专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果702个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]一种晶棒晶向检验装置及系统-CN202221397172.3有效
  • 曹建伟;朱亮;卢嘉彬;王金荣;方昱骅;张慧阳;邱文杰 - 浙江晶盛机电股份有限公司
  • 2022-06-01 - 2022-12-06 - B28D5/00
  • 本申请涉及蓝宝石领域,尤其是涉及一种晶棒晶向检验装置,用于检测线网在槽轮轴向上的偏移角度,所述线网具有切割面,所述切割面用于切割晶棒,包括:料座,所述料座具有基准面;检测组件,所述检测组件包括:检测件,所述检测件位于所述切割面的一侧,所述检测件沿第一方向滑移连接于所述料座上,使得检测件可沿第一方向移动,所述第一方向分别与所述基准面、所述切割面平行;所述检测件用于检测切割线上的第一点到第二点在槽轮轴向上的距离变化量△t。解决了晶向检验调节成本较高的技术问题,达到降低检验调节晶棒成本的技术效果。
  • 一种晶棒晶检验装置系统
  • [实用新型]一种双调节块对中装置-CN202221423703.1有效
  • 曹建伟;朱亮;傅林坚;张俊;卢嘉彬;王金荣;张慧阳;邱文杰;周锋;黄佳辉 - 浙江晶盛机电股份有限公司
  • 2022-06-02 - 2022-12-06 - B28D5/00
  • 本实用新型实施例提供了一种双调节块对中装置,属于切片设备技术领域,所述双调节块对中装置包括:转动机构,所述转动机构包括轴体和设置在轴体上的转动座,所述转动座可相对于轴体转动;导轮机构,所述导轮机构的第一端和转动座连接,所述导轮机构的第二端设置有一导轮,且所述导轮可容置线材;以及调整机构,所述调整机构设置在转动座和/或导轮机构上;其中,所述调整机构的重心可调节,通过所述调整机构使得由调整机构、导轮机构以及转动座构成的组合体的重心位于轴体的轴线上;达到对导轮不偏磨的技术效果。
  • 一种调节装置
  • [发明专利]切片机的调节方法-CN202210896875.9在审
  • 曹建伟;朱亮;卢嘉彬;王金荣;邱文杰;周锋;黄佳辉;郭钬 - 浙江晶盛机电股份有限公司
  • 2022-07-28 - 2022-12-02 - B28D5/04
  • 本申请涉及一种切片机的调节方法,该切片机的调节方法包括以下步骤:建立金刚线的进刀量对应升降电机的电流值或者主轴电机的电流值的第一函数关系式。调整升降电机的转速值,以使升降电机的电流值处于第一预设范围值内,或者,以使主轴电机的电流值处于第二预设范围值内。建立金刚线的进刀量对应升降电机的转速值的第二函数关系式,调节不同进刀位置时,对应升降电机的转速值大小,以使升降电机的电流值处于第一预设范围值内,或者,以使主轴电机的电流值处于第二预设范围值内。本申请提供的切片机的调节方法能够降低金刚线的形变程度,且确保切片机的切割效率。
  • 切片机调节方法
  • [发明专利]一种硬轴单晶炉的主轴氧化物清理装置-CN202111394849.8有效
  • 朱亮;叶钢飞;傅林坚;胡建荣;叶雷江;梁晋辉;曹建伟 - 浙江晶盛机电股份有限公司
  • 2021-11-23 - 2022-11-22 - B08B5/02
  • 本申请涉及单晶炉,尤其是涉及一种硬轴单晶炉的主轴氧化物清理装置,包括:安装座;第一环形件,第一环形件的外边缘具有第一固定边,第一环形件与第一固定边之间形成第一腔;第二环形件,第二环形件连接于第一环形件,第二环形件与第一环形件之间形成第二腔;导向组件,导向组件用于引导气流的流向中。形成环扫的气流并作用于主轴的外壁上,一方面防止氧化物在主轴的外壁上附着,另一方面将附着于主轴外壁上的氧化物吹走,并带入到第一环形件的第一腔中,防止氧化物掉落而污染坩埚中的硅原料。解决了现有技术中单晶炉中形成的氧化物污染硅原料的技术问题;达到除去单晶炉中所形成的氧化物的技术效果。
  • 一种硬轴单晶炉主轴氧化物清理装置
  • [实用新型]一种切割机床用环切机构和环切装置-CN202220853123.X有效
  • 卢嘉彬;钟杨波;叶阿康;张航;王凯;邱文杰;周锋;朱亮 - 浙江晶盛机电股份有限公司
  • 2022-04-13 - 2022-11-22 - B28D5/04
