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[实用新型]一种平移上料装置-CN202123407225.3有效
发明人： 戴童庆;李成辉 -专利权人：深圳市大川光电设备有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： B65H1/28 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种平移上料装置，包括机架，所述机架的内部安装有左螺旋升降台和右螺旋升降台，所述机架的内部安装有左电机和右电机，所述左螺旋升降台输出端安装有左托盘，所述右螺旋升降台的输出端安装有右托盘，所述机架的上侧设置有移板机构。本实用新型每一叠工件堆叠的数量和高度可以不同，并由移板机构中各个零部件的配合设置，组合成的运动来确保工件在被取、放及移动过程中，始终保持水平位置，并由以前的升降、平移六个直线动作，复合成一个来回的曲线动作，使行程缩短了40％，提升了生产效率，同时节省了空间，扩大了使用范围。
一种平移装置

[实用新型]一种双面自动对位曝光的设备-CN202020483893.0有效
发明人： 戴童庆;代毓平 -专利权人：深圳市大川光电设备有限公司
申请日： 2020-04-03 - 公布日： 2020-09-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种双面自动对位曝光的设备，其设备在工件上下料区设置有一下晒框组件，在曝光区设置有上晒框组件与另一下晒框组件，上晒框组件包括上晒框与驱动上晒框进行平移调整对位的上对位机构，下晒框组件包括下晒框、工件定位销以及驱动工件定位销进行平移调整对位的下对位机构，其曝光区还设置有驱动上晒框组件升降的升降动力机构、位于上晒框组件上方的上对位CCD视觉组件以及位于下晒框组件下方的下对位CCD视觉组件，其工件上下料区与其工件曝光区之间还设置有驱动两下晒框组件之间进行交替换位的下晒框动力组件。本技术方案，其可有效解决现有双面自动对位曝光的方法中存在对位精度低、生产效率低、菲林使用成本高等技术问题。
一种双面自动对位曝光设备

[发明专利]一种双面自动对位曝光的设备及方法-CN202010260430.2在审
发明人： 戴童庆;代毓平 -专利权人：深圳市大川光电设备有限公司
申请日： 2020-04-03 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种双面自动对位曝光的设备及方法，其设备在工件上下料区设置有一下晒框组件，在曝光区设置有上晒框组件与另一下晒框组件，上晒框组件包括上晒框与驱动上晒框进行平移调整对位的上对位机构，下晒框组件包括下晒框、工件定位销以及驱动工件定位销进行平移调整对位的下对位机构，其曝光区还设置有驱动上晒框组件升降的升降动力机构、位于上晒框组件上方的上对位CCD视觉组件以及位于下晒框组件下方的下对位CCD视觉组件，其工件上下料区与其工件曝光区之间还设置有驱动两下晒框组件之间进行交替换位的下晒框动力组件。本技术方案，其可有效解决现有双面自动对位曝光的方法中存在对位精度低、生产效率低、菲林使用成本高等技术问题。
一种双面自动对位曝光设备方法

[实用新型]平板类工件翻转装置-CN201920068006.0有效
发明人： 戴童庆;刘虎;袁璧辉 -专利权人：深圳市大川光电设备有限公司
申请日： 2019-01-11 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： B65G47/248 文献下载
摘要：本实用新型提供一种平板类工件翻转装置，该装置包括第一气浮平台、第二气浮平台以及翻转机构；第一气浮平台包括第一气浮平面，第二气浮平台包括第二气浮平面，第一气浮平面与第二气浮平面上下相对间隔设置，使得待翻转平板类工件悬浮于第一气浮平面与第二气浮平面之间；第一气浮平台与第二气浮平台之间通过若干挡板结构连接固定，翻转机构驱动连接第二气浮平台的底部，以实现第一气浮平台与第二气浮平台的共同翻转。本实用新型的平板类工件翻转装置，其可实现平板类工件上下面非接触的高效翻面传送，从而避免了滚轮传动摩擦、吸盘取板等对板面的接触污染和损伤，同时，更便于改变方向的高效翻板传送。
气浮平台气浮平板类工件翻转装置本实用新型翻转机构翻转传送吸盘挡板结构改变方向滚轮传动间隔设置连接固定驱动连接上下相对非接触对板翻板翻面取板悬浮摩擦损伤污染

