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[发明专利]用于测量颗粒的方法和设备-CN201980059751.1在审
发明人：阿米尔·A·亚西尔;吉里什·M·洪迪;约翰·迈克尔·克恩斯;杜安·奥特卡;约翰·多尔蒂;克利夫·拉克鲁瓦 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2019-09-05 - 公布日： 2021-04-23 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：提供了一种用于测量部件的关键表面上的污染的设备。提供了用于安装所述部件的容器。惰性气体源与所述容器流体连接且适用于提供惰性气体到所述容器。至少一个扩散器接收来自所述容器的所述惰性气体，其中当所述部件安装在所述容器中时，所述部件的所述关键表面暴露于所述惰性气体。至少一个分析器适用于接收来自所述至少一个扩散器的所述惰性气体且测量所述惰性气体中的污染物。
用于测量颗粒方法设备

[发明专利]用于调节陶瓷涂层的方法-CN201980044840.9在审
发明人：石洪;宾晓明;杜安·奥特卡;埃里克·A·派普;格雷戈里·A·皮尔格林;吉里什·M·洪迪;克利夫·拉克鲁瓦 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2019-07-01 - 公布日： 2021-02-19 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：提供了一种用于调节在等离子处理室中使用的部件上的陶瓷涂层的方法。用溶液润湿该陶瓷涂层，其中通过将溶剂与电解质混合形成该溶液，其中1％至10％的电解质在该溶液中解离。用颗粒喷射该陶瓷涂层。冲洗该陶瓷涂层。
用于调节陶瓷涂层方法

[发明专利]选择性图案化用于抗等离子体陶瓷涂层施加的表面的方法-CN201910089596.X在审
发明人：阿米尔·A·亚西尔;杜安·奥特卡;石洪;约翰·多尔蒂 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2019-01-30 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及选择性图案化用于抗等离子体陶瓷涂层施加的表面的方法。提供一种为用于等离子体处理室中的部件提供抗等离子体陶瓷涂层的方法。在部件上放置图案化的掩模。在部件上沉积膜。去除图案化的掩模。在部件上施加抗等离子体陶瓷涂层。
等离子体陶瓷选择性图案化涂层施加图案化掩模等离子体处理室沉积膜去除施加

[发明专利]调节室部件-CN201810413115.1在审
发明人：阿米尔·A·亚西尔;石洪;约翰·多尔蒂;杜安·奥特卡;许林;阿芒·阿沃扬;克利夫·拉克鲁瓦;吉里什·洪迪 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2018-05-03 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本发明涉及调节室部件。提供了一种用于调节处理室的部件的装置。提供了一种保持兆频超声波调节溶液的罐。支架在罐被兆频超声波调节溶液填充时保持浸入兆频超声波调节溶液中的部件。兆频超声波调节溶液入口系统将兆频超声波调节溶液输送到罐。兆频超声波换能器头包括至少一个兆频超声波换能器，以向兆频超声波调节溶液提供兆频超声波能量，其中将兆频超声波能量通过兆频超声波调节溶液输送到部件。兆频超声波调节溶液排放系统在将部件保持在兆频超声波调节溶液中的位置上方的位置处从罐中排出兆频超声波调节溶液。致动器使兆频超声波换能器头移动通过罐。
超声波调节超声波换能器兆频超声波能量溶液输送室部件溶液排放系统部件保持溶液入口溶液填充浸入位置处致动器排出支架移动

[发明专利]湿洗铝腔室部件的方法-CN201310653292.4有效
发明人：石洪;施范章;布莱恩·麦科米林;约翰·多尔蒂;方言;杜安·奥特卡;黄拓川;斯瓦卡米·拉马纳坦 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2013-12-05 - 公布日： 2014-07-09 - 主分类号： C25D11/18 文献下载
摘要：本发明提供了一种湿洗铝腔室部件的方法，也即湿洗铝部件的方法，该铝部件具有裸铝表面和阳极氧化的铝表面。该方法包含：以约35至约45psi向铝部件的表面喷射CO₂干冰；遮蔽铝部件以隐藏裸铝表面；将被喷射干冰并被遮蔽的铝部件浸泡在约60℃或约60℃以上的去离子水中；在完成在去离子水中的浸泡后，用研磨垫和去离子水擦洗铝部件；以及以所列举的顺序重复所述浸泡和擦洗至少附加的3次。
湿洗铝腔室部件方法

