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- [发明专利]抗蚀剂组成物及图案形成方法-CN202310309036.7在审
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佐佐见武志;提箸正义;山田健司
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信越化学工业株式会社
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2023-03-28
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2023-09-29
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G03F7/004
- 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明课题为提供即使在高曝光量区域仍因高分辨度而使粗糙度或孔洞图案的尺寸均匀性减少，曝光后的图案形状良好且蚀刻耐性优良的抗蚀剂组成物。该课题解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有：树脂(A)，具有通式(p‑1)表示的重复单元、通式(a‑1)表示的因酸的作用而极性会变化并成为可溶于碱水溶液的重复单元、及通式(b‑1)表示的重复单元，树脂(B)，具有通式(p‑2)表示的重复单元、通式(a‑1)表示的因酸的作用而极性会变化并成为可溶于碱水溶液的重复单元、及通式(b‑1)表示的重复单元，及溶剂(D)；其中，该抗蚀剂组成物所含的该树脂(A)的含量比该树脂(B)的含量少。#imgabs0#
- 抗蚀剂组成图案形成方法
- [发明专利]聚合物的制造方法、及聚合物-CN201911040009.4在审
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阿达铁平;提箸正义;小野绘实子;小野塚英之
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信越化学工业株式会社
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2019-10-29
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2020-05-12
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C08F220/18
- 本发明的课题是提供残存单体量少，使用于抗蚀剂组合物时，尤其会展现良好的LWR的聚合物的制造方法。一种聚合物的制造方法，是制造含有来自包含因曝光而分解并产生酸的结构的单体(A)的重复单元、来自具有酸不稳定基团的单体(B)的重复单元、及来自具有酚性羟基的单体(C)的重复单元，且聚合物中所含的单体(A)的残存量为1.0质量％以下的聚合物的制造方法，包含将含有单体(A)、单体(B)、及单体(C)的单体溶液供给到反应釜中的步骤、及在该反应釜内实施聚合反应的步骤，该反应釜内的单体溶液中的单体浓度为35质量％以上，且该单体溶液的溶剂(S)包含选自下式(S‑1)及下式(S‑2)所示的溶剂中的至少1种。
- 聚合物制造方法
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