[实用新型]一种自动曝光机-CN201920402607.0有效
发明人： 戴童庆;刘虎;袁璧辉 -专利权人：深圳市大川光电设备有限公司
申请日： 2019-03-26 - 公布日： 2019-09-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种自动曝光机，其包括用于对待曝光基板进行对位操作的第一气浮式对位装置、用于对待曝光基板进行第一表面的曝光操作的第一气浮式曝光装置、用于对待曝光基板进行板面翻转操作的气浮式翻转装置、用于对翻转后的待曝光基板进行再次对位操作的第二气浮式对位装置、用于对待曝光基板进行第二表面的曝光操作的第二气浮式曝光装置以及用于对曝光完成的待曝光基板进行出料操作的气浮式出料装置。本实用新型的自动曝光机，其整个自动化曝光流程单向流动，没有等待时间，可有效提高生产效率，待曝光基板在经过洁净处理的气垫上全程处于无表面接触摩擦的状态，可实现无摩擦的运动定位和高效传送，以及避免接触摩擦造成的产品质量问题。
气浮式曝光基板待曝光基板自动曝光机本实用新型对位操作对位装置曝光操作曝光装置翻转产品质量问题出料装置单向流动第二表面第一表面翻转装置接触摩擦洁净处理曝光流程生产效率气垫无摩擦板面出料摩擦自动化传送曝光全程

[发明专利]一种自动曝光机-CN201910232548.1在审
发明人： 戴童庆;刘虎;袁璧辉 -专利权人：深圳市大川光电设备有限公司
申请日： 2019-03-26 - 公布日： 2019-06-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种自动曝光机，其包括用于对待曝光基板进行对位操作的第一气浮式对位装置、用于对待曝光基板进行第一表面的曝光操作的第一气浮式曝光装置、用于对待曝光基板进行板面翻转操作的气浮式翻转装置、用于对翻转后的待曝光基板进行再次对位操作的第二气浮式对位装置、用于对待曝光基板进行第二表面的曝光操作的第二气浮式曝光装置以及用于对曝光完成的待曝光基板进行出料操作的气浮式出料装置。本发明的自动曝光机，其整个自动化曝光流程单向流动，没有等待时间，可有效提高生产效率，同时，待曝光基板在经过洁净处理的气垫上全程处于无表面接触摩擦的状态，可实现无摩擦的运动定位和高效传送，以及避免了接触摩擦造成的产品质量问题。
气浮式曝光基板待曝光基板自动曝光机对位操作对位装置曝光操作曝光装置翻转产品质量问题出料装置单向流动第二表面第一表面翻转装置接触摩擦洁净处理曝光流程生产效率气垫无摩擦板面出料摩擦自动化传送曝光全程

[实用新型]平板类工件对位传送装置-CN201820062899.3有效
发明人： 戴童庆;代毓平;刘虎 -专利权人：深圳市大川光电设备有限公司
申请日： 2018-01-15 - 公布日： 2018-08-21 - 主分类号： B65G49/06 文献下载
摘要：本实用新型提供一种平板类工件对位传送装置，该装置包括控制单元、第一平台主体、第二平台主体以及移载对位装置，第一平台主体包括气浮平面，第二平台主体包括气浮吸附一体平面，气浮平面与气浮吸附一体平面依次相接设置，移载对位装置包括与待传送平板类工件的大小相适配的工件定位框以及驱动工件定位框由气浮平面的上方平移到气浮吸附一体平面的上方的平移运动机构，控制单元与平移运动机构电性连接。本实用新型的平板类工件对位传送装置，可在快速准确地完成平板类工件的传送和定位的同时，显著提高其定位精度和缩短其对位时间，还避免了工件地面摩擦传动和用机械手吸盘取板时产生的接触污染和工件形变(特别是对薄板)。
气浮平板类工件平台主体对位传送装置吸附平移运动机构本实用新型对位装置工件定位平面的移载传送机械手吸盘平移地面摩擦电性连接工件形变传动取板适配驱动污染

