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[发明专利]一种光掩模版图形的修正方法、装置、设备及介质-CN202310043073.8有效
发明人： 李可玉;罗招龙;王康;刘秀梅;赵广 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2023-01-29 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明涉及半导体技术领域，提供一种光掩模版图形的修正方法、装置、设备及介质，包括：获取初始掩模版图，所述初始掩模版图包括多个稀疏图形；调整某一个所述稀疏图形的所处位置，使得该所述稀疏图形周围满足预设条件；分别获取该所述稀疏图形周围的边缘放置误差的容忍度值；调整该所述稀疏图形周围的边缘放置误差的容忍度值的绝对值之和，使所述绝对值之和小于预设值，该所述稀疏图形位置调整完成；分别调整其余稀疏图形的位置，直至所有稀疏图形位置都调整好后，取得所述所有稀疏图形的位置，生成目标掩模版图。通过本发明公开的一种光掩模版图形的修正方法、装置、设备及介质，能够达到较好的收敛度。
一种模版图形修正方法装置设备介质

[实用新型]一种旅游地图引导牌-CN202123139655.1有效
发明人：张洋;张音音;李可玉;张琰;王政;张思颖 -专利权人：信阳农林学院
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： G09F13/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种旅游地图引导牌，属于旅游设施技术领域。一种旅游地图引导牌，包括引导版和壳体，所述引导版下表面的几何中心处转动连接有支撑柱，所述支撑柱的两侧面固定安装有齿条，所述壳体的内壁对称固定连接有两个滑块，所述支撑柱滑动在两个滑块之间，所述壳体的内部通过轴承转动连接有与齿条相啮合的活动齿轮轴，所述活动齿轮轴的一端固定连接有转盘，所述壳体的内部还滑动连接有与齿条相啮合的固定齿轮轴，所述固定齿轮轴的外表面开设有与壳体相适应的滑槽，所述壳体的外表面固定连接有对称的U形板，所述U形板的内部转动连接有支架；本实用新型，本装置操作方便，便于调节旅游地图引导牌的高度。
一种旅游地图引导

[实用新型]一种用于风景园林的花卉保护棚-CN202123375485.7有效
发明人：张琰;王政;张思颖;张春焕;罗志涛;李可玉 -专利权人：信阳农林学院
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： A01G9/16 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种用于风景园林的花卉保护棚，属于保护棚技术领域领域，包括棚体、放置架、转动机构及支撑组件。放置架与棚体两面对称设置，包括支撑板在棚体两面对称设置；搁置板设置在棚体容纳腔的内侧壁上，放置板均设置在支撑板上；放置板上设置有多个容纳槽，每个容纳槽内放置有花盆；转动机构均设置在支撑板一侧，转轴与支撑板固定连接；第一齿轮与第一转轴转动连接；第二齿轮与第二转轴转动连接；电机设置在棚体外部一侧，其输出轴与第一齿轮转动连接；链条与齿轮传动连接，支撑组件用来支撑多个放置架。该组件既能保护观赏的花卉，同时也能让观赏者有更好体验观赏效果。
一种用于风景园林花卉保护

[发明专利]光学邻近修正模型的建模方法-CN202110951888.7有效
发明人：刘秀梅;罗招龙;李可玉;杜远远 -专利权人：南京晶驱集成电路有限公司
申请日： 2021-08-19 - 公布日： 2021-11-26 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供了一种光学邻近修正模型的建模方法，至少包括以下步骤：设计测试图形，并根据所述测试图形制作测试光罩；利用所述测试光罩将所述测试图形转移至晶圆上，在所述晶圆上形成实际图形，并收集所述实际图形的第一晶圆数据；通过所述第一晶圆数据确定离焦量范围；根据所述离焦量范围进行拟合，以建立光学邻近修正模型。即本发明通过提前确定离焦量范围，且在所述光学邻近修正模型的建模的拟合过程中，将离焦量设定在确定的离焦量范围内，可以减少回归处理的时间和次数，缩短光学邻近修正模型的建模时间，提高建模的效率。
光学邻近修正模型建模方法

