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[实用新型]检测装置-CN202320752587.6有效
发明人：朱亮;谢龙辉;吴霏霏;张夫明;黄张楠 -专利权人：浙江求是半导体设备有限公司
申请日： 2023-03-31 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：本实用新型实施例提供一种检测装置。所述检测装置包括第一光源、反射镜和图像生成装置，第一光源用于向待测物发射光线，反射镜和第一光源在第一方向间隔排布，反射镜用于将待测物反射的光线二次反射，图像生成装置与反射镜在第一方向上间隔排布，以用于获取反射镜二次反射的光线并生成图像。本实用新型实施例的检测装置设置第一光源向待测物发射光线，设置反射镜将待测物反射的光线二次反射，其中包括待测物在移动方向上的正端面反射的光线，图像生成装置获取二次反射的光线并生成图像，以获取待测物正端面的图像，从而能够观察到正端面上的全部崩边缺陷。
检测装置

[实用新型]硅片上料装置-CN202320705939.2有效
发明人：朱亮;谢龙辉;吴霏霏;张夫明;黄张楠 -专利权人：浙江求是半导体设备有限公司
申请日： 2023-03-31 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型提供一种硅片上料装置，所述硅片上料装置包括第一基座、第一升降件、承载平台、第一止挡件和第二止挡件，第一升降件设在第一基座上，承载平台设在第一升降件上，第一止挡件设在第一基座上，并相对于第一基座可沿第一方向移动，承载平台在第一方向的两侧分别设有第一止挡件，第二止挡件设在第一基座上，并相对于第一基座可沿第二方向移动，承载平台在第二方向的两侧分别设有第二止挡件。本实用新型的硅片上料装置在第一基座上设置用于止挡硅片的第一止挡件和第二止挡件，且第一止挡件和第二止挡件均可朝向和远离承载平台移动，以使承载平台上能够放置不同尺寸的硅片。
硅片装置

[实用新型]一种抛光液回收装置-CN202223272211.X有效
发明人：朱亮;曹建伟;郑猛;李阳健;韩鹏飞;黄金涛;谢龙辉 -专利权人：浙江晶盛创芯半导体设备有限公司
申请日： 2022-12-05 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： B24B57/00 文献下载
摘要：本申请涉及抛光设备技术领域，尤其是涉及一种抛光液回收装置，包括：座体，座体具有一承载腔，承载腔包括相互独立的第一区和第二区，第一区中开设有第一排液口，第二区中开设有第二排液口；第一排液口和/或第二排液口上设置有滤网；回收管，回收管具有第一端，第一端通至承载腔内，第一端具有在第一区和第二区之间移动的移动自由度，第一端在第一区和第二区之间移动形成有第一状态和第二状态，在第一状态下，第一端位于第一区上，抛光液经过回收管进入第一区内；在第二状态下，第一端位于第二区上，抛光液经过回收管进入第二区内。解决了抛光液消耗量较大的技术问题，达到降低抛光液消耗量的技术效果。
一种抛光回收装置

[发明专利]分选组件及破片剔除装置-CN202310355870.X在审
发明人：朱亮;谢龙辉;吴霏霏;张夫明;黄张楠 -专利权人：浙江求是半导体设备有限公司
申请日： 2023-03-31 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种分选组件及破片剔除装置。所述分选组件包括机架、第一传送机构和第二传送机构，第一传送机构具有第一传送面，第二传送机构具有第二传送面，第二传送机构的传送速度大于第一传送机构的传送速度，第一传送机构可在第一位置和第二位置之间转动，在第一位置，第一传送面位于第二传送面的上方，在第二位置，第一传送面由第二传送面的上方延伸至第二传送面的下方，或者第一传送面与第二传送面位于同一平面内。本发明的分选组件的第一传送机构转动至第二位置时，被分选的物品由第一传送机构转移至第二传送机构以被快速地传送，使第一传送机构能够尽快返回第一位置以接收下一被分选的物品，从而降低分选过程的耗时。
分选组件破片剔除装置

[发明专利]一种抛光载体-CN202110964190.9有效
发明人：朱亮;沈文杰;潘兴兴;黄金涛;谢龙辉;郑猛;陈莹 -专利权人：浙江晶盛机电股份有限公司;晶盛机电日本株式会社
申请日： 2021-08-21 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：本发明涉及晶圆加工领域，尤其是涉及一种抛光载体，包括：第一座；加压组件，加压组件包括：气囊，气囊固定设置于第一座远离第二座的一端，气囊用于粘接抛片；加压腔，加压腔开设于第一座内，加压腔与气囊接触，通过调节加压腔内气压使得气囊对抛片的作用力可调节。本申请具有的效果：本申请通过调节加压腔内的气压以调节气囊对抛片的作用力，有利于控制抛片上的受力作用，提高抛片的平坦程度。简化的结构不仅使对抛片加压更加稳定，提高抛片的抛光品质，同时也提高了装配性和可维护性，减少了因维护等产生的加工外时间损失。解决了现有技术中抛片平坦度不良的技术问题；达到了抛片平坦度得到提升的技术效果。
一种抛光载体

