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[发明专利]一种半导体用SiC涂层石墨基座过渡层的制备方法-CN202310702216.1在审
发明人：盛锋锋;丁柳宁 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2023-06-14 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开了一种半导体用SiC涂层石墨基座过渡层的制备方法，所述半导体用SiC涂层石墨基座过渡层的制备方法通过半导体用SiC涂层石墨基座过渡层的制备设备实现，所述半导体用SiC涂层石墨基座过渡层的制备设备包括支撑底座，所述支撑底座上端中部设置有气相沉积反应室，所述气相沉积反应室上端中部设置有进气口，所述气相沉积反应室左部下侧和右部下侧均设置有一组第一抽气泵，通过设置储存交换机构，将每次进行的上个步骤的热量交换给下个步骤所需预热的气体，降低了了气体热量的损失，节省了预热气体所需的能源，通过设置第一回收机构和第二回收机构，提高气体分离的效率，使整个分离过程更加精细。
一种半导体 sic 涂层石墨基座过渡制备方法

[发明专利]一种化学气相沉积制备碳化硅海绵的装置-CN202210703163.0有效
发明人：何少龙;周李伟;盛锋锋;丁柳宁 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2022-06-21 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： C01B32/956 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学气相沉积制备碳化硅海绵的装置，涉及到碳化硅制备技术领域，包括炉体组件，所述炉体组件内部设置有隔离组件，所述隔离组件外侧套接设置有支撑组件，所述隔离组件内侧设置有主驱动机构，所述主驱动机构中叶轮在气流带动进行旋转，所述主驱动机构中叶轮带动支撑组件中升降环、旋转环和环形支撑板升降。本发明在一次制备过程中可以制得更多碳化硅海绵，并降低出料频率，进而提高生产效率，同时还可以使环状空间持续处于生成碳化硅海绵的最佳状态，避免发生堵塞等情况，另外还可以在完成碳化硅海绵的制备后对碳化硅海绵进行预脱离操作，进而方便后续碳化硅海绵的出料。
一种化学沉积制备碳化硅海绵装置

[发明专利]一种陶瓷复合涂层的制备方法-CN202310509085.5在审
发明人：陈吉品;丁柳宁 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2023-05-08 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： C23C24/04 文献下载
摘要：本发明涉及喷涂涂层的制备方法技术领域，具体涉及一种陶瓷复合涂层的制备方法，包括磨碾装置与底台，所述磨碾装置与底台均设有两组且磨碾装置位于底台内部，所述磨碾装置包括碾磨柄，所述碾磨柄顶部设有双支撑板，所述双支撑板内部设有涂料组件，本发明通过依次将金属涂层材料与陶瓷涂层材料放置到两个涂料罐内，后通过涂料组件将金属涂层材料与陶瓷涂层材料依次喷涂到工件上，同时在喷涂的过程中进行碾磨，使金属涂层材料与陶瓷涂层材料在结合时贴合度更高，以解决现有的陶瓷复合涂层在喷涂后其抗氧化性及热稳定性差，在受热时表面涂层易脱落的问题。
一种陶瓷复合涂层制备方法

[实用新型]一种具有碳化硅涂层的硅片外延基座-CN202320407749.2有效
发明人：何少龙;盛锋锋;丁柳宁 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2023-03-07 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： C30B25/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种具有碳化硅涂层的硅片外延基座，包括基座本体、口袋和应力槽，所述口袋内设置有用于顶出硅片的顶柱，所述顶柱的外部套设有与口袋相匹配的活动底座，所述活动底座的下部设置有弹性支撑组件，所述活动底座的上端设置有内壁呈阶梯状的环型支撑座，且在环型支撑座的阶梯面不低于顶柱的上端面。本实用新型便于硅片从基座上的口袋中取出，提高了制备硅片的生产效率。
一种具有碳化硅涂层硅片外延基座

[发明专利]一种金属表面碳化硅涂层的低温制备装置-CN202110992466.4有效
发明人：丁柳宁;周李伟;陈凯 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2021-08-27 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： C23C24/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属表面碳化硅涂层的低温制备装置，其特征在于：包括中空的反应室、上封块、下封块，在反应室的外侧壁上缠绕有感应线圈，在上封块上设置有输气口和排气口，在反应室的外部设置有涂料混合箱，涂料混合箱内设置有涂料输送泵，在涂料混合箱和下封块之间设置有与反应室连通的输料管和排料管，在涂料混合箱和上封块之间设置有与反应室连通的回料管，输料管上设置有单向阀，在排料管上设置有两位两通电磁阀，回料管上连通有压力表，回料管上设置有压力可调的卸压阀。本发明提供了一种金属表面碳化硅涂层的低温制备装置，使得在金属表面上形成超厚密集的碳化硅涂层，同时，保证工件受热均匀性，降低制备所需的温度。
一种金属表面碳化硅涂层低温制备装置

