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- [发明专利]激光直写装置-CN201110042855.7有效
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范永涛;徐文东;郝春宁;刘前
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中国科学院上海光学精密机械研究所
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2011-02-23
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2011-07-13
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G03F7/20
- 一种激光直写装置,特点之一在于其构成包括刻写光源、离焦检测模块、光谱分光镜、调焦PZT、物镜、二维XY电机平台、Y轴校正平台、待刻样品、激光干涉仪、总控制器和防震台,采用由大行程二维XY电机平台和小行程的Y轴校正平台的组合结构作为样品位移台;特点之二是采用激光干涉仪测量X、Y轴的距离变化,并利用激光干涉仪所发出的位置脉冲信号,同时实现X轴的运动与激光脉冲的同步、X轴在运动过程中Y轴的精密校正。本发明可以在大范围内实现高精度的快速刻写,能够在大范围内刻写任意形状的微纳图形和构造,具有较高的实用价值。
- 激光装置
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