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- [实用新型]垫材存放结构及设备维护推车-CN202321168986.4有效
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杨俊男;闫晓晖
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上海积塔半导体有限公司
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2023-05-15
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2023-10-20
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B65D25/10
- 本实用新型提供了一种垫材存放结构。所述垫材存放结构包括：设置在同一平面内的对置的固定架，用于从侧面固定垫材；第一垫架，所述第一垫架设置于所述固定架下方，所述第一垫架用于从底部支撑垫材；第二垫架，所述第二垫架可移动地设置于所述第一垫架与所述固定架之间，所述第二垫架用于从底部支撑折叠后的垫材。以上技术方案，设置第一垫架在固定架下方从而实现在底部支撑垫材，第二垫架可移动地设置于所述第一垫架与所述固定架之间，从而实现在底部支撑折叠后的垫材。对垫材进行竖直存放，并且设置了可支撑折叠存放垫材的第二垫架，可以对垫材进行合理收纳，从而实现节约空间的目的。
- 存放结构设备维护推车
- [实用新型]研磨设备的保湿装置-CN202321199878.3有效
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赵标;杨俊男;闫晓辉
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上海积塔半导体有限公司
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2023-05-17
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2023-10-17
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B24B37/34
- 本申请提供一种研磨设备的保湿装置，涉及研磨设备的技术领域，其包括水槽、阀门组件及软管；水槽设置在整修器手臂顶端，水槽的顶部凸起于水槽的其余部位，水槽的顶部设置有第一溢水口，第一溢水口使得水槽内储存的液体从顶部向水槽外部的两侧溢出；软管与水槽及阀门组件连通，软管用于向水槽内输送液体，阀门组件用于控制水槽的进液量；当整修器手臂摆动时，软管跟随整修器手臂摆动。通过在整修器手臂的顶端设置水槽，一方面可以对整修器手臂及其它部位进行保湿，另一方面，水槽的位置不会对耗材的维护产生影响，无需在耗材维护过程中拆卸并挪动位置，进而不存在重装后喷杆朝向安装错误的情况，有效减少停机时间，提高耗材更换的便利性。
- 研磨设备保湿装置
- [实用新型]晶圆测速装置-CN202321281950.7有效
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顾浩;杨俊男;闫晓晖
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上海积塔半导体有限公司
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2023-05-24
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2023-09-08
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G01P1/00
- 本实用新型提供了一种晶圆测速装置。所述晶圆测速装置包括：腔室，所述腔室用于放置待测晶圆；一对驱动轮，所述一对驱动轮设置于所述腔室内并对置于所述待测晶圆的两侧，用于驱动所述待测晶圆旋转；测速轮，所述测速轮设置于所述腔室内并与所述待测晶圆相接触，用于对所述待测晶圆进行测速；可伸缩部件，所述可伸缩部件固定于所述腔室内并与所述测速轮固定连接，用于使所述测速轮与所述待测晶圆保持接触。上述技术方案通过设置与测速轮固定连接的可伸缩部件，可以使测速轮与待测晶圆保持接触，从而主动去匹配与驱动轮之间的相对位置，实现测速轮位置的自适应调节。
- 测速装置
- [实用新型]气路结构及气路控制系统-CN202320443719.7有效
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顾浩;杨俊男;闫晓晖
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上海积塔半导体有限公司
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2023-03-09
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2023-08-08
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B24B37/34
- 本实用新型提供一种气路结构以及气路控制系统。气路结构包括：气源；第一真空发生器通过第一管路连接至气源；第二真空发生器通过第二管路连接至第一管路；吸附装置设置于第一、第二真空发生器远离气源的一端；第一、第二真空发生器与气源之间均设置有气压调节阀，以独立控制气流量进而稳定吸附装置的真空状态；第三真空发生器通过第三、四管路连接至气源，且第三管路上设置有常开阀，第四管路上设置有常闭阀和节流阀；第四真空发生器，通过第五、第六管路连接至气源，且第五管路上设置有常开阀，第六管路上设置有常闭阀和节流阀。上述技术方案使每一管路能够独立地控制气流量，进而稳定吸附装置的真空状态，避免真空波动造成的影响。
- 结构控制系统
- [实用新型]半导体清洁腔调整装置-CN202320778753.X有效
