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[发明专利]三维存储器及其形成方法-CN202210241509.X在审
发明人：罗佳明;伍术;艾义明;祝君龙;高林;施继雄;高晶;朱宏斌;刘修忠;其他发明人请求不公开姓名 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： H01L27/1157 文献下载
摘要：本发明涉及一种三维存储器及其形成方法。三维存储器的形成方法包括如下步骤：提供衬底；形成位于衬底上方的第一牺牲层、位于第一牺牲层上方的堆叠层、以及至少贯穿堆叠层和第一牺牲层的沟道孔；形成第二牺牲层于沟道孔的底部，使得第二牺牲层的顶面位于衬底的顶面之上且位于第一牺牲层的顶面之下、第二牺牲层的底面位于衬底的顶面之下；形成存储结构于沟道孔内的第二牺牲层之上；去除衬底和第二牺牲层；去除部分存储结构和部分的第一牺牲层，残留的第一牺牲层形成隔离层；形成覆盖隔离层、并与存储结构电连接的半导体层。本发明简化了三维存储器的制程工艺，降低了三维存储器的制造成本，且提高了存储结构深度的均匀性。
三维存储器及其形成方法

[发明专利]形成氧化物经封装传导形体的方法-CN201210124806.2无效
发明人：刘晃;薛振胜;施继雄 -专利权人：新加坡商格罗方德半导体私人有限公司
申请日： 2012-04-25 - 公布日： 2012-10-31 - 主分类号： H01L21/768 文献下载
摘要：本发明涉及一种形成氧化物经封装传导形体的方法，提供一种有关以通过实质上均匀的MnO或Al2O3层予以封装的铜或铜合金互连所形成的半导体装置。实施例包含在介电层中形成具有侧表面及底表面的开口，在开口的侧表面和底表面上及介电层的上表面上形成阻障层，以氧气电浆处理阻障层以在阻障层上形成悬垂氧原子，在阻障层上沉积种晶层，以及以铜或铜合金填充开口。
形成氧化物封装传导形体方法

[发明专利]判定半导体工艺条件的方法-CN200610071587.0有效
发明人：周文湛;于劲;施继雄 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2006-03-30 - 公布日： 2007-10-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：判断半导体曝光条件的方法，包括提供一具有多个相异线条间距的图形区的光掩模，依据多组设定值相异的工艺参数经由该光掩模对多个晶片曝光，量测各该晶片上的各个图形区的一临界尺寸，并建立该多个图形区的线条间距与相对应的多个临界尺寸的对应关系数据库；经由该光掩模对一预测晶片曝光，以同样方法建立该预测晶片上的一组对应关系；由所建立的该对应关系数据库中，找出一组最近似于该预测晶片所建立的该组对应关系，并依此判断当该预测晶片进行曝光时所使用的该多个工艺参数的设定值。
判定半导体工艺条件方法

[发明专利]应用于化学机械抛光工艺的抛光头及化学机械抛光方法-CN200610006061.4无效
发明人：曾佑祥;施继雄;周梅生;于劲;邹峥;周文湛 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2006-01-24 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： B24D13/00 文献下载
摘要：一种应用于化学机械抛光(CMP)工艺的抛光头，包括：一壳体；一晶片边缘压覆环，锁固于该壳体的一下方位置；一支撑背板，其具有多个呈非同心圆状(non－concentric)排列的压力区(pressure zone)，且该支撑背板具有一晶片接触面以及一非晶片接触面，其中进行一CMP抛光时，该支撑背板的该晶片接触面是抵靠住一晶片背面；以及一气动装置，用来在进行该CMP抛光时独立控制个别该多个呈非同心圆状排列压力区内施加在该晶片背面的下压力。
应用于化学机械抛光工艺抛光方法

[发明专利]开口的形成方法以及接触窗的形成方法-CN200510108837.9有效
发明人：叶建辉;施继雄;蓝天呈;周梅生 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2005-09-30 - 公布日： 2007-04-04 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：一种开口的形成方法，此形成方法为，在材料层上形成介电层，接着在介电层上依序形成金属硬掩模层与顶盖层。然后，在顶盖层上形成图案化的光致抗蚀剂层，且图案化的光致抗蚀剂层暴露出部分顶盖层表面。随后，进行一第一蚀刻步骤，以图案化的光致抗蚀剂层为掩模，移除部分顶盖层与金属硬掩模层，直至暴露出介电层表面。继之，移除图案化的光致抗蚀剂层，然后进行一第二蚀刻步骤，以顶盖层与金属硬掩模层为掩模，移除部分介电层，以形成一开口。
开口形成方法以及接触

[发明专利]洗涤剂组合物及其制备方法-CN89103007.7无效
发明人：陈庆庭;李媺莹;施继雄 -专利权人：陈庆庭;李媺莹;施继雄
申请日： 1989-04-29 - 公布日： 1990-11-07 - 主分类号： C11D7/44 文献下载
摘要：本发明涉及一种洗涤剂组合物及其制备方法，特别是涉及不会伤害人体肌肤，且不会污染水源的洗涤剂组合物及其制备方法，它主要包括薄荷、柠檬油、大黄粉、米粉、适当添加剂混合，再向内加入同体积的矿泉水，搅拌混合后即可制得。本发明的成份均系天然之物质无刺激性，可连续用于各类物品的擦拭或洗涤，用后不会对水源产生污染，可节约用水；洗后泡沫少，冲洗容易，可净化废水，且使产生的废水相对减少，因本发明其杀菌灭菌功效大可为防止病媒产生。
洗涤剂组合及其制备方法