专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体装置的制造方法-CN201780028064.4有效
  • 本田一尊;茶花幸一;佐藤慎;永井朗 - 昭和电工材料株式会社
  • 2017-04-10 - 2022-01-07 - H01L21/60
  • 本发明公开一种半导体装置的制造方法,所述半导体装置为具备具有连接部的半导体芯片和具有连接部的配线电路基板、且各自的连接部相互电连接的半导体装置,或为具备具有连接部的多个半导体芯片且各自的连接部相互电连接的半导体装置。连接部由金属构成。上述方法具备:(a)第一工序,将半导体芯片和配线电路基板、或将半导体芯片彼此以中间隔着半导体用粘接剂的状态,在低于连接部的金属的熔点的温度下,按照各自的连接部相互接触的方式压接,获得临时连接体;(b)第二工序,使用密封用树脂将临时连接体的至少一部分密封,获得密封临时连接体;以及(c)第三工序,将密封临时连接体以大于或等于连接部的金属的熔点的温度加热,获得密封连接体。
  • 半导体装置制造方法
  • [实用新型]层叠体和半导体装置-CN201320085513.8有效
  • 本田一尊;永井朗;佐藤慎 - 日立化成株式会社
  • 2013-02-25 - 2014-09-10 - H01L23/485
  • 本实用新型提供一种层叠体和半导体装置。所述层叠体是在半导体晶片的主面上层压含焊剂的树脂薄膜而得到的层叠体,所述半导体晶片的该主面上具有被氧化膜被覆的连接端子,所述层叠体具备:由前述树脂薄膜形成的树脂组合物层;以及利用前述焊剂将前述氧化膜的至少一部分还原除去,从而使前述连接端子的至少一部分在前述树脂组合物层中露出的前述半导体晶片。
  • 层叠半导体装置
  • [发明专利]粘接剂组合物-CN201410247168.2有效
  • 川上晋;永井朗 - 日立化成株式会社
  • 2010-11-05 - 2014-09-03 - C08G59/68
  • 本发明涉及粘接剂组合物,所述粘接剂组合物含有(A)下述通式(I)所表示的碘鎓盐化合物、(B)自由基聚合引发剂、(C)阳离子聚合性物质和(D)成膜性聚合物,R1-I+-R2 Y- (I)式中,R1和R2各自独立地表示取代或未取代的芳基,Y表示阴离子残基,其中,以该粘接剂组合物的总量为基准,所述粘接剂组合物中含有的能够进行自由基聚合的乙烯基化合物的含量为0质量%。
  • 粘接剂组合

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