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[发明专利]一种共口径多通道全波段高光谱成像系统-CN201810945393.1有效
发明人：刘银年;张宗存;张民山;彭俊;孙德新 -专利权人：中国科学院上海技术物理研究所
申请日： 2018-08-20 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G01J3/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种共口径多通道全波段高光谱成像系统，采用二次视场分离法，通过在主反射镜和次反射镜形成的中间像面上设置轴上视场分离器实现一次视场分离，将不同视场的光线进行分离形成2个视场通道，再经三反射镜反射至离轴视场分离器实现二次视场分离，再次将不同视场的光线进行分离形成6个视场通道，为多个光谱仪模块化对接提供更为充足的布局空间，突破了传统分光器件无法实现全波段高衍射效率分光的限制，满足全波段高光谱成像系统的需求；该系统容易实现大口径设计，进行大视场成像，且结构紧凑，有利于实现全波段高光谱载荷设计的轻小型化。
一种口径通道波段光谱成像系统

[发明专利]光刻装置及调整方法-CN202111374910.2在审
发明人：李煜芝;周畅;朱岳彬;张民山;朱振南 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-11-18 - 公布日： 2023-05-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻装置及调整方法，在光刻装置中设置有光强测量传感器与照明透过率调节装置，使用光强测量传感器扫描投影物镜视场内的基板照度得到投影物镜的剂量值，通过调整照明透过率调节装置使得剂量值一致，从而提高曝光精度。同时在掩模版或掩模台基准版上设置多个测量标记，在光刻装置中设置像测量传感器，使用像测量传感器检测测量标记在基板运动台上的成像位置，得到成像偏差并进行修正，进一步提高曝光精度。
光刻装置调整方法

[实用新型]一种磺丁基β-环糊精钠的生产设备-CN202222081647.4有效
发明人：黄虎;张阳洋;胡瑞;焦阳;刘淦;乔炜俊;李盛;曹金;张民山 -专利权人：湖北葛店人福药用辅料有限责任公司
申请日： 2022-08-08 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： C02F1/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种磺丁基β‑环糊精钠的生产设备，其设有反应釜、储罐、超滤系统、盐水收集罐，冷凝水收集罐，料液浓缩装置和喷雾干燥装置，所述超滤系统包括第一超滤系统和第二超滤系统；该设备将生产过程中产生的含盐废水进行浓缩，得到冷凝水，收集的冷凝水可以用于超滤过程，1、降低了生产过程中纯化水的需求量，减少了水资源的消耗；2、降低了含盐废水的量，减少三废，优化了水资源在整个体系中的循环利用。
一种丁基环糊精生产设备

[发明专利]可调节狭缝结构和曝光装置-CN202010479610.X有效
发明人： 张民山 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2020-05-29 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种可调节狭缝结构及曝光装置，可调节狭缝用于曝光装置，曝光装置包括照明光源和投影物镜；可调节狭缝结构设置于照明光源和投影物镜之间，包括导轨本体、第一调节单元以及至少两个遮光本体；导轨本体与曝光装置连接，每个遮光本体包括至少一个透光狭缝，遮光本体与导轨本体活动连接；第一调节单元与遮光本体连接，第一调节单元被配置为调节遮光本体之间的相对位置，从而控制至少两个可调节狭缝的宽度；可调节狭缝为由其中一个透光狭缝和至少另一个所述遮光本体形成的照明视场。本发明提供的可调节狭缝结构和曝光装置简化了投影物镜的剂量控制流程，多个可调节狭缝的宽度可同时调节，提高了曝光剂量控制的精度。
调节狭缝结构曝光装置

[实用新型]共口径多通道全波段高光谱成像系统-CN201821336535.6有效
发明人：刘银年;张宗存;张民山;彭俊;孙德新 -专利权人：中国科学院上海技术物理研究所
申请日： 2018-08-20 - 公布日： 2019-04-02 - 主分类号： G01J3/28 文献下载
摘要：本专利公开了一种共口径多通道全波段高光谱成像系统，采用二次视场分离法，通过在主反射镜和次反射镜形成的中间像面上设置轴上视场分离器实现一次视场分离，将不同视场的光线进行分离形成2个视场通道，再经三反射镜反射至离轴视场分离器实现二次视场分离，再次将不同视场的光线进行分离形成6个视场通道，为多个光谱仪模块化对接提供更为充足的布局空间，突破了传统分光器件无法实现全波段高衍射效率分光的限制，满足全波段高光谱成像系统的需求；该系统容易实现大口径设计，进行大视场成像，且结构紧凑，有利于实现全波段高光谱载荷设计的轻小型化。
视场全波段高光谱成像系统分离器视场通道多通道共口径大视场成像反射镜反射光谱仪模块布局空间次反射镜分光器件衍射效率主反射镜大口径分离法高光谱中间像分光离轴