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[实用新型]出气板及进气装置-CN202320952576.2有效
发明人：戴佳;朱鹤囡;董雪迪;张武;林佳继 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型属于ALD镀膜技术领域，公开了出气板及进气装置。该出气板沿气体的输送方向设置于匀流板的下游，出气板开设有第一出气槽和第二出气槽，第一出气槽用于输出第一反应源，第二出气槽用于输出第二反应源，第一出气槽与第二出气槽不同时输出，至少部分第一出气槽的外周设置有第一沉积部，至少部分第二出气槽的外周设置有第二沉积部。第一沉积部能够将残留的第二反应源沉积，使第二反应源与后输入的第一反应源产生的粉尘沉积至第一沉积部，而第二沉积部能够将残留的第一反应源进行沉积，使第一反应源与后输入的第二反应源混合产生的粉尘沉积至第二沉积部，避免粉尘堵塞出气板的出气槽，降低出气不顺的隐患，且便于维护清理，降低维保频次。
出气装置

[实用新型]换热装置及光伏设备-CN202320339488.5有效
发明人： 朱鹤囡;林佳继;张武 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型属于光伏以及半导体制造技术领域，公开了一种换热装置及光伏设备，换热装置用于工艺腔体内部换热，该装置包括具有进液口和出液口的换热结构；且换热结构设置有非金属导热层；换热装置还具有制热源和制冷源，分别与进液口或出液口连接；还具有温度监测结构，温度监测结构用于监测工艺腔体内部的温度；温度监测结构分别与制冷源和制热源连接。通过温度监测结构能够实时监测工艺腔体内的温度，也了可以控制制冷源与制热源的开启或关闭，提高转换的精确度和换热效率；此外在换热管设置非金属导热层，增大导热系数，能够进行快速的升温或降温。
装置设备

[发明专利]镀膜设备-CN202211491045.4在审
发明人：戴佳;朱鹤囡;董雪迪;张武;林佳继 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-25 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本发明公开了一种镀膜设备，该镀膜设备包括载具运输线、上下料系统、镀膜腔体系统和中转系统，载具运输线用于运输基体载具，上下料系统用于实现基体在基体载具上的装载与卸载，基体镀膜腔体系统用于实现基体的双面镀膜，中转系统与基体镀膜腔体系统连接，中转系统用于将基体载具在载具运输线和基体镀膜腔体系统之间转换。该镀膜设备在一条连贯的生产线内部实现基体的双面镀膜，产品良率较高，设备布局面积较小，厂房使用效率较高。
镀膜设备

[发明专利]一种真空镀膜设备-CN202210725491.0有效
发明人：戴佳;朱鹤囡;董雪迪;张武;林佳继 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-06-23 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种真空镀膜设备,包括加热装置、载板装置、特气喷淋装置和工艺腔体，载板装置装载硅片，工艺腔体包括镀膜真空腔体一、镀膜真空腔体二和载板转换真空腔体，载板转换真空腔体连接在镀膜真空腔体一和镀膜真空腔体二之间，载板转换真空腔体用于硅片镀膜面的转换，工艺腔体的各真空腔体之间通过阀腔连接，本发明通过可双面镀膜的载板装置和载板转换真空腔体，实现了在一条密闭生产线上硅片双面镀膜的功能，并在镀膜过程中，硅片载板转换真空腔体实现硅片镀膜面的转换，硅片不再与大气接触，杜绝了空气中水蒸气、氧气、灰尘等因素对硅片性能的不良影响，提高了硅片的生产质量。
一种真空镀膜设备

[实用新型]镀膜设备-CN202223141395.6有效
发明人：戴佳;朱鹤囡;董雪迪;张武;林佳继 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-25 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种镀膜设备，该镀膜设备包括载具运输线、上下料系统、镀膜腔体系统和中转系统，载具运输线用于运输基体载具，上下料系统用于实现基体在基体载具上的装载与卸载，基体镀膜腔体系统用于实现基体的双面镀膜，中转系统与基体镀膜腔体系统连接，中转系统用于将基体载具在载具运输线和基体镀膜腔体系统之间转换。该镀膜设备在一条连贯的生产线内部实现基体的双面镀膜，产品良率较高，设备布局面积较小，厂房使用效率较高。
镀膜设备