[发明专利]分选装置-CN202310379432.7在审
发明人：朱亮;谢龙辉;吴霏霏;张夫明;黄张楠 -专利权人：浙江求是半导体设备有限公司
申请日： 2023-03-31 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种分选装置，所述分选装置包括吸附模组、分选传送带和分选驱动件，吸附模组具有多个吸附孔，多个吸附孔沿第一方向间隔排布，分选传送带的部分设在吸附模组具有吸附孔的一侧，分选驱动件与分选传送带相连，以用于驱动分选传送带的部分沿第一方向和第二方向移动，第二方向为第一方向的反向。本发明实施例的分选装置在吸附模组的一侧设有分选传送带，通过分选驱动件驱动分选传送带沿第一方向和第二方向移动，以实现物料分选，结构较为简单。
分选装置

[发明专利]硅片插片清洗装置和硅片生产系统-CN202310247918.5在审
发明人：朱亮;李宏;张江水;景健;谢龙辉 -专利权人：浙江求是半导体设备有限公司
申请日： 2023-03-10 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅片插片清洗装置和硅片生产系统，硅片插片清洗装置包括插片机、清洗机、人行通道和篮具输送部件，所述人行通道设于所述插片机和所述清洗机之间；所述篮具输送部件用于在插片机和清洗机之间输送篮具，所述篮具输送部件包括依次相连的第一部分、第二部分和第三部分，所述第一部分和所述第三部分分别设于所述人行通道的宽度方向两侧，所述第二部分设于所述人行通道的上侧。本发明实施例的硅片生产系统具有产能高等优点。
硅片清洗装置生产系统

[发明专利]插片机及其插片方法-CN202211656748.8在审
发明人：朱亮;李宏;张江水;谢龙辉;景健;王俊 -专利权人：浙江求是半导体设备有限公司
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明公开了一种插片机及其插片方法，所述插片机包括机架、第一输送组件、第一承载架、第二承载架、第一升降部件和第一平移装置，机架具有沿第一水平方向布置的第一预存位和第一插片位；第一输送组件设在机架上且对应第一插片位设置，第一输送组件用于沿第二水平方向输送基片，第二水平方向与第一水平方向相交；第一承载架和第二承载架沿第一水平方向布置且均用于放置篮具；第一承载架和第二承载架均与第一升降部件连接，以驱动第一承载架和第二承载架升降；第一平移装置设于机架，第二升降部件与第一平移装置连接，以驱动第一承载架和第二承载架在第一预存位和第一插片位之间切换。本发明实施例的插片机具有工作效率高等优点。
插片机及其方法

[发明专利]一种可在线测厚的抛光载体-CN202110964212.1有效
发明人：朱亮;沈文杰;潘兴兴;黄金涛;谢龙辉;郑猛;陈莹 -专利权人：浙江晶盛机电股份有限公司;晶盛机电日本株式会社
申请日： 2021-08-21 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明涉及晶圆加工技术领域，尤其是涉及一种可在线测厚的抛光载体，包括：载体本体，所述载体本体用于承载抛片；测厚组件，所述测厚组件包括：检测通道，所述检测通道开设于所述载体本体内，所述检测通道贯通至所述载体本体粘接有抛片的一端；检测器，所述检测器固定连接在所述载体本体上，用于通过所述检测通道向抛片发出检测信号以检测抛片厚度并输出。本申请具有的效果：解决了现有技术中无法实时反馈系统抛片目前的抛光去除量和抛片厚度的技术问题；达到能够实时反馈抛片厚度的技术效果。
一种在线抛光载体

[实用新型]一种用于硅片抛光的上料装置-CN202122568499.4有效
发明人：朱亮;沈文杰;郑猛;谢龙辉;潘兴兴;黄金涛;陈莹 -专利权人：浙江晶盛机电股份有限公司
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： B24B41/00 文献下载
摘要：本申请涉及抛光设备，尤其是涉及一种用于硅片抛光的上料装置，包括：机架，机架位置固定；架台，架台上具有工位，工位用于与抛头配合；驱动组件，驱动组件设置于机架与架台之间，用于驱动架台相对于机架移动，驱动组件包括：丝杠，丝杠固定于机架；第一滑块，第一滑块一端固定于架台，另一端滑移连接于丝杠；以及电机，电机连接于丝杠的轴向。本申请具有的效果：驱动架台移动的方式采用丝杠驱动，提高架台驱动精准度，从而提高架台上的工位对准精确度，减小出现硅片被抛头压碎的情况。解决了现有技术中抛光设备的上料装置造成硅片碎裂的技术问题；达到提高上料装置精度以降低硅片碎裂的可能的技术效果。
一种用于硅片抛光装置

