|
|
钻瓜专利网为您找到相关结果 13个，建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [实用新型]一种真空镀膜用真空炉-CN202123103114.3有效
-
应世强;应佳根
-
南京丙辰表面技术有限公司
-
2021-12-11
-
2022-08-23
-
C23C14/50
- 本实用新型公开了一种真空镀膜用真空炉，属于镀膜技术领域，包括罐体，罐体底壁转动连接有齿轮盘，罐体的底端固定连接有正反转电机，正反转电机与外部电源电性连接，正反转电机的输出端固定连接有转块，转块位于齿轮盘的内侧，转块的圆周表面开凿有回缩槽，回缩槽内滑动连接有插接块，插接块卡接于齿轮盘的内侧，回缩槽的槽底端与插接块之间固定连接有弹簧，转块远离正反转电机的一端固定连接有转盘，转盘远离转块的一端转动连接有多个工件转架；旨在解决现有技术中的大部分真空炉内的工件转架只能够应用于相同规格的基片，当需要对不同规格的基片进行镀膜时，需要拆卸个更换转架，劳动消耗量大，容易影响工作效率的问题。
- 一种真空镀膜真空炉
- [实用新型]一种镀膜机的基带卷绕装置-CN202122718187.7有效
-
应世强;应佳根
-
南京丙辰表面技术有限公司
-
2021-11-08
-
2022-07-15
-
B65H18/10
- 本实用新型公开了一种镀膜机的基带卷绕装置，包括安装架、基带、供所述基带送料的卷绕机构、蒸镀室、预处理机构、光纤监测模块，所述卷绕机构安装于安装架的内部，所述蒸镀室、预处理机构、光纤监测模块均设于安装架的内部且穿插安装在卷绕机构内，且预处理机构固定安装于蒸镀室的右侧，本实用新型涉及镀膜机技术领域。该镀膜机的基带卷绕装置，通过设置有预处理机构，在等离子处理器上增设两组带有若干个纠偏轮的导向架、设有垫板的延展架以及压辊组件，基带在若干个纠偏轮的限位作用下，避免因气流的冲击而发生位置的偏移，基带在压辊和垫板的压合下，既可以排除附着在其表面的气体，避免后续收卷作业过程中存在气泡。
- 一种镀膜基带卷绕装置
- [实用新型]一种镀膜产品展示用样品台-CN202122626115.X有效
-
应世强;应佳根
-
南京丙辰表面技术有限公司
-
2021-10-29
-
2022-05-13
-
A47F5/03
- 本实用新型公开了一种镀膜产品展示用样品台，涉及镀膜产品展示技术领域，包括底座和夹持机构，若干夹持机构呈环形结构排列设置在底座的上端面，底座的上方还设置用于照明的灯座；底座包括底板和设置在底板中心位置的通孔，底板呈圆形结构；夹持机构包括导轨、固定夹板和活动夹板，两导轨呈平行设置，两导轨之间固定连接固定夹板、滑动连接活动夹板，固定夹板与活动夹板呈对称设置，通过设置固定夹板和活动夹板，其中中活动夹板能够活动调节与固定夹板之间的距离，使得固定夹板和活动夹板之间能够卡合固定不同规格镀膜产品，提高了适用性；通过在底座的底部设置齿轮，并且齿轮通过伺服电机，实现了夹持在夹持机构上的镀膜产品的转动展示。
- 一种镀膜产品展示样品
- [实用新型]一种真空镀膜用溅射靶座-CN202122936554.0有效
-
应世强;应佳根
-
南京丙辰表面技术有限公司
-
2021-11-27
-
2022-04-29
-
C23C14/34
- 本实用新型公开了一种真空镀膜用溅射靶座，属于真空镀膜机技术领域，包括正极座和靶材固定架组成的靶材座以及负极座和基片固定架组成的基片座，所述正极座和所述负极座内均镶嵌不同磁极的磁性柱，所述基片固定架和所述负极座之间通过推杆推动可分离，所述推杆通过连接座与所述基片固定架连接，所述连接座通过轴承座与所述基片固定架转动连接，所述轴承座由翻转电机驱动进行转动，使所述基片固定架可沿着长度方向的中轴线翻转。通过将基片固定架设置成可以翻转的结构，使基片的正反两面可以通过翻转朝向靶材固定架，实现双面镀膜，提高了镀膜效率，基片固定架只有通过推杆升起时才能翻转，保证了基片固定架的稳定性。
- 一种真空镀膜溅射
- [实用新型]一种真空镀膜用基片输送装置-CN202122936561.0有效
-
应世强;应佳根
-
南京丙辰表面技术有限公司
-
2021-11-27
-
2022-04-29
-
C23C14/56
- 本实用新型公开了一种真空镀膜用基片输送装置，属于真空镀膜机技术领域，包括套接在传输辊上的输送带，所述输送带上分布等距的若干个限位块，使所述输送带带着所述限位块移动时将基片推送，所述输送带上方还安装有引导机构，所述引导机构包括伺服电机驱动的引导履带，所述引导履带倾斜向上设置且底端与所述输送带表面靠近，使所述基片从通过所述输送带输送转移到通过所述引导履带输送。通过在输送带上方设置倾斜向上的引导机构，使基片可以通过输送带水平输送到引导机构上时，再由引导履带倾斜向上输送基片，使基片到达镀膜机的基片台上完成上料，引导履带由伺服电机驱动因此可反向转动将基片从基片台上接下再送回输送带上完成下料。
- 一种真空镀膜用基片输送装置
- [实用新型]一种真空镀膜机的箱体结构-CN202122774981.3有效
