专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种马兰戈尼干燥方法和晶圆处理装置-CN202310820154.4在审
  • 曹自立;刘洪旺;李长坤;韩春宇 - 华海清科股份有限公司
  • 2023-07-06 - 2023-10-13 - F26B11/18
  • 本发明公开了一种马兰戈尼干燥方法和晶圆处理装置,该方法应用于晶圆处理装置,所述晶圆处理装置包括带动喷液嘴和喷气嘴摆动的摆臂,所述马兰戈尼干燥方法包括:第一阶段,喷液嘴从朝向晶圆中心的起始位置开始向晶圆表面供液以进行液膜覆盖,同时喷气嘴在保证不撕破液膜的情况下向外喷气,并且摆臂停留第一预设时间;第二阶段,喷液嘴和喷气嘴跟随摆臂的摆动而移动,同时喷液嘴保持供液,喷气嘴降低喷气流量以避免撕破液膜;第三阶段,当喷气嘴移动至其朝向晶圆中心时,喷气嘴的喷气流量增大至执行马兰戈尼干燥的相应流量,并且摆臂停留第二预设时间。
  • 一种马兰干燥方法处理装置
  • [实用新型]一种晶圆后处理装置-CN202321121719.1有效
  • 李灯;李长坤 - 华海清科股份有限公司
  • 2023-05-11 - 2023-09-29 - H01L21/67
  • 本实用新型提供了一种晶圆后处理装置,包括:箱体;夹持部,设置于所述箱体中,用于竖直限定晶圆的位置;驱动部,其与所述夹持部传动连接,以带动所述夹持部旋转;清洗部,其在晶圆一侧的竖直面内呈扇形摆动,并向晶圆表面喷射漂洗液和/或干燥气体;旋转挡圈,沿晶圆的外周设置以包围晶圆,所述旋转挡圈与晶圆同步旋转;固定挡圈,沿所述旋转挡圈的外周设置。本实用新型中,旋转挡圈与晶圆同向旋转,液滴接触到旋转挡圈内壁后,更易沿着内壁向后排走而不产生溅射;旋转挡圈外侧增加固定挡圈,可以有效阻挡旋转挡圈排液口甩出的液体,使液体沿着固定挡圈内壁流落从固定挡圈排液口排走;此结构可有效改善液滴反溅造成晶圆二次污染。
  • 一种晶圆后处理装置
  • [发明专利]一种晶圆清洗装置-CN202310787611.4在审
  • 陈贺;李长坤;赵德文 - 华海清科股份有限公司
  • 2023-06-30 - 2023-09-22 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种晶圆清洗装置,其包括箱体,其内部设置有溢流槽;支撑组件,其设置于所述溢流槽中,以支撑并带动晶圆旋转;喷液组件,其设置于所述溢流槽中,以朝向溢流槽底部喷射液体;所述溢流槽包括槽主体、整流部和收缩部,所述槽主体为矩形槽体,所述整流部和收缩部依次设置于所述槽主体的上方;所述整流部与收缩部之间设置有振板,其倾斜设置并朝向晶圆发出高频声波;所述整流部为矩形槽体,其内部宽度小于槽主体的内部宽度;经由整流部上移的流体,能够将高频声波剥离的污染物从溢流槽的顶部排出。
  • 一种清洗装置
  • [发明专利]晶圆竖直旋转处理设备及其应用的通风系统-CN202110761694.0有效
  • 曹自立;李灯;申兵兵;李长坤;赵德文 - 华海清科股份有限公司
  • 2021-07-06 - 2023-08-25 - H01L21/677
  • 本发明公开了一种晶圆竖直旋转处理设备及其应用的通风系统,晶圆竖直旋转处理设备包括:用于竖直旋转晶圆的夹持机构、用于输送流体的供给臂、用于在晶圆处理腔室内形成动态气流的通风系统;通风系统包括进气组件和排气组件,外部的气体从设于进风罩下方的进气管路引入并通过进风面板的进风口通入晶圆处理腔室,腔室内的气体从排风背板的排风口进入环形排风罩进行汇集,并通过环形排风罩的底部引出结构向下方的排气管路引出;进风面板上不同面积的进风口按照特定方式分布,进风口为台阶孔形状,其包括位于进气侧的第一通孔和位于出气侧的第二通孔,第一通孔的截面积不同于第二通孔的截面积从而对流经进风口的气体流量进行调节。
  • 竖直旋转处理设备及其应用通风系统
  • [实用新型]一种化学机械抛光系统-CN202320782852.5有效
  • 王凯杰;李灯;李长坤 - 华海清科股份有限公司
  • 2023-04-11 - 2023-07-21 - B24B37/04
