药服用。本发明对增强中老年人免疫力、促使机体组织再生、防早老、防老年痴呆、防帕金森病等均有一定作用。
一种含有天台乌药树叶提取物营养液

首页
«上一页
1
2
3
4
5
6
7
8
9
共 134 条