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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]显影处理装置和显影处理方法-CN202110539078.0在审
发明人：佐田彻也;永田广;麻生丰;藤原真树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-05-18 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供能够抑制基片的产品缺陷的显影处理装置和显影处理方法。实施方式的显影处理装置包括运送机构、送入部、显影部和气体供给部。运送机构平流地运送抗蚀剂膜的一部分被曝光了的基片。送入部能够供基片送入。显影部具有显影液供给嘴，该显影液供给嘴对由运送机构从送入部运送的基片的表面供给显影液。气体供给部设置在送入部，向显影液供给嘴倾斜地供给气体。
显影处理装置方法

[发明专利]基片处理装置和基片处理方法-CN201910530951.2在审
发明人： 永田广;西山淳;藤原慎;藤原真树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-06-19 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够缩短基片处理装置在基片输送方向的长度的技术。实施方式的基片处理装置包括可动工作台和工作台移动机构。可动工作台具有能够输送用处理液浸湿了的基片的输送机构。工作台移动机构能够使可动工作台至少在上下方向移动。
工作台可动工作台移动机构基片处理装置基片输送方向上下方向移动浸湿输送机构处理液

[发明专利]基片处理装置和基片处理方法-CN201910509871.9在审
发明人：佐田彻也;永田广;麻生丰 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-06-13 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种能够提高显影的均匀性的技术。实施方式的基片处理装置包括输送机构、显影液槽和供给嘴。输送机构平流地输送在表面形成有被曝光了的光致抗蚀剂膜的基片。显影液槽将由输送机构输送的基片浸渍在显影液中。供给嘴将显影液供给到被从显影液槽内的显影液中输送至外部的基片。
输送机构显影液槽显影液浸渍光致抗蚀剂膜基片处理装置显影液供给表面形成均匀性平流显影曝光外部

[发明专利]减压干燥装置-CN201010516316.8无效
发明人：池田文彦;三根阳介;大西辰己;永田广 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-10-18 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种减压干燥装置，通过滚轮搬送高效、安全且顺畅地进行基板的搬入、搬出，在减压干燥处理中通过任意粗度的销对基板进行支承，并尽可能抑制在基板上的涂敷膜附着基板接触部的转印痕迹。该减压干燥单元(12)将进行被处理基板(G)的平流搬送的滚轮搬送路径(38B)引入到腔室(40)内，利用基板升降机构(60)在腔室(40)内使基板(G)通过升降销(62)进行上下。而且，在比升降销(62)的销前部稍低(通常10mm以下)的位置上水平设置有遮蔽板(100)，能够通过遮蔽板升降机构(102)使该遮蔽板(100)的高度位置可变。
减压干燥装置

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共 4 条

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