[发明专利]平板类工件对位传送装置及方法-CN201810034656.3在审
发明人： 戴童庆;代毓平;刘虎 -专利权人：深圳市大川光电设备有限公司
申请日： 2018-01-15 - 公布日： 2018-06-22 - 主分类号： B65G49/06 文献下载
摘要：本发明提供一种平板类工件对位传送装置及方法，该装置包括控制单元、第一平台主体、第二平台主体以及移载对位装置，第一平台主体包括气浮平面，第二平台主体包括气浮吸附一体平面，气浮平面与气浮吸附一体平面依次相接设置，移载对位装置包括与待传送平板类工件的大小相适配的工件定位框以及驱动工件定位框由气浮平面的上方平移到气浮吸附一体平面的上方的平移运动机构，控制单元与平移运动机构电性连接。本发明的平板类工件对位传送装置及方法，可在快速准确地完成平板类工件的传送和定位的同时，显著提高其定位精度和缩短其对位时间，还避免了工件地面摩擦传动和用机械手吸盘取板时产生的接触污染和工件形变(特别是对薄板)。
气浮平板类工件平台主体对位传送装置吸附平移运动机构对位装置工件定位平面的移载传送机械手吸盘平移地面摩擦电性连接工件形变传动取板适配驱动污染

[发明专利]多功能曝光平台-CN201710016819.0有效
发明人： 戴童庆;代毓平 -专利权人：深圳市大川光电设备有限公司
申请日： 2017-01-11 - 公布日： 2018-02-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种多功能曝光平台，包括控制单元以及依次相接设置的滚轮上料机构、平台主体与滚轮下料机构，平台主体的上方设有导向推板机构，导向推板机构包括开口方向面向滚轮上料机构所在一侧的L型导向推板以及驱动L型导向推板在平台主体上方分别沿X轴方向及Y轴方向平移的XY平面运动机构，L型导向推板包括相互垂直设置的X轴方向推板及Y轴方向推板，X轴方向推板面向滚轮上料机构的一侧设有到位检测结构，平台主体包括气浮吸附一体平面，且平台主体的底侧设有若干升降支脚，控制单元分别与XY平面运动机构、到位检测结构以及若干升降支脚电性连接，X轴方向平行于滚轮上料结构的送料方向，Y轴方向垂直于滚轮上料结构的送料方向。
多功能曝光平台

[实用新型]多功能曝光平台-CN201720028198.3有效
发明人： 戴童庆;代毓平 -专利权人：深圳市大川光电设备有限公司
申请日： 2017-01-11 - 公布日： 2017-09-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种多功能曝光平台，包括控制单元以及依次相接设置的滚轮上料机构、平台主体与滚轮下料机构，平台主体的上方设有导向推板机构，导向推板机构包括开口方向面向滚轮上料机构所在一侧的L型导向推板以及驱动L型导向推板在平台主体上方分别沿X轴方向及Y轴方向平移的XY平面运动机构，L型导向推板包括相互垂直设置的X轴方向推板及Y轴方向推板，X轴方向推板面向滚轮上料机构的一侧设有到位检测结构，平台主体包括气浮吸附一体平面，且平台主体的底侧设有若干升降支脚，控制单元分别与XY平面运动机构、到位检测结构以及若干升降支脚电性连接，X轴方向平行于滚轮上料结构的送料方向，Y轴方向垂直于滚轮上料结构的送料方向。
多功能曝光平台

[实用新型]平行紫外光源-CN201620233197.8有效
发明人： 戴童庆;代毓平 -专利权人：深圳市大川光电设备有限公司
申请日： 2016-03-24 - 公布日： 2016-08-31 - 主分类号： F21S8/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种平行紫外光源，所述平行紫外光源包括沿光路走向依次设置的紫外光源主体、格栅以及反射罩体，所述紫外光源主体的一侧内凹设置形成一内弧紫外发光面，所述内弧紫外发光面的外侧依次设置所述格栅及所述反射罩体。本实用新型提供了一种平行紫外光源，其可发出高平行度的平行紫外光。
平行紫外光源

[实用新型]紫外线曝光灯-CN201520628638.X有效
发明人： 戴童庆;代毓平 -专利权人：深圳市大川光电设备有限公司
申请日： 2015-08-19 - 公布日： 2015-12-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种紫外线曝光灯，所述紫外线曝光灯包括弧形架体、进水座体、出水座体以及若干LED紫外灯柱，所述进水座体及出水座体分别固设于所述弧形架体的两端，每一所述LED紫外灯柱内设一沿其长度方向延伸的过水通孔，所述若干LED紫外灯柱沿所述弧形架体的弧形表面铺设，且每一所述LED紫外灯柱的过水通孔的两端分别连通所述进水座体及出水座体。本实用新型提供了一种节能、环保、使用寿命长、发光稳定的紫外线曝光灯。
紫外线曝光

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