[实用新型]硅片翻转装置及硅片镀膜处理系统-CN202222924697.4有效
发明人：林佳继;朱鹤囡;戴佳 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-03 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本实用新型属于半导体制造和太阳能光伏电池制造技术领域，公开了一种硅片翻转装置，该装置包括硅片安置机构,硅片安置机构包括安置框和翻转架，翻转架可翻转地设在安置框内且用于固定硅片；该装置包括翻转机构，翻转机构的输出端与翻转架连接以对翻转架进行翻转；该装置包括限制机构，限制机构连接翻转架以及安置框以对翻转前后的翻转架限位。硅片镀膜处理系统包括上述硅片翻转装置，使安置在翻转架上的硅片经过翻转机构可实现翻转，翻转机构提供翻转动力，限制机构能够在翻转前后对翻转架进行限位，避免其在翻转前后偏位，共同作用即无需将安置框移出加工的工艺腔至转换腔中翻转硅片，减少了转换腔的设置，减少机构的设置，从而减少了成本。
硅片翻转装置镀膜处理系统

[实用新型]真空腔内变距装置-CN202222925820.4有效
发明人： 朱鹤囡;戴佳;林佳继;张武 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-03 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： C23C16/52 文献下载
摘要：本实用新型属于太阳能电池制造技术领域，公开了一种真空腔内变距装置，用于调整真空腔中相对设置的载板与处理机构之间的距离，真空腔内变距装置包括载板导向机构，载板导向机构包括相对设置的载板架，载板架上设有用于安装载板的载板夹持件；调距机构包括双向调节件，双向调节件的输出端与相对设置的载板架连接，用于同步调节载板架靠近或远离处理机构。通过调距机构可以调整载板架靠近或远离处理机构，通过设置双向调节件调整相对设置的载板上的硅片同步靠近或远离处理机构，实现多个调节部件协同驱动的功能，避免了真空腔的左上、左下控制一侧载板；右上、右下控制另一侧载板，减少了调节距离装置的设置数量，减少设备的成本。
空腔内变距装置

[实用新型]真空镀膜腔体及真空镀膜设备-CN202222415515.0有效
发明人： 朱鹤囡;戴佳;张武;林佳继 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-09-13 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本实用新型属于太阳能电池制造技术领域，公开了真空镀膜腔体及真空镀膜设备。公开的真空镀膜腔体包括腔体本体、侧门和两组热丝，腔体本体沿其长度方向的两端设有入口和出口，入口与出口用于进出载板，腔体本体沿其宽度方向的两端均设有开口；侧门配合在腔体本体上且用于封闭开口；两组热丝均设在腔体本体，且分别靠近两个侧门且与侧门间隔设置。这种真空镀膜腔体设置两组热丝，能够提升温度升高的效率，进而提升镀膜效率，且两组热丝均靠近侧门设置，不仅能够加快升温速度，提升真空镀膜效率，还使得人员能够通过侧门对热丝进行状态检查和更换，避免由于热丝问题导致的镀膜效率下降，保证了真空镀膜的正常进行。
真空镀膜设备

[实用新型]一种腔体门自锁装置及真空镀膜设备-CN202222912250.5有效
发明人： 朱鹤囡;林佳继;张武 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-02 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： E05B63/14 文献下载
摘要：本实用新型属于太阳能电池制造技术领域，具体公开了一种腔体门自锁装置，包括安装座、驱动件和压紧组件，驱动件固定在安装座上，压紧组件包括传动组件和两个压紧臂，驱动件的输出端与传动组件的一端连接，传动组件与两个压紧臂连接，驱动件的输出端运动时带动传动组件将两个压紧臂在平面内同时转动，从而使两个压紧臂同时远离或同时靠近侧门，进而将侧门上锁或解锁，实现了自动化的上锁和解锁，操作十分方便，无需操作人员登高就可以实现，降低了工作难度和危险性，且不容易出现漏锁的情况，上锁或解锁的效率较高。本实用新型还提供一种真空镀膜设备，包括上述的腔体门自锁装置。
一种腔体门装置真空镀膜设备

[实用新型]一种气体混合装置-CN202222005342.5有效
发明人：杨金东;林佳继;朱鹤囡;戴佳;孔琪 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-08-01 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： B01F35/80 文献下载
摘要：一种气体混合装置,包括混气罐，所述混气罐上连接有进气管路和出气管路，所述进气管路和出气管路连接在所述混气罐的同一端和/或同一侧，所述进气管路贯穿所述混气罐，其内端接近所述混气罐的另一端和/或另一侧的内壁。本实用新型由于进气管路的设计，可以让气体在进入混气罐时，由于气体压力和混气罐底部冲撞的压力让气体扩散从而在混气罐内充分混匀，并且由于持续进气产生的压力能够让气体在扩散和充分混匀的同时向混气罐的上部流动至出气口，让混匀后的气体从出气口流出，本实用新型的混气罐结构简单，能够通过气体自身的进气压力实现扩散混匀。
一种气体混合装置

