专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种整面性透明屏蔽膜-CN202320489118.X有效
  • 李培良;朴成珉 - 安徽精卓光显技术有限责任公司
  • 2023-03-15 - 2023-10-24 - H05K9/00
  • 本实用新型公开了一种整面性透明屏蔽膜,属于屏蔽膜领域,包括:基材层;HC层,叠置于所述基材层;网格层,位于所述HC层背离所述基材层的一侧,且叠置于所述HC层。所述网格层的材料包括铜与铜镍合金中的一种,所述网格层的厚度为5‑10nm,所述网格层的阻抗为10‑30ohm,所述网格层的透过率为70‑80%,所述基材层的材料包括PET、COP、透明PI中的一种,所述基材层的厚度为25‑188um,所述HC层的厚度为0.5‑1um。本实用新型的屏蔽膜能够在保证整面性屏蔽的效果上,同时保证一定的透过率。
  • 一种整面性透明屏蔽
  • [发明专利]制造半导体器件的方法-CN201910210667.7有效
  • 朴成珉;张世明;金奉秀;朴济民 - 三星电子株式会社
  • 2019-03-19 - 2023-07-07 - H01L21/033
  • 本发明涉及制造半导体器件的方法。一种方法包括:通过在衬底上沉积支撑掩模层、多晶硅层和硬掩模层并蚀刻硬掩模层,来形成硬掩模图案;通过使用硬掩模作为蚀刻掩模蚀刻多晶硅层来形成预多晶硅图案;氧化预多晶硅图案的侧表面,以形成多晶硅图案和氧化硅层;形成覆盖氧化硅层的侧面的隔墙图案;在支撑掩模层的顶表面上形成牺牲层,以覆盖氧化硅层和隔墙图案;蚀刻牺牲层和氧化硅层;通过使用多晶硅图案和隔墙图案作为蚀刻掩模蚀刻支撑掩模层来形成支撑掩模图案;以及通过使用支撑掩模图案作为蚀刻掩模蚀刻衬底来形成触发引脚。
  • 制造半导体器件方法
  • [发明专利]一种铜mesh正性光阻蚀刻方法-CN202310167359.7在审
  • 朴成珉;王福来 - 安徽精卓光显技术有限责任公司
  • 2023-02-27 - 2023-06-27 - G03F7/039
  • 本发明公开了一种铜mesh正性光阻蚀刻方法,属于蚀刻领域,包括以下步骤:涂胶,在双面铜膜表面涂布正性光刻胶;前烘,在预设的温度与时间下,使正性光刻胶膜里面的溶剂充分地逸出来,使正性光刻胶膜干燥;曝光,利用光照将掩模版上的图形经过光学系统后投影到正性光刻胶上,实现图形转移;显影,用化学显影液溶解由曝光造成的正性光刻胶的可溶解区域;刻蚀,以偏中性温和蚀刻液通过湿法刻蚀工艺进行光刻腐蚀;去胶,将双面铜膜表面的正性光刻胶去除。本发明,在湿法刻蚀工艺中引入正性光刻胶,能够做出更细线宽、更平滑线边缘及线宽线距均匀性更佳的线路,从而满足更高的可视区透光率及功能可靠性更高的产品。
  • 一种mesh正性光阻蚀刻方法
  • [发明专利]半导体存储器件-CN202211547941.8在审
  • 李基硕;姜泰逵;金根楠;朴成珉;安泰炫;李常铉;张殷硕;郑文泳;郑义撤;崔贤根 - 三星电子株式会社
  • 2022-12-05 - 2023-06-09 - H10B12/00
  • 一种半导体存储器件包括:字线,平行于半导体基板的顶表面延伸;沟道图案,与字线交叉并具有平行于所述顶表面的长轴;位线,垂直于所述顶表面延伸并与沟道图案的第一侧表面接触;以及数据存储元件,与沟道图案的与第一侧表面相反的第二侧表面接触。沟道图案包括与位线相邻的第一掺杂区域、与数据存储元件相邻的第二掺杂区域以及在第一掺杂区域和第二掺杂区域之间并与字线重叠的沟道区域。第一掺杂区域和第二掺杂区域中的至少一个包括与沟道区域相邻的低浓度区域和与沟道区域间隔开的高浓度区域。
  • 半导体存储器件
  • [实用新型]装饰层前置的电致调光功能后盖、电子设备-CN202120042287.X有效
