专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果9个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]半导体存储装置-CN202111023496.0在审
  • 志村昌洋;吉田毅 - 铠侠股份有限公司
  • 2021-08-31 - 2022-09-06 - H01L27/11519
  • 本公开涉及半导体存储装置。半导体存储装置具备基板、在与基板的表面交叉的第1方向上排列的多个第1导电层、在第1方向上延伸且与多个第1导电层相对的半导体层、设置于多个第1导电层与半导体层之间的栅极绝缘膜及在第1方向上延伸的第1电阻元件。第1电阻元件的第1方向上的一端比多个第1导电层的至少一部分距基板近。第1电阻元件的第1方向上的另一端比多个第1导电层距基板远。
  • 半导体存储装置
  • [发明专利]半导体装置及其制造方法-CN202110841094.5在审
  • 野口充宏;志村昌洋 - 铠侠股份有限公司
  • 2021-07-23 - 2022-08-30 - H01L27/088
  • 半导体装置包括:第一导电类型的第一阱,其设置于第一导电类型的半导体基板;第二导电类型的第二阱,其将半导体基板与第一阱电隔离;以及绝缘栅型场效应晶体管。第二阱包括将包围第一阱的侧面的周围的第一部分、与覆盖第一阱的底部的第二部分的侧面连结起来的结构。绝缘栅型场效应晶体管具有形成于第一阱的第一主电极和第二主电极、以及经由栅极绝缘膜而与第一阱相对的栅极。与半导体基板相接的第一部分的底面的位置,比与半导体基板相接的第二部分的底面的位置浅。绝缘栅型场效应晶体管的第一主电极或第二主电极,与存储单元晶体管的栅极连接。
  • 半导体装置及其制造方法
  • [发明专利]半导体装置-CN201910739340.9在审
  • 志村昌洋;野口充宏 - 东芝存储器株式会社
  • 2019-08-12 - 2020-09-22 - H01L23/64
  • 根据一实施方式,半导体装置具备:第1导电型的第1半导体层(10),设定为第1电位;第2导电型的第2半导体层(20),积层在第1半导体层(10),且设定为第2电位;层间绝缘膜(40),配置在第2半导体层(20)的主面;电阻体(30),介隔第2半导体层(20)及层间绝缘膜(40)配置在第1半导体层(10)的上方;以及电源端子(50),与第2半导体层(20)电连接。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体装置-CN201510098177.4有效
  • 小野升太郎;浦秀幸;志村昌洋;山下浩明 - 株式会社东芝
  • 2015-03-05 - 2019-05-03 - H01L27/105
  • 实施方式的半导体装置包括第一半导体区域、多个第二半导体区域、多个第三半导体区域、多个第四半导体区域、第五半导体区域、以及栅极电极。第二半导体区域具有比第一半导体区域的第一导电型的杂质浓度高的第一导电型的杂质浓度。第三半导体区域包含第一部分、以及第二部分。第一部分设置在相邻的第二半导体区域之间。第一部分的第二导电型的杂质量比相邻的第二半导体区域所含有的第一导电型的杂质量大。第二部分设置在第一半导体区域中。第二部分的第二导电型的杂质量比相邻的第一半导体区域所含有的第一导电型的杂质量小。
  • 半导体区域导电型半导体装置质量比栅极电极
  • [发明专利]半导体装置-CN201510553436.8无效
  • 山下浩明;小野升太郎;浦秀幸;志村昌洋 - 株式会社东芝
  • 2015-09-02 - 2016-10-05 - H01L29/78
  • 实施方式的半导体装置具有第一导电型的第一半导体层、第二导电型的多个第二半导体区域、第二导电型的第三半导体区域、第一导电型的第四半导体区域、栅极电极、绝缘层、以及第一电极。第一半导体层具有多个第一半导体区域。各个第二半导体区域设置在第一半导体区域彼此之间。第三半导体区域设置在第二半导体区域上。第四半导体区域设置在第三半导体区域上。绝缘层设置在栅极电极与第三半导体区域之间。第一电极具有第一部分与第二部分。第一部分连接于第一半导体区域。第二部分相对于第一部分设置在第四半导体区域侧。第一电极设置在第一半导体区域上及第二半导体区域上。第一电极设置在第四半导体区域的周围。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体装置-CN201510553381.0在审
  • 山下浩明;小野升太郎;浦秀幸;志村昌洋 - 株式会社东芝
  • 2015-09-02 - 2016-09-07 - H01L29/78
  • 实施方式的半导体装置具有第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的第2半导体区域、第2导电型的第3半导体区域、第2导电型的第4半导体区域、第1导电型的第5半导体区域及栅极电极。第1半导体区域沿第1方向延伸。第1半导体区域在与第1方向正交的第2方向设置有多个。第1半导体区域与第2半导体区域在第2方向交替地设置。第3半导体区域设置于第2半导体区域上。第3半导体区域的第2导电型的杂质浓度高于第2半导体区域的第2导电型的杂质浓度。栅极电极沿与包含第1方向及第2方向的面平行且与第1方向交叉的第3方向延伸。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体装置的测定装置-CN201410074621.4在审
  • 志村昌洋 - 株式会社东芝
  • 2014-03-03 - 2015-03-25 - G01R19/00
  • 本发明提供一种半导体装置的测定装置。根据一个实施方式,半导体测定装置具备:第1读出端子,与半导体装置的第1面中设置的第1电极电连接;第1加力端子,与半导体装置的第1电极电连接;第2读出端子,与半导体装置的与第1面相反一侧的第2面中设置的第2电极电连接;以及第2加力端子,与半导体装置的第2电极电连接。在第2读出端子的周围各配置了多个第2加力端子。
  • 半导体装置测定

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top