|
|
钻瓜专利网为您找到相关结果 34个，建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]基板处理装置-CN201780012578.0有效
-
田锁学;村元僚
-
株式会社斯库林集团
-
2017-03-16
-
2023-09-29
-
H01L21/02
- 基板处理装置将具有由外壁所包围的内部区域，其内部区域通过第一隔壁划分为第一及第二基板搬送区域。基板处理装置具备：第一及第二基板搬送机械手，分别配置于上述第一及第二基板搬送区域；处理单元，与上述第二基板搬送区域邻接设置；控制部，控制上述第一及第二基板搬送机械手的动作；选择性开启电源单元，在关闭上述第一基板搬送机械手的电源的情况下，选择性地开启上述第二基板搬送机械手的电源；控制器，将调整上述第二基板搬送机械手的动作的调整信号输入至上述控制部；与联锁单元，按照各区域分别检测对上述第一及第二基板搬送区域的人的进入，并将对应区域的基板搬送机械手的电源关闭。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN202310285810.5在审
-
根本脩平;正司和大;村元僚
-
株式会社斯库林集团
-
2023-03-22
-
2023-09-26
-
H01L21/67
- 本发明提供在密闭空间中利用处理液处理基板的基板处理装置，缩短其生产节拍时间。该发明具备气氛分离机构，其具有固定在处理腔室的顶棚壁附近的上密闭部件和在上密闭部件的下方侧能够沿铅垂方向移动地设置的下密闭部件，且构成为在处理腔室内能够由下密闭部件及上密闭部件包围从被飞散防止机构包围的空间朝向处理腔室的顶棚壁的空间而形成密闭空间。而且，在铅垂方向通过使下密闭部件下降至下密闭部件的上端部与上密闭部件的下端部一致或局部地重叠的下限位置来形成密闭空间。另一方面，通过使下密闭部件上升到比下限位置靠上方的退避位置来形成用于相对于基板保持部搬入搬出基板的搬送空间。
- 处理装置方法
- [发明专利]基板处理装置-CN202310288031.0在审
-
根本脩平;正司和大;村元僚
-
株式会社斯库林集团
-
2023-03-22
-
2023-09-26
-
H01L21/67
- 本发明提供向旋转的基板供给处理液来处理基板的基板处理装置，其成本低，且抑制跳回液滴，稳定地处理基板。本发明具备：基板保持部，其设置为能够一边吸附并保持基板的下表面中央部，一边绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转；旋转机构，其输出用于使基板保持部旋转的旋转驱动力；处理机构，其向保持于基板保持部的基板供给处理液来处理基板；以及旋转杯部，其设置为能够包围旋转的基板的外周，并且绕旋转轴旋转，且捕集从基板飞散的处理液的液滴。旋转机构还具有将旋转驱动力的一部分作为杯驱动力传递至旋转杯部的动力传递部，通过旋转驱动力使基板保持部及旋转杯部同时进行旋转。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN201880056266.4有效
-
岩尾通矩;村元僚
-
株式会社斯库林集团
-
2018-08-17
-
2023-09-12
-
H01L21/304
- 基板处理装置包含：基板保持单元，包含具有上表面的旋转基座以及立设于所述上表面的多个销，用以通过所述多个销保持基板；阻隔构件，具有：基板对向面，与被所述基板保持单元保持的基板的上表面对向；以及内周面，与被所述基板保持单元保持的基板的外周端以及所述旋转基座的外周端双方对向；旋转单元，使所述旋转基座以及所述阻隔构件绕着预定的旋转轴线旋转；以及正压生成构件，在被所述旋转基座的所述上表面、所述基板对向面以及所述内周面划分的空间中，以能伴随所述阻隔构件以及所述旋转基座中的至少一者的旋转而旋转的方式设置于比所述销还远离所述旋转轴线的位置，且随着所述阻隔构件以及所述旋转基座中的至少一者的旋转将所述正压生成构件的旋转方向后方设定成正压区域。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN202210884878.0在审
-
安武阳介;村元僚
-
株式会社斯库林集团
-
2022-07-26
-
2023-03-28
-
H01L21/67
- 本发明提供一种基板处理装置。在向旋转的基板(9)供给处理液来处理基板(9)的基板处理装置中，在支承基板(9)的下支承体(21)上可分离地载置作为载置构件的上支承体(31)。上支承体(31)通过升降部来升降。上支承体(31)在比基板(9)的外周更靠径向外侧包括第1抵接部(34)。当升降部的第2抵接部(132)上升时，第2抵接部(132)与第1抵接部(34)相接使上支承体(31)上升。当第2抵接部(132)下降时，上支承体(31)载置在下支承体(21)上，第2抵接部(132)与第1抵接部(34)分离，在该状态下下支承体(21)能够旋转。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN202210882203.2在审
-
安武阳介;村元僚
-
株式会社斯库林集团
-
2022-07-26
-
2023-03-28
-
H01L21/67
- 本发明提供一种基板处理装置。在向旋转的基板(9)供给处理液来处理基板(9)的基板处理装置中，在支承基板(9)的下支承体(21)上可分离地载置作为环状构件的上支承体(31)。上支承体(31)覆盖基板(9)的外缘部并且与下支承体(21)一并旋转。上支承体(31)包括与基板(9)的外周以及上支承体(31)的外周在径向上相对置的环状侧壁部(311)、和从环状侧壁部(311)向径向内方扩展且与基板(9)的上表面的外缘部在上下方向上相对置的环状上部(312)。环状上部(312)的开口面积为基板(9)的面积的1/2以上。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN202210877128.0在审
-
安武阳介;村元僚
-
株式会社斯库林集团
-
2022-07-25
-
2023-03-28
-
H01L21/67
- 本发明提供一种基板处理装置。在向旋转的基板(9)的下表面供给处理液来处理基板(9)的基板处理装置中，设置可分离地载置在下支承体(21)上的上支承体(31)、从上支承体(31)向下方突出的、用来把持基板(9)的多个上把持构件(32)、能够使上把持构件(32)与基板(9)的外缘部接触或者分离地移动上把持构件(32)的上把持驱动部(33)。优选地，上把持驱动部(33)利用把持侧磁性体(331)与环状的驱动侧磁性体(332)之间的磁力作用，移动上把持构件(32)。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201680080316.3有效
-
岩尾通矩;村元僚
-
株式会社斯库林集团
-
2016-12-26
-
2022-10-21
-
H01L21/304
- 基板处理装置的基板保持部将基板(9)保持为水平状态。基板旋转机构使基板保持部以沿着上下方向延伸的中心轴J1为中心旋转。顶板(5)与基板(9)的上表面相向，并且以中心轴(J1)为中心旋转。气体供给部向下方空间的径向中央部供给处理环境用气体，该下方空间是顶板(5)的下方的空间。离子生成部(8)生成离子，并向来自气体供给部的处理环境用气体供给该离子。此外，在顶板(5)位于比搬入基板(9)时的位置更靠下方的位置的状态下，使基板保持部与顶板(5)旋转，并且向上述下方空间供给包含离子的处理环境用气体，形成从下方空间的径向中央部向径向外侧扩散的离子气流。由此，能够通过简单的构造对顶板(5)进行除电。
- 处理装置方法
|