  • 朴成珉;唐根初 - 安徽精卓光显技术有限责任公司
  • 2021-01-07 - 2023-05-19 - G02F1/1334
  • 本实用新型提供一种装饰层前置的电致调光功能后盖、电子设备,所述电致调光功能后盖包括:玻璃基板;依次叠置在玻璃基板非接触侧上的装饰层、电致调光层和着色层,该电致调光层包括层叠设置的第一电极层、聚合物分散液晶层和第二电极层,以及电压控制电路,所述电压控制电路与所述第一电极层和第二电极层电连接,用于调节聚合物分散液晶层的雾度和透光度。本实用新型可以主动通过电压控制聚合物分散液晶层的雾度和透光度,进而与后盖的装饰层配合呈现两种甚至两种以上的外观效果,消费者可以主动控制后盖的外观;将装饰层前置到玻璃基板与聚合物分散液晶层之间,消除PDLC的雾度对装饰层的影响,从而提高整体的ID效果,提高致色效果。
  • 装饰前置调光功能电子设备
  • [发明专利]一种新的纳米压印模具及其制备方法-CN202310194294.5在审
  • 黄运荣;朴成珉;陈靖东 - 安徽精卓光显技术有限责任公司
  • 2023-03-03 - 2023-05-02 - G03F7/00
  • 本发明公开了一种新的纳米压印模具及其制备方法,属于压印模具领域,制备方法包括以下步骤:一体菲林制作,通过光绘机对光刻胶片进行光化学作用,制作可进行曝光的图案形成胶版;菲林曝光,将胶版放置在曝光机平台上,菲林置于胶版的上方,以UV灯管进行均速照射;胶版显影,将曝光好的胶版放到带有显影液的显影槽内,进行浸泡,使其充分反应;胶版镀膜,将显影后的胶版进行镀膜,为电镀做准备;胶版电镀,将胶版进行电镀,制作可以压印的模具;模具检验,检验制成的模具是否合格。本发明,不仅降低生产成本,还降低了生产周期,并在生产大尺寸模具时不需要拼接,可一体式直接曝光,加工方式简单。
  • 一种纳米压印模具及其制备方法
  • [实用新型]一种低方阻金属网格屏蔽膜-CN202222840148.9有效
  • 黄运荣;朴成珉;陈靖东 - 安徽精卓光显技术有限责任公司
  • 2022-10-27 - 2023-03-24 - H05K9/00
  • 本实用新型公开了一种低方阻金属网格屏蔽膜,属于电磁屏蔽技术领域,包括:透明UV胶层,所述透明UV胶层包括相对的第一表面与第二表面,且第一表面具有网格凹槽;屏蔽网,在所述网格凹槽中填充导电材料构成所述屏蔽网,且屏蔽网的网格线长为0.05mm,所述透明UV胶层的第二表面设有透明基材,所述透明基材的材料选用PET,所述透明基材远离透明UV胶层的一面、屏蔽网表面均设有保护膜,所述保护膜选用PE材料,所述导电材料包括铜金属、银金属与ITO中的一种,所述屏蔽网的网格形状为菱形或随机无规则形状。本实用新型,通过减小网格的线长,增加金属网格的密度,进而提升单位面积的方阻实现超低方阻,从而提高屏蔽效果。
  • 一种低方阻金属网格屏蔽
  • [实用新型]一种大尺寸触摸显示装置-CN202222978867.7有效
  • 彭志强;朴成珉 - 安徽精卓光显技术有限责任公司
  • 2022-11-09 - 2023-03-24 - G02F1/1333
  • 本实用新型公开了一种大尺寸触摸显示装置,属于触摸显示领域,包括:整块触控面板,所述整块触控面板包括多个子区域,相邻两个所述子区域最小间隔0.3mm,以及复数条导线位于子区域周边,以及显示模块,覆盖在所述整块触控面板上,所述子区域的数量最多为四个,对应所述整块触控面板的最大尺寸为220寸,所述子区域包括依次叠置的玻璃盖板、金属网格层一、金属网格层二以及液晶面板组件,且金属网格层一、金属网格层二与导线电连接。本实用新型,采用模具组合的形式从触控sensor状态将一整块sensor就分为多个子区域,相邻区域的间隙能够达到0.3mm,不影响间隔区域触摸使用,有效提高用户的使用体验。