[实用新型]可在线测厚的抛光载体-CN202121972503.7有效
发明人：朱亮;沈文杰;潘兴兴;黄金涛;谢龙辉;郑猛;陈莹 -专利权人：浙江晶盛机电股份有限公司;晶盛机电日本株式会社
申请日： 2021-08-21 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及晶圆加工技术领域，尤其是涉及一种可在线测厚的抛光载体，包括：载体本体，所述载体本体用于承载抛片；测厚组件，所述测厚组件包括：检测通道，所述检测通道开设于所述载体本体内，所述检测通道贯通至所述载体本体粘接有抛片的一端；检测器，所述检测器固定连接在所述载体本体上，用于通过所述检测通道向抛片发出检测信号以检测抛片厚度并输出。本申请具有的效果：解决了现有技术中无法实时反馈系统抛片目前的抛光去除量和抛片厚度的技术问题；达到能够实时反馈抛片厚度的技术效果。
在线抛光载体

[实用新型]抛光载体-CN202121972512.6有效
发明人：朱亮;沈文杰;潘兴兴;黄金涛;谢龙辉;郑猛;陈莹 -专利权人：浙江晶盛机电股份有限公司;晶盛机电日本株式会社
申请日： 2021-08-21 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本实用新型涉及晶圆加工领域，尤其是涉及一种抛光载体，包括：第一座；加压组件，加压组件包括：气囊，气囊固定设置于第一座远离第二座的一端，气囊用于粘接抛片；加压腔，加压腔开设于第一座内，加压腔与气囊接触，通过调节加压腔内气压使得气囊对抛片的作用力可调节。本申请具有的效果：本申请通过调节加压腔内的气压以调节气囊对抛片的作用力，有利于控制抛片上的受力作用，提高抛片的平坦程度。简化的结构不仅使对抛片加压更加稳定，提高抛片的抛光品质，同时也提高了装配性和可维护性，减少了因维护等产生的加工外时间损失。解决了现有技术中抛片平坦度不良的技术问题；达到了抛片平坦度得到提升的技术效果。
抛光载体

[实用新型]一种刷头组件和抛光垫刷洗装置-CN202121666256.8有效
发明人：朱亮;沈文杰;黄金涛;谢龙辉;郑猛;潘兴兴 -专利权人：浙江晶盛机电股份有限公司
申请日： 2021-07-21 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： B08B1/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及刷洗机构领域，尤其是涉及一种刷头组件和抛光垫刷洗装置，包括：固定座；刷头本体，刷头本体活动连接于固定座，刷头本体可在第一方向上活动；以及调节组件，调节组件包括：第一弹性件，第一弹性件可形变，第一弹性件设置于固定座上，第一弹性件的一端与刷头本体相抵触，以减弱刷头本体在第一方向上的活动；限位件，限位件可调式连接于固定座上，限位件与第一弹性件的另一端相抵触。本申请具有的效果：通过在刷头本体和固定座之间设置了第一弹性件，弹性件削弱刷头本体的运动，解决了现有技术中刷头对抛光垫的清洁效果不佳的技术问题；达到提高刷头对抛光垫的清洁效果的技术效果。
一种组件抛光刷洗装置

[实用新型]一种高精度定位晶片边缘表面抛光装置-CN202121786314.0有效
发明人：朱亮;沈文杰;谢龙辉;谢永旭;陈明;倪少博;傅林坚;汤承伟 -专利权人：浙江晶盛机电股份有限公司
申请日： 2021-08-02 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： B24B9/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高精度定位晶片边缘表面抛光装置，包括晶片固定旋转组件(1)，所述晶片固定旋转组件(1)包括晶片定位组件安装板(19)；还包括晶片定位组件(2)，晶片定位组件(2)安装在晶片定位组件安装板(19)上，所述晶片定位组件(2)包括至少三个定位件(23)，所述定位件(23)由驱动件驱动进行伸/缩对晶片进行定位，这三个定位件之间形成用于晶片定位的定位空间。本实用新型利用抛光装置自转产生的离心力使抛光布均匀地作用在晶片边缘表面，同时可以通过改变抛光装置的自转速度改变施加在晶片边缘表面的作用力，有利于抛光工艺的调节，大大提升了晶片边缘表面的抛光效率。
一种高精度定位晶片边缘表面抛光装置

[实用新型]一种气化炉自动排灰装置-CN202122260185.8有效
发明人：杜少枫;许浩雨;黄绍良;刘昭位;王卓;赵文利;谢龙辉 -专利权人：杜少枫
申请日： 2021-09-17 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： F27D3/15 文献下载
摘要：本实用新型涉及气化炉技术领域，具体的说是一种气化炉自动排灰装置，包括气化炉炉体和设置在气化炉炉体内底部的炉灰，所述气化炉炉体的内底部呈倾斜设置，且所述气化炉炉体的底部设置有排灰口，所述气化炉炉体的底部设置有用于对排灰口进行密封的支撑挡块，所述支撑挡块的顶部呈倾斜设置，所述支撑挡块的底部设置有多个用于对支撑挡块进行支撑的弹性支撑装置，所述支撑挡块的底部设置有用于输送从支撑挡块上掉落炉灰的输送带，所述气化炉炉体的侧壁上安装有固定管。本实用新型中，该气化炉炉体内的炉灰可以在支撑挡块上进行堆积，不仅可以增加残碳还原，而且还可以提高产气。
一种气化自动装置

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