  • 本实用新型提供了一种化学机械抛光系统,其包括:前端单元、多组抛光单元和多组后处理单元;所述后处理单元与所述前端单元之间的狭缝空间内配置有行走机构和翻转机构,所述翻转机构竖直承载晶圆并携带晶圆沿所述行走机构直线移动,直至移出所述狭缝空间后将晶圆翻转至水平状态。本实用新型可以减少翻转机构在机台长度方向占用的空间,相比现有的机台模块布局方案,本实用新型合理利用了机台内部空间,留给干燥和清洗等主要功能模块的空间更大,模块的设计、配置和布局具有更高的灵活性、选择性和多样性。
  • 一种化学机械抛光系统
  • [实用新型]一种滚轮组件-CN202320768166.2有效
  • 曹自立;李长坤;宁昭旭 - 华海清科股份有限公司
  • 2023-04-07 - 2023-07-21 - H01L21/67
  • 本实用新型公开了一种滚轮组件,与实现晶圆清洗的箱体耦接,所述滚轮组件包括活动轮、旋转轴、安装座和密封组件;所述密封组件分别与安装座和箱体固定,用于密封安装座与箱体之间的缝隙;所述密封组件包括密封垫、外压环和内压环,内压环将密封垫与安装座固定,外压环将密封垫与箱体固定,内压环位于外压环的内侧。
  • 一种滚轮组件
  • [实用新型]一种晶圆清洗装置-CN202320829377.2有效
  • 申兵兵;李长坤 - 华海清科股份有限公司
  • 2023-04-14 - 2023-07-21 - B08B11/00
  • 本实用新型提供了一种晶圆清洗装置,包括:槽体,其内部形成有供晶圆清洗的容置腔;清洗组件,包括位于晶圆两侧的滚刷;支撑组件,其位于所述清洗组件的下方并与晶圆边缘接触,用于支撑并限定晶圆在竖直平面内旋转;其中,所述支撑组件包括主动轮和测速轮,所述测速轮配置有制动件,所述制动件用于控制所述测速轮停止旋转。本实用新型提供的晶圆清洗装置为测速轮配置了制动件,测速轮的转动轴与制动件的转子相连,当冲洗完成后通过制动件对测速轮进行制动,使得测速轮可以及时止停,防止刮伤晶圆。
  • 一种清洗装置
  • [发明专利]一种滚轮组件-CN202310371425.2在审
  • 曹自立;李长坤;宁昭旭 - 华海清科股份有限公司
  • 2023-04-07 - 2023-07-07 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种滚轮组件,与实现晶圆清洗的箱体耦接,所述滚轮组件包括活动轮、旋转轴、安装座和密封组件;所述密封组件分别与安装座和箱体固定,用于密封安装座与箱体之间的缝隙;所述密封组件包括密封垫、外压环和内压环,内压环将密封垫与安装座固定,外压环将密封垫与箱体固定,内压环位于外压环的内侧。
  • 一种滚轮组件
  • [发明专利]一种晶圆后处理装置-CN202310526495.0在审
  • 李灯;李长坤 - 华海清科股份有限公司
  • 2023-05-11 - 2023-07-04 - H01L21/67
  • 本发明提供了一种晶圆后处理装置,包括:箱体;夹持部,设置于所述箱体中,用于竖直限定晶圆的位置;驱动部,其与所述夹持部传动连接,以带动所述夹持部旋转;清洗部,其在晶圆一侧的竖直面内呈扇形摆动,并向晶圆表面喷射漂洗液和/或干燥气体;旋转挡圈,沿晶圆的外周设置以包围晶圆,所述旋转挡圈与晶圆同步旋转;固定挡圈,沿所述旋转挡圈的外周设置。本发明中,旋转挡圈与晶圆同向旋转,液滴接触到旋转挡圈内壁后,更易沿着内壁向后排走而不产生溅射;旋转挡圈外侧增加固定挡圈,可以有效阻挡旋转挡圈排液口甩出的液体,使液体沿着固定挡圈内壁流落从固定挡圈排液口排走;此结构可有效改善液滴反溅造成晶圆二次污染。
  • 一种晶圆后处理装置
  • [发明专利]一种化学机械抛光系统-CN202310378609.1在审
  • 王凯杰;李灯;李长坤 - 华海清科股份有限公司
  • 2023-04-11 - 2023-06-30 - B24B37/04
  • 本发明提供了一种化学机械抛光系统,其包括:前端单元、多组抛光单元和多组后处理单元;所述后处理单元与所述前端单元之间的狭缝空间内配置有行走机构和翻转机构,所述翻转机构竖直承载晶圆并携带晶圆沿所述行走机构直线移动,直至移出所述狭缝空间后将晶圆翻转至水平状态。本发明可以减少翻转机构在机台长度方向占用的空间,相比现有的机台模块布局方案,本发明合理利用了机台内部空间,留给干燥和清洗等主要功能模块的空间更大,模块的设计、配置和布局具有更高的灵活性、选择性和多样性。
  • 一种化学机械抛光系统

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