  • 一种尺寸触摸显示装置
  • [实用新型]一种无基材屏蔽膜-CN202222780655.8有效
  • 黄运荣;朴成珉 - 安徽精卓光显技术有限责任公司
  • 2022-10-21 - 2023-02-28 - H05K9/00
  • 本实用新型公开了一种无基材屏蔽膜,属于屏蔽膜领域,包括:透明UV胶层,所述透明UV胶层包括相对的第一表面与第二表面,且第一表面具有网格凹槽;导电层,在所述网格凹槽中填充导电材料构成所述导电层,所述导电材料包括铜金属、银金属与ITO中的一种,所述导电层远离透明UV胶层的一面设有OCA光学胶,所述透明UV胶层的厚度为10um,所述导电材料的填充厚度为5um,所述网格凹槽的截面呈梯形,梯形的宽度从远离网格凹槽开口的一侧向另一侧逐渐增大。本实用新型的屏蔽膜,通过采用无基材制作,提升显示产品的透过率,降低产品厚度。
  • 一种基材屏蔽
  • [发明专利]一种无基材屏蔽膜及其制造方法-CN202211293382.2在审
  • 黄运荣;朴成珉 - 安徽精卓光显技术有限责任公司
  • 2022-10-21 - 2022-12-02 - H05K9/00
  • 本发明公开了一种无基材屏蔽膜及其制造方法,属于屏蔽膜领域,方法包括:在透明基材表面压印离型胶;在离型胶表面压印透明UV胶层并形成网格凹槽;在透明UV胶层的网格凹槽中填充导电材料构成导电层;去除透明基材以及离型胶得到无基材屏蔽膜。所述导电材料包括铜金属、银金属与ITO中的一种,所述网格凹槽通过带有图案的模具压印透明UV胶层形成,且图案形状与网格凹槽相匹配,所述导电材料的填充厚度为5um,所述透明基材为PET,所述透明UV胶层的厚度为10um,所述网格凹槽的截面呈梯形,梯形的宽度从远离网格凹槽开口的一侧向另一侧逐渐增大。本发明,通过采用无基材制作,提升显示产品的透过率,降低产品厚度。
  • 一种基材屏蔽及其制造方法
  • [实用新型]一种透明导电膜及触控屏-CN202221251656.7有效
  • 李培良;朴成珉;杜同强 - 安徽精卓光显技术有限责任公司
  • 2022-05-23 - 2022-11-25 - H01B5/14
  • 本实用新型提供一种透明导电膜,包括基材,还包括分别形成于基材两侧的ITO层和金属层,所述ITO层与基材之间还形成有调整IM层,基材形成有金属层的一侧还形成有位于金属层上表面的BM层,基材上下表面均形成有硬涂层,调整IM层形成于硬涂层背离基材一侧,ITO层形成于调整IM层背离硬涂层一侧,所述金属层形成于硬涂层背离基材一侧的表面。本实用新型的透明导电膜利用ITO层与金属层结合在基材两侧的方式有利于降低金属网格的周期,有效降低金属网格造成的摩尔干涉纹的风险,优化显示效果,提升产品使用体验,同时结合调整IM层和BM层的设置,可进一步提升产品的视觉效果;此外,利用金属层具有方阻低的特点可以提高产品的触控效果。
  • 一种透明导电触控屏
  • [实用新型]一种柔性电路板-CN202221024562.6有效
  • 李欢;李培良;朴成珉;徐林 - 安徽精卓光显技术有限责任公司
  • 2022-04-25 - 2022-09-27 - H05K1/02
  • 本实用新型公开了一种柔性电路板,包括基板、导电膜以及环形地线,其中,导电膜设置在基板上,导电膜包括导电线路;环形地线设置在基板上且环绕在导电线路的外围,环形地线与导电线路电连接,环形地线还用于与静电释放结构电连接,以释放静电,环形地线为半封闭的环状结构。该柔性电路板不仅能够将柔性电路板中导电线路上的静电释放掉,还能够阻挡外部的静电传导至导电线路上,从而能够防止导电线路被静电击伤。
  • 一种柔性电路板

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