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赵标;杨俊男;闫晓辉
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上海积塔半导体有限公司
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2023-04-07
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2023-08-08
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H01L21/67
- 本实用新型提供了一种半导体清洁腔调整装置，用于调整半导体清洁腔的腔体位置，包括：动力机构，用于响应于一外部操作指令以为调整半导体清洁腔的腔体位置提供第一类型动力或第二类型动力；传动机构，连接至所述动力机构，用于根据所述第一类型动力或第二类型动力传递对应的运动及转矩；调整机构，连接至所述传动机构，用于根据所述运动及所述转矩调整所述半导体清洁腔在竖直方向的位置或在水平方向的位置。能够在半导体清洁腔处于工作状态时对其进行调整，解决了现有技术中将清洁腔通过螺丝固定在清洁框架上时需要依靠人力来回拧动顶丝或拉丝装置及涉及到清洁腔的腔体后部操作时需要关停机器以进行调整的问题，节约了时间成本，避免因上述问题减少生产产能。
- 半导体清洁腔调整装
- [实用新型]气液分离装置及化学抛光装置-CN202223181553.0有效
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杨俊男;闫晓晖
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上海积塔半导体有限公司
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2022-11-29
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2023-06-23
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B01D45/02
- 本实用新型涉及一种气液分离装置及化学抛光装置，气液分离装置包括：输入管道，输入管道的输入口连通容纳腔；排气管道，排气管道的输入口连通输入管道的输出口；及缓冲管道，缓冲管道的输入口连通输入管道的输出口；其中，缓冲管道靠近输入管道的一侧设有第一拐角，缓冲管道远离输入管道的一侧设有第二拐角；在第一方向上，第一拐角位于第二拐角的下游；第一方向为重力方向。上述气液分离装置，通过设置缓冲管道，且缓冲管道的输入口连通输入管的输出口，缓冲管道能够为待分离气液中的液体提供一个较大的缓冲空间，以避免在液体流量较大时，液体出现反流而倒流进输入管道，同时也能够避免液体流向排气管道内，防止液体封堵排气管道。
- 分离装置化学抛光
- [实用新型]悬挂梁装置及晶圆承载设备-CN202320138121.7有效
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赵标;杨俊男;闫晓辉
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上海积塔半导体有限公司
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2023-01-13
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2023-06-09
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H01L21/687
- 本实用新型提供一种悬挂梁装置及晶圆承载设备，所述悬挂梁装置悬挂梁装置，应用于晶圆薄膜制造工艺，所述悬挂梁装置包括：悬挂梁框架，具有层叠设置的第一腔体及第二腔体；旋转机构，所述旋转机构设置于所述第一腔体与所述第二腔体之间，并承载所述第二腔体，以使得所述第二腔体可通过所述旋转机构相对于所述第一腔体旋转，以对设置于所述第二腔体内部的模块进行维护。上述技术方案，通过在所述第一腔体与所述第二腔体之间设置所述旋转机构，使得所述第二腔体可以通过旋转机构相对于所述第一腔体进行水平旋转，避免了在对所述悬挂梁装置进行维护时，由于所述悬挂梁装置结构固定以及第一腔体及第二腔体的空间限制导致的视觉受限及维护不便的问题。
- 悬挂装置承载设备
- [发明专利]晶圆研磨传送方法、系统及存储介质-CN202211556694.8在审
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杨俊男;闫晓晖
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上海积塔半导体有限公司
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2022-12-06
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2023-03-31
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B24B37/34
- 本申请提供一种晶圆研磨传送方法、系统及存储介质，其中，晶圆传送机构用于将每个待处理晶圆进行一次传送，并传送至传输单元的上下头位置；传输单元接收晶圆传动机构传送的待处理晶圆，并将研磨设备中的研磨头传输至拿取位置；研磨设备用于接收研磨头拿取的待处理晶圆，对待处理晶圆进行研磨。本说明书实施例的晶圆研磨传送过程保证晶圆的上下头位置只有一个，从而机械手仅做一次晶圆的拿取与放下，在晶圆研磨头交接时可将晶圆直接从一研磨设备转移至另一研磨设备，减少晶圆往复放置或搁置的次数节约耗时，如每片晶圆研磨头交接时节省大于20秒的时间，从而大大提高研磨效率，提升晶圆研磨产能。
- 研磨传送方法系统存储介质
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