[实用新型]一种优化气体流场的石墨基座-CN202320338812.1有效
发明人：何少龙;周李伟;盛锋锋;丁柳宁 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种优化气体流场的石墨基座，包括石墨基座，所述石墨基座的上部开设有安装凹槽，所述安装凹槽的中部设置有调节螺杆，所述调节螺杆的上端设置有与安装凹槽相匹配的托盘，所述托盘的外侧均匀设置有导向条，所述石墨基座开设有与导向条相匹配的导向滑槽，所述石墨基座的一侧设置有驱动调节螺杆旋转调节的驱动机构，所述托盘的上端活动设置有用于安装晶圆的固定衬套。本实用新型能够根据实际的使用需要调整承载晶圆的平面的高度，使得晶圆的上表面与石墨基座的上表面齐平，避免了气体从石墨基座流到晶圆表面时发生绕流现象，从而提高晶圆的生产质量。
一种优化气体石墨基座

[实用新型]一种气相沉积炉内气体悬浮装置-CN202320218194.7有效
发明人：何少龙;丁柳宁;盛锋锋;周李伟 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2023-02-15 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种气相沉积炉内气体悬浮装置，包括底座和石墨盘，底座上设有主进气孔、第一分气孔、第二分气孔、第一倾斜出气孔和第二倾斜出气孔，底座的上表面中部开设有阶梯安装孔，主进气孔与阶梯安装孔的下部一侧连通，第一分气孔和第二分气孔分别设置于阶梯安装孔的中部两侧，阶梯安装孔内设置有用于阻挡气体直接从阶阶梯安装孔的下部型腔进入中部型腔的阻挡块，阻挡块上端连接有用于推动石墨盘悬浮的推杆，推杆的上端外侧套设有与底座固定连接的限位导向套。本实用新型能够避免因第一和第二倾斜出气孔排气量出现偏差造成的石墨盘无法悬浮，提高了装置的实用性。
一种沉积气体悬浮装置

[实用新型]一种实现可计量晶圆片数的晶圆载体联动传输装置-CN202320252511.7有效
发明人：何少龙;丁柳宁;盛锋锋 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型公开的属于半导体工艺设备技术领域，具体为一种实现可计量晶圆片数的晶圆载体联动传输装置，包括底架组件、联动传递构件与晶圆片载体构件，所述底架组件安装于联动传递构件顶部，所述晶圆片载体构件安装于底架组件顶部，本实用新型通过将无杆气缸、双杆气缸与回转气缸连接，使得本实用新型同时具备了水平移动、垂直移动以及旋转功能，进行翻转时，通过齿轮带动齿轮旋转，齿轮通过与齿纹啮合连接带动弯板三进行旋转，通过弯板三通过横梁带动弯板一与弯板二整体旋转，使连接于横梁底部的晶圆支撑座进行角度调整，晶圆支撑座底部开设有底槽，所述底槽外壁设有计数器组件，具有晶圆片在不同相对位置时进行计数与偏转角度的效果。
一种实现计量晶圆片数载体联动传输装置

[发明专利]一种碳化硅纳米管的制备方法-CN202211710414.4在审
发明人：何少龙;周李伟 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： B01J19/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种碳化硅纳米管的制备方法，涉及到纳米材料制备技术领域，所述碳化硅纳米管的制备方法通过碳化硅纳米管的制备设备实现，所述碳化硅纳米管的制备设备包括反应釜，所述反应釜顶部两侧均设置有物料滴加机构，所述反应釜顶部以及反应釜内部共同设置有驱动烘干机构，所述驱动烘干机构外侧由下至上依次设置有液体封堵机构、搅拌推料机构和气体封堵机构，所述搅拌推料机构外侧设置有悬挂式过滤机构。本发明无需对物料多次转运，可以快速固体物的制备以及预处理，提高碳化硅纳米管生产效率的同时降低其生产难度以及生产成本，更加适用于碳化硅纳米管的工业化生产。
一种碳化硅纳米制备方法

[实用新型]一种石墨盘基座-CN202222573861.1有效
发明人：何少龙;周李伟;盛锋锋 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2022-09-27 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： C30B25/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种石墨盘基座，涉及石墨盘技术领域。本实用新型包括支撑板和托板，支撑板上表面与托板底面焊接，托板上表面开设有安装槽，安装槽内侧壁焊接有若干驱动电机，驱动电机输出端焊接有副锥形齿轮，安装槽上表面转动连接有主锥形齿轮，主锥形齿轮与副锥形齿轮相啮合。本实用新型通过设置支撑板、托板、安装槽、驱动电机、副锥形齿轮、主锥形齿轮、转杆、螺纹杆、连接盘、石墨盘本体、凹槽和伸缩杆能够实现通过驱动电机带动副锥形齿轮转动，主锥形齿轮带动转杆转动，转杆带动螺纹杆转动，连接盘开始上升，连接盘上升过程中伸缩杆向上拉伸的作用，极大地提升了石墨盘本体使用的便捷性。
一种石墨基座