[发明专利]用于气体输送系统的涂布的方法-CN201180020177.2有效
发明人：伊恩·肯沃西;杜安·奥特卡;郝方力;伦纳德·沙普利斯;杜义军 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2011-04-15 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：一种涂布用于等离子体工艺系统的气体输送系统的气体通道的内表面的方法，该等离子体处理系统诸如等离子体蚀刻系统，该方法包括（a）使耐腐蚀材料的流体前驱体流动通过气体通道，并沉积流体前驱体的层完全地覆盖该气体通道的内表面；（b）从内表面去除过量的流体前驱体；（c）固化该流体前驱体的沉积层，以形成耐腐蚀的材料涂层。
用于气体输送系统方法

[发明专利]清洁硅电极的沉浸式氧化和蚀刻方法-CN200980148885.7有效
发明人：凯瑟琳·周;杜安·奥特卡;阿尔曼·阿沃杨;宏·石 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-12-10 - 公布日： 2011-12-07 - 主分类号： H05H1/34 文献下载
摘要：提供了一种清洁硅电极的方法，其中所述硅电极浸泡在搅动的含水清洁剂溶液中，去除所述含水清洁剂溶液后用水冲洗。所述经冲洗的硅电极浸泡在搅动异丙醇(IPA)溶液中，然后冲洗。所述硅电极在去除所述IPA溶液后在水中经受超声清洁操作。然后通过将所述硅电极浸泡在搅动的混酸溶液中去除所述硅电极的污染物，所述混酸溶液包括氢氟酸、硝酸、醋酸以及水。所述硅电极在去除所述混酸溶液后在水中经受附加超声清洁操作，随后冲洗并干燥。在本披露的其他实施方式中，也考虑所述硅电极可浸泡在所述搅动的含水清洁剂溶液中、所述搅动的异丙醇溶液中或二者中。考虑、披露以及要求保护其他的实施方式。
清洁电极沉浸氧化蚀刻方法

[发明专利]用于促进硅电极抛光的盘和适配器组件-CN200980149391.0有效
发明人：阿尔曼·阿沃杨;杜安·奥特卡;凯瑟琳·周;宏·石 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-12-10 - 公布日： 2011-11-16 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：提供了一种用抛光转盘和双功能电极盘抛光硅电极的方法。所述双功能电极盘固定于所述抛光转盘且包括多个设置为伸出于所述双功能电极盘的电极接合面的电极固定件。所述电极固定件与成形于待抛光的所述硅电极的盘接合面的固定件插座的各位置互补。所述电极固定件和所述固定件插座配置为允许所述电极盘的所述电极接合面和所述硅电极的所述盘接合面的无破损地接合和解离。所述双功能电极盘进一步包括位于所述电极固定件径向向内的盘适配器拱座。所述盘适配器拱座配置为使盘适配器与所述旋转抛光轴近似对准。所述硅电极通过以下方式抛光(i)经由所述电极固定件和所述固定件插座接合所述电极盘的所述电极接合面和所述硅电极的所述盘接合面，(ii)利用所述抛光转盘施加旋转运动于已接合的所述硅电极，和(iii)当所述硅电极关于所述旋转抛光轴旋转时将所述硅电极的暴露表面与抛光表面接触。也考虑、公开和要求保护附加的具体实施方式。
用于促进电极抛光适配器组件

[发明专利]周边啮合电极载架以及包含所述载架的总成-CN200980125831.9有效
发明人：杰森·奥古斯蒂诺;阿芒·阿沃扬;方言;杜安·奥特卡;石洪;斯特芬·惠藤 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-06-26 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H05H1/34 文献下载
摘要：根据本公开的一种实施方式，提供了一种包含多部件电极和周边啮合电极载架的总成。所述周边啮合电极载架包含托架和多个往复电极支座。所述多部件电极位于所述托架的所述电极安装孔里。所述电极的所述垫板包含多个形成于其周边的安装凹口。所述往复电极支座可以往复进出所述安装凹口。范围较宽和较窄的其它实施方式是可以预料的。
周边啮合电极以及包含述载架总成

