专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]媒体客户端、方法、非暂时性数据存储装置-CN201980001149.2有效
  • 徐忠源;李承炯 - 六科股份有限公司
  • 2019-06-07 - 2022-05-17 - H04N21/234
  • 当装置正播出第一媒体流时,所述装置确定用于开始播出第二媒体流代替所述第一媒体流的目标时间。所述装置随后开始流转变过程,所述流转变过程预期花费从最小预期转变持续时间到最大预期转变持续时间之间的任何时间,且所述装置在所确定目标时间之前所述最大预期转变持续时间开始所述转变过程,以帮助确保适时地开始播出所述第二媒体流。此外,所述装置产生和播放转变帧序列持续不确定周期,以帮助掩蔽从所述第一媒体流到所述第二媒体流的转变,所述不确定周期从所述开始之后所述最小预期转变持续时间延长到所述开始之后所述最大预期转变持续时间。
  • 媒体客户端方法暂时性数据存储装置
  • [发明专利]集成电路器件及其制造方法-CN202011005118.5在审
  • 崔宰福;安容奭;李承炯 - 三星电子株式会社
  • 2020-09-22 - 2021-04-06 - H01L21/28
  • 一种制造集成电路器件的方法包括:在衬底上方,形成在与衬底的顶表面平行的第一方向上延伸并且在第二方向上以第一间距布置的第一硬掩模图案;使用第一硬掩模图案作为蚀刻掩模在衬底中形成多个第一沟槽;在多个第一沟槽的内壁上形成多个第一栅电极;在衬底上方,形成在第一方向上延伸并且在第二方向上以第二间距布置的第二硬掩模图案;使用第二硬掩模图案作为蚀刻掩模在衬底中形成多个第二沟槽,该多个第二沟槽中的每个第二沟槽设置在两个相邻的第一沟槽之间;以及在多个第二沟槽的内壁上形成多个第二栅电极。
  • 集成电路器件及其制造方法

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