[发明专利]一种光学临近效应的修正方法及系统-CN202110816830.1有效
发明人：赵广;罗招龙;李可玉;洪银 -专利权人：南京晶驱集成电路有限公司
申请日： 2021-07-20 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学临近效应的修正方法及系统，其包括：获取特征图形，并将所述特征图形排列，形成多个矩阵模型；修正每个所述矩阵模型中的所述特征图形，并获取所述特征图形的平均修正移动量；获取设计图形，并根据所述平均修正移动量修正所述设计图形；获取所述设计图形修正后的光罩图形和边缘放置误差；判断所述边缘放置误差是否小于阈值；当所述边缘放置误差小于所述阈值时，输出所述光罩图形；当所述边缘放置误差大于等于所述阈值时，获取新的所述修正移动量，并根据新的所述正移动量修正所述设计图形。通过本发明提供的一种光学临近效应的修正方法及系统，可减少修正时间以及修正次数。
一种光学临近效应修正方法系统

[发明专利]光学临近修正方法、装置及电子设备-CN202110754593.0有效
发明人：王康;罗招龙;林建佑;李可玉;赵广 -专利权人：南京晶驱集成电路有限公司
申请日： 2021-07-05 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供了一种光学临近修正方法、装置及电子设备。通过以比符合版图掩膜设计规则的第一掩膜规则值小很多的第二掩膜规则值对主图形进行光学临近修正，以使修正后的主图形的收敛度先符合设计要求；之后，再从所述修正后符合收敛度设计要求的主图形中找出不符合第一掩膜规则值的主图形组，并对主图形组中的主图形进行适应性调整，以使调整后的主图形既满足光刻工艺窗口的设计要求，又满足收敛度的设计要求，从而避免了由于掩膜规则值的原因，导致一些特征图形的光刻工艺窗口和收敛度无法兼顾的问题，进而有效的保证了一些特殊图形的收敛度问题，并进一步提升了OPC修正过程中的准确度，以及有效提升了产品良率，最终推进了研发进度。
光学临近修正方法装置电子设备

[发明专利]光强阈值的获取方法以及辅助图形显影情况的检测方法-CN202011185018.5有效
发明人：魏来;罗招龙;李可玉;朱安康;林建佑 -专利权人：南京晶驱集成电路有限公司
申请日： 2020-10-30 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：本发明提供了一种光强阈值的获取方法以及辅助图形显影情况的检测方法，其中所述光强阈值的获取方法包括：在测试光罩上设置测试图形组，所述测试图形包括主图形以及辅助图形，所述测试图形组中的测试图形内的主图形宽度逐渐增大或者减小；利用所述测试光罩进行晶圆的光刻；筛选出辅助图形被显影的测试图形和与其相邻的辅助图形未被显影的测试图形；对筛选出的辅助图形被显影的测试图形和辅助图形未被显影的测试图形进行模拟，以获取两个测试图形内的辅助图形处的最大光强值；将所述辅助图形未被显影的所述测试图形内的辅助图形处的最大光强值设置为光强阈值。将得到的光强阈值设置为OPC模型的阈值，能够提升对辅助图形显影情况检测的准确性。
阈值获取方法以及辅助图形显影情况检测

[发明专利]一种超临界二氧化碳辅助制备多原子层黑磷的方法-CN201510510593.0有效
发明人：晏善成;李可玉;王博骏;胡栋;徐欣;吴建盛 -专利权人：南京邮电大学
申请日： 2015-08-19 - 公布日： 2017-03-08 - 主分类号： C01B25/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种超临界二氧化碳辅助制备多原子层黑磷的方法，是在无氧无水有机溶剂中，以块状黑磷为原料，在超临界二氧化碳辅助条件下随后超声合成了多原子层黑磷，反应温度为40‑70℃、压力为150‑200bar、反应时间180‑240min。该工艺简单，成本低廉，环境友好，所得多原子层黑磷厚度大约几纳米到几十纳米，结晶性好，在晶体管、传感器、太阳能电池、开关、电池电极等领域具有广泛重要的应用前景。
一种临界二氧化碳辅助制备原子黑磷方法

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