[发明专利]整修多部件电极的方法-CN200980125834.2有效
发明人：阿芒·阿沃扬;方言;杜安·奥特卡;石洪;斯特芬·惠藤 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-06-23 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H05H1/34 文献下载
摘要：本发明提供了一种整修多部件电极的方法，所述多部件电极包含连接在导电垫板上的硅电极。所述方法包括：(i)去除多部件电极上的金属离子，所用方法为将多部件电极在基本上无醇的并且包含硫酸、过氧化氢和水的磷酸氢二钠(DSP)溶液中浸泡，接着用去离子水清洗所述多部件电极；(ii)去除所述多部件电极上的金属离子后，将所述多部件电极抛光；并且(iii)去除所述多部件电极硅表面的杂质，所用方法为用包含氢氟酸、硝酸、醋酸和水的混合酸溶液处理所述已抛光的多部件电极，接着用去离子水清洗所述经处理的多部件电极。范围更宽和更窄的其它实施方式是可以预料的。
整修部件电极方法

[发明专利]背面安装电极载架和结合该载架的组件-CN200980126144.9有效
发明人：杰森·奥古斯蒂诺;阿芒·阿沃扬;方言;杜安·奥特卡;石洪;斯特芬·惠藤 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2009-06-26 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H05H1/38 文献下载
摘要：提供一种载架组件，包括背面安装电极载架和电极安装硬件。该背面安装电极载架包括电极容纳孔，其转而包括构造为限制设在该孔中的电极的横向移动的侧壁结构。该电极容纳孔进一步包括一个或多个侧壁突出部，其支撑设在该孔中的电极的重量。该电极安装硬件构造为从该载架的背面啮合设在该电极容纳孔中的电极，并且促使该电极抵靠该侧壁突出部以便限制在该电极容纳孔中的电极的轴向移动。还考虑范围更广和更窄的额外实施方式。
背面安装电极结合组件

[发明专利]密封等离子处理室的氧化钇等离子喷镀涂覆部件的方法-CN201010521844.2有效
发明人：石洪;杜安·奥特卡;刘身健;约翰·多尔蒂 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2008-01-03 - 公布日： 2011-04-06 - 主分类号： H01J9/24 文献下载
摘要：提供密封等离子处理室的氧化钇等离子喷镀涂覆部件的方法。一种方法包括a)施加室温粘度小于50cP的液体厌氧密封剂到该部件的全部氧化钇层表面；b)湿法清洁该部件；c)在N2环境中至少150℃下固化该湿法清洁的部件超过2小时；以及，d)以及通过重复a)到c)的步骤将第二液体厌氧密封剂施加于该固化的基片。
密封等离子处理氧化钇喷镀涂覆部件方法

[发明专利]粘合的硅电极的清洁-CN200880010263.3有效
发明人： 杜安·奥特卡;杰森·奥古斯蒂诺;阿芒·阿沃扬;斯特芬·惠藤;洪·希赫;方言 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2008-03-27 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：清洁等离子体处理室元件的方法，包括用清洁溶液接触该硅表面，同时避免该清洁溶液对该元件的其他表面或区域造成的损害。一种待清洁的示例性等离子体处理室元件是弹性体粘合电极组件，其具有暴露于等离子体的硅表面的硅构件、支撑构件和该硅表面和该支撑构件之间的粘合材料。
粘合电极清洁

[发明专利]延长作为等离子室材料的氧化钇的寿命-CN200880002182.9有效
发明人：石洪;杜安·奥特卡;刘身健;约翰·多尔蒂 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2008-01-03 - 公布日： 2009-11-25 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：提供两种延长作为等离子室材料的氧化钇的寿命的方法。一种方法包括共同烧结双层生坯制造等离子处理室的三层部件，其中。一层包括陶瓷颗粒，第二层包括氧化钇颗粒。该两层在烧结工艺期间密切接触。在优选的实施方式中，该三层部件包括外部氧化钇层，YAG中间层和第二外部氧化铝层。可选地，这些圆盘在烧结工艺期间压在一起。所产生的三层部件孔隙度非常低。优选地，该外部氧化钇层、该YAG中间层和该第二外部氧化铝层任一个的孔隙度小于3％。第二种方法包括通过施加室温粘度小于50cP的液体厌氧密封剂而密封氧化钇等离子喷镀涂覆部件，通过将该密封剂刷涂在该部件所有氧化钇表面上，湿法清洁该部件，在N₂环境中至少150℃下固化该湿法清洁的部件超过2小时；以及通过重复施加该第一涂层所使用的步骤将第二密封剂涂层施加于该固化的基片。
延长作为等离子材料氧化钇寿命

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