[实用新型]双门过渡阀腔-CN202222404067.4有效
发明人： 朱鹤囡;戴佳;林佳继;张武 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-09-09 - 公布日： 2023-02-24 - 主分类号： F16K11/22 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双门过渡阀腔，属于太阳能电池制造技术领域。双门过渡阀腔包括阀体、第一密封阀门、第二密封阀门和抽真空设备，阀体包括进口端、出口端和连通进口端及出口端的过渡腔，阀体上设有进气口和抽真空口，进气口设置于阀体的顶部且与过渡腔连通，用于引入保护气体；抽真空口设置于阀体的底部且与过渡腔连通；第一密封阀门设置于阀体，用于封堵进口端；第二密封阀门设置于阀体，用于封堵出口端；抽真空设备与抽真空口连通。本实用新型不仅可以避免硅片在前后工艺腔搬运的过程中发生气源污染，还可以调节硅片的温度以满足工艺要求。
过渡

[发明专利]硅片翻转装置及硅片镀膜处理系统-CN202211370731.6在审
发明人：林佳继;朱鹤囡;戴佳 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-03 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明属于半导体制造和太阳能光伏电池制造技术领域，公开了一种硅片翻转装置，该装置包括硅片安置机构,硅片安置机构包括安置框和翻转架，翻转架可翻转地设在安置框内且用于固定硅片；该装置包括翻转机构，翻转机构的输出端与翻转架连接以对翻转架进行翻转；该装置包括限制机构，限制机构连接翻转架以及安置框以对翻转前后的翻转架限位。硅片镀膜处理系统包括上述硅片翻转装置，使安置在翻转架上的硅片经过翻转机构可实现翻转，翻转机构提供翻转动力，限制机构能够在翻转前后对翻转架进行限位，避免其在翻转前后偏位，共同作用即无需将安置框移出加工的工艺腔至转换腔中翻转硅片，减少了转换腔的设置，减少机构的设置，从而减少了成本。
硅片翻转装置镀膜处理系统

[实用新型]镀膜载板及镀膜设备-CN202222573990.0有效
发明人： 朱鹤囡;戴佳;刘群;张武;林佳继 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-09-27 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本实用新型属于真空镀膜技术领域，公开了镀膜载板及镀膜设备。本实用新型公开的镀膜载板包括具有相对设置的第一承载面和第二承载面的载板本体，第一承载面设置多组第一承载部，第二承载面设置多组第二承载部，且多组第一承载部与多组第二承载部沿第一方向交错设置；任意一组第一承载部包括沿第二方向间隔布置的多个第一承载部，第一承载部用于固定硅片，第一承载部具有第一预留边，第一预留边用于将硅片放入第一承载部，或将硅片从第一承载部中取出。这种镀膜载板能够直接将硅片插入第一承载部，避免了固定件的拆卸导致的工作效率低，且交错设置的第一承载部和第二承载部解决了相邻的第一承载部之间无法将硅片放入、取出的问题，提升镀膜效率。
镀膜设备

[实用新型]密封门结构及真空镀膜设备-CN202222403043.7有效
发明人： 朱鹤囡;戴佳;林佳继;张武 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-09-09 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： E06B5/00 文献下载
摘要：本实用新型属于真空镀膜设备技术领域，公开了一种密封门结构，包括密封门本体、密封圈以及冷却管路。密封门本体转动连接于镀膜腔体的开口处；密封圈设置于密封门本体，当密封门本体封闭镀膜腔体的开口时，密封圈抵靠镀膜腔体的开口边沿；冷却管路设置于密封门本体，冷却管路用于冷却密封门本体和密封圈。该密封门结构能够保证高温真空腔体的密封效果，提升密封可靠性且使用寿命长。
密封结构真空镀膜设备

[实用新型]真空过渡室及真空镀膜设备-CN202222404068.9有效
发明人： 朱鹤囡;戴佳;林佳继;张武 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-09-09 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：本实用新型属于太阳能电池制造技术领域，具体公开了一种真空过渡室，该真空过渡室包括过渡腔体、阀门组件和传送导向机构，传送导向机构可活动地设置在过渡腔体上，传送导向机构能够运输载板，且传送导向机构可以运动至避让阀门组件的位置，以方便阀门组件开合，提高了过渡腔体的空间利用率，缩短了过渡腔体的设置长度，进而缩短了输送装置的传送路径，保证了传动效果良好，传送导向机构能够对载板进行导向和支撑，载板的运输过程平稳，加工效率高。本实用新型还提供一种真空镀膜设备，包括上述的真空过渡室，载板的整个运动过程平稳，镀膜工艺处理效果良好。
真空过渡真空镀膜设备

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