  • 本申请涉及晶体加工领域,尤其是涉及一种切割机床用环切机构和环切装置,包括:座体;载体,所述载体用于连接晶体,所述载体转动连接于所述座体上,使得所述载体具有绕轴自转的转动自由度;以及第一驱动组件,所述第一驱动组件连接于所述座体上,并作用于所述载体上,通过所述第一驱动组件使得所述载体旋转,从而带动晶体发生旋转,切割线,所述切割线位于所述环切机构的一侧,所述切割线与所述载体本体的连接面具有夹角,所述切割线用于与位于所述载体上的晶体接触从而切割晶体。解决了现有技术中碳化硅晶体环切效率低的技术问题;达到提高碳化硅晶体环切效率的技术效果。
  • 一种切割机床用环切机构装置
  • [实用新型]外延生长装置的加热体-CN202221321170.6有效
  • 沈文杰;朱亮;周建灿;程佳峰;张秋成;傅林坚;曹建伟;杨奎 - 浙江求是半导体设备有限公司;浙江晶盛机电股份有限公司
  • 2022-05-30 - 2022-11-08 - C23C16/46
  • 本申请提供一种外延生长装置的加热体,加热体包括承托座、托盘;承托座沿着外延生长装置的轴向延伸;托盘安装于承托座上,用以承载衬底,其中承载座能够通过与感应线圈的电磁感应产生热量,进而加热托盘,托盘传热至衬底上对衬底进行加热;承托座上开设有调温通道,具体的,调温通道位于所述托盘边缘;且沿着垂直于承托座的方向,调温通道的部分投影位于托盘上。通过设置调温通道,能够调节均衡衬底中心和衬底边缘的温度,从而使得衬底上生成的外延层边缘和中部的厚度和生成物质掺杂分布均匀,提高产品质量。并且能够调节多个承托座之间的相对温度,以降低多个托盘间的温差,以确保多个衬底的温度分布均匀且一致,降低同批次产品的差异。
  • 外延生长装置加热
  • [实用新型]进刀装置及切片机-CN202221362800.4有效
  • 朱亮;卢嘉彬;朱继锭;邱文杰;许建青;周锋;冯长春;王金荣 - 浙江晶盛机电股份有限公司
  • 2022-05-31 - 2022-11-08 - B28D5/00
  • 本申请涉及一种进刀装置及切片机,进刀装置包括移动切割单元、固定单元、滑轨部和滑块部。滑轨部和滑块部中的一者连接移动切割单元,另一者连接固定单元,滑轨部和滑块部滑动配合,以使移动切割单元能够相对于固定单元沿着预设方向移动。移动切割单元和固定单元中的一者设有沿着预设方向延伸的轴向定位面,滑轨部的一侧端面部分或者全部紧密贴设于轴向定位面。轴向定位面垂直于硅棒的轴线a。本申请提供的进刀装置及切片机,解决了现有的进刀装置沿着硅棒轴线方向的移动直线度较低进而导致硅片的翘曲度较大的问题。
  • 进刀装置切片机
  • [发明专利]精度补偿方法及切片机-CN202210605333.1在审
  • 朱亮;卢嘉彬;朱继锭;邱文杰;许建青;周锋;冯长春;王金荣 - 浙江晶盛机电股份有限公司
  • 2022-05-31 - 2022-09-27 - B28D5/00
  • 本申请涉及一种精度补偿方法及切片机,精度补偿方法包括以下步骤:获取硅片表面在硅棒轴线a所在方向的第一波动曲线;或者,获取移动切割单元沿着预设方向运动的过程中在硅棒的轴线a所在方向上的第二波动曲线;基于第一波动曲线或者第二波动曲线,获取第三波动曲线,其中,第三波动曲线在硅棒轴线a所在方向的波动变化与第一波动曲线和第二波动曲线在硅棒轴线a所在方向的波动变化大小相等且方向相反;调整滑轨部沿着硅棒轴线a所在方向的弯曲程度,使得滑轨部在硅棒轴线a所在方向的波动曲线与第三波动曲线相同。本申请提供的精度补偿方法及切片机,解决了现有的进刀装置沿着硅棒轴线方向的移动直线度较低进而导致硅片的翘曲度较大的问题。
  • 精度补偿方法切片机
  • [发明专利]外延生长装置-CN202110873786.8有效
  • 汪延成;程佳峰;沈文杰;梅德庆;郑丽霞;周建灿;张秋成 - 浙江晶盛机电股份有限公司;浙江求是半导体设备有限公司
  • 2021-07-30 - 2022-09-20 - C30B25/10
  • 本发明涉及半导体外延生长技术领域,特别是涉及一种外延生长装置,该外延生长装置包括至少一个托盘、加热体和至少一组线圈组件;加热体内具有工作空间,托盘位于工作空间内,线圈组件沿加热体周向围设在加热体外;每组线圈组件具有一基点,每组线圈组件包括多个独立的子线圈,多个子线圈以基点为中心由内向外扩散排布;且两两相邻的两个子线圈中,其中一个子线圈包裹另外一个子线圈。本申请中每个独立的子线圈将托盘上的区域划分为多个独立加热的子区域,每个独立的子线圈对托盘上对应的子区域进行单独加热,从而实现托盘表面温度分区可控;即可调整托盘上对应的子区域的温度,降低各个子区域之间的温度差值,以提高托盘上生长的外延层的质量。
  • 外延生长装置

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top