[实用新型]一种利用热CVD法的碳化硅沉积处理设备-CN202223070775.5有效
发明人：何少龙;周李伟;盛锋锋 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2022-11-17 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种利用热CVD法的碳化硅沉积处理设备，包括炉体，炉体内设置有工件托板，工件托板的上表面左右两侧均开设有导向滑槽，导向滑槽内滑动设置有顶紧弹簧，顶紧弹簧的一侧设置有滑块，两块滑块相互靠近一端的上侧设置有推块，两块滑块的一侧设置有用于驱动工件转动的驱动辊组件，工件托板上表面的前后两侧均均匀设置有与驱动辊组件相匹配的辅助滚柱，炉体的上端设置有箱炉内注气的输气组件。本实用新型能够使得管状基体旋转运动，避免管状基体的表面与支承装置有接触点无法有效的沉积到碳化硅涂层，便于管状基体不便于快速的装卸，提高了碳化硅沉积的工作效率。
一种利用 cvd 碳化硅沉积处理设备

[实用新型]一种耐高温过滤管-CN202222968053.5有效
发明人：何少龙;周李伟;盛锋锋 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2022-11-08 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： F28D7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种耐高温过滤管，属于过滤管技术领域。一种耐高温过滤管，包括波纹管，所述波纹管左壁连接有耐高温管，所述耐高温管左端连接有弯管，所述弯管上方设有降温组件，所述降温组件包括降温管，所述降温管顶面中部开设有竖槽，所述降温管顶面相对于竖槽外侧方的位置开设有边槽，所述边槽为环形结构。本实用新型能对内部通过的烟气进行很好的降温处理，废气中的这些余热不仅会被导入到水中防止污染大气，而且在螺旋状烟道的设置下能使得烟气可充分接受降温，大大增强了对环境的保护。
一种耐高温过滤

[实用新型]一种分区段晶圆片载体-CN202221450308.2有效
发明人：何少龙;盛锋锋;丁柳宁 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2022-06-10 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： B24B37/27 文献下载
摘要：本实用新型公开的属于晶圆片技术领域，具体为一种分区段晶圆片载体，包括扇形承载盘构件与载体构件，所述扇形承载盘构件设有三组，三组所述扇形承载盘构件对称设置，拼装成圆盘状的可拆式载体，所述扇形承载盘构件内壁安装有载体构件，所述载体构件包括限位盘组件，本实用新型通过马达驱动齿轴旋转，齿轴带动齿轮一旋转，齿轮一通过内齿带动六组齿轮二旋转，齿轮二与士型条的齿纹啮合，使士型条带动六组扇型托板向外呈扩散状移动，并且移动距离大于限位架的通孔一的直径，使通孔一内的晶圆片掉落至石墨筒内，通过石墨筒掉落至研磨转盘上，具有在不接触晶圆片进行运输的的效果。
一种区段晶圆片载体

[实用新型]一种带分流盘的CVD沉积炉装置-CN202221537493.9有效
发明人：何少龙;周李伟;丁柳宁 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2022-06-20 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种带分流盘的CVD沉积炉装置，属于CVD技术领域。一种带分流盘的CVD沉积炉装置，包括固定座，所述固定座内侧底面中部固设有托板，所述托板内侧底面边缘处嵌设有密封条，所述托板内侧底面中部固设有底座，所述托板上方设有分流组件。本实用新型能使得待加工物件侧壁的镀膜也足够的均匀，以此还能加强CVD沉积操作的速度，避免因侧壁高度差而影响到沉积加工的时间，实用性强。
一种分流 cvd 沉积装置

[实用新型]一种化学气相沉积炉的基体支撑装置及基体旋转驱动装置-CN202221711185.3有效
发明人：何少龙;丁柳宁;盛锋锋 -专利权人： 浙江六方碳素科技有限公司
申请日： 2022-06-28 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学气相沉积炉的基体支撑装置，包括连接板，连接板的上表面中部开设有第一安装凹槽，连接板的上表面均匀开设有第二安装凹槽，若干第二安装凹槽以第一安装凹槽为中心星型分布，第二安装凹槽内转动设置有调节螺杆，调节螺杆的外侧套设有与第二安装凹槽相匹配的螺纹套，支撑架设置于螺纹套的上侧，第一安装凹槽内设置有同步驱动若干调节螺杆的驱动组件，该基体支撑装置能够根据基体的规格尺寸快速调整，同时还公开了一种化学气相沉积炉的基体旋转驱动装置，包括转盘和驱动连接板和转盘旋转运动的驱动机构以及基体支撑装置，转盘的下端转动设置有支架，转盘的上部均匀开设有与基体支撑装置相匹配的安装槽。
一种化学沉积基体支撑装置旋转驱动

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