-
应世强;应佳根
-
南京丙辰表面技术有限公司
-
2021-11-13
-
2022-04-29
-
C23C14/52
- 本实用新型公开了一种真空镀膜机的箱体结构，涉及真空镀膜机技术领域，包括箱炉和箱盖，箱盖可转动的密封在在箱炉上，箱炉呈圆柱体结构，箱炉内部设置用于镀膜加工的真空腔室，箱炉侧壁设置若干连通真空腔室的连接口和抽空管，箱炉的外侧壁上还对称设置连接座，连接座上连接第一转轴，沿箱炉外侧壁等距离排列设置若干锁紧件，其操作简单，同时箱炉与箱盖之间连接的更加紧密，密封效果更佳，通过设置第一观察部可以大范围的观察到箱体内部的镀膜情况，通过设置第二观察部和调节旋钮，可以调节目筒和物筒之间距离改变焦距，便于对工件的镀膜细节进行观察，提高判断的准确性。
- 一种真空镀膜箱体结构
- [实用新型]一种真空镀膜机用镀膜室-CN202122774966.9有效
-
应世强;应佳根
-
南京丙辰表面技术有限公司
-
2021-11-13
-
2022-04-12
-
C23C14/24
- 本实用新型公开了一种真空镀膜机用镀膜室，属于真空镀膜机技术领域，包括真空罩和位于所述真空罩底部的底座组成的真空室以及与所述真空室之间通过材料进出口相互连通的烘干室，所述烘干室用于对蒸镀材料进行烘干，其底部设置有电热丝和吹风机组成的烘干装置，其顶部设置有排气孔，所述材料进出口用于蒸镀材料进入所述真空室，且所述真空室内部还设置有封闭机构用于闭合所述材料进出口，所述真空室的内部安装有镀膜机构、真空抽气管和基片台。通过将镀膜室分为烘干室和真空室，其中烘干室用来将输送进真空室的蒸镀材料进行烘干，避免蒸镀材料在蒸发过程中产生水蒸汽影响镀膜效果和真空室内的真空效果，从而提高了镀膜产品的品质。
- 一种真空镀膜镀膜
- [实用新型]一种真空镀膜机用蒸发装置-CN202122936559.3有效
-
应世强;应佳根
-
南京丙辰表面技术有限公司
-
2021-11-27
-
2022-04-12
-
C23C14/26
- 本实用新型公开了一种真空镀膜机用蒸发装置，属于真空镀膜机技术领域，包括安装在支撑台上的蒸发平台，所述蒸发平台侧边通过铰链铰接有多个用于放置蒸发舟的置物架，且所述置物架的底部通过支撑杆与所述支撑台连接，所述蒸发平台由升降气缸控制上下移动，在所述蒸发平台下降时带动所述置物架向着所述蒸发平台倾斜，使所述蒸发舟根据自身重力移动到所述蒸发平台上进行内部基材的蒸发。通过蒸发平台铰接多个置物架可同时摆放多种基材，增加镀膜多样性，在需要对基材蒸发时，只需控制相应蒸发舟移动到蒸发平台上进行蒸发即可满足对应基材的镀膜，而位于置物架上的其他蒸发舟不蒸发，不会干扰镀膜。
- 一种真空镀膜蒸发装置
- [实用新型]一种镀膜机的多靶位真空室-CN202122628948.X有效
-
应世强;应佳根
-
南京丙辰表面技术有限公司
-
2021-10-29
-
2022-04-12
-
C23C14/56
- 本实用新型公开了一种镀膜机的多靶位真空室，属于真空镀膜机技术领域，包括真空罩和底座，所述真空罩内安装有多个磁控溅射靶，所述底座上安装有抽真空管，所述底座上安装有旋转座驱动的转盘，所述转盘上圆周分布有若干个基片台架，通过驱动所述转盘旋转使不同的所述基片台架移动到所述磁控溅射靶的下方，所述基片台架包括由翻转电机驱动的上下翻转的基片夹持架，所述基片夹持架的侧面还安装有挡板，通过翻转所述基片夹持架可使所述挡板朝向所述磁控溅射靶。通过圆周分布在转盘上的基片台架与多个磁控溅射靶对应，提高镀膜效率，而且基片台架位置可以移动，方便将不同基片切换到不同磁控溅射靶下方，满足实际镀膜需求。
- 一种镀膜多靶位真空
- [实用新型]一种镀膜机用升降式基片台-CN202122716575.1有效
-
应世强;应佳根
-
南京丙辰表面技术有限公司
-
2021-11-08
-
2022-04-12
-
C23C14/50
- 本实用新型公开了一种镀膜机用升降式基片台，属于真空镀膜机技术领域，包括内部中空且顶部开口的台体，所述台体的内部安装有通过升降气缸控制升降的基片放置架，所述台体的顶部开口左右铰接有盖板，所述盖板通过连杆结构与所述基片放置架连接，使所述基片放置架在升起时所述连杆结构推动所述盖板打开开口，所述基片放置架在下降时所述连杆结构拉动所述盖板关闭开口。通过基片放置架来固定待镀膜的基片，而基片放置架可从台体内伸出，方便基片的镀膜，镀膜完毕后基片放置架可再次收回台体内部，其中台体的盖板与基片放置架之间联动，使基片放置架在伸出时盖板打开，收回时盖板关闭，这样可以保护镀膜后的基片不被二次附着镀膜材料。
- 一种镀膜升降式基片台
- [实用新型]一种原子层沉积装置-CN202122718183.9有效
-
应世强;应佳根
-
南京丙辰表面技术有限公司
-
2021-11-08
-
2022-04-12
-
C23C16/455
- 本实用新型公开了一种原子层沉积装置，属于原子镀膜技术领域，腔体位于下壳体内，上壳体位于下壳体的上侧，腔体的底部设置进气主管，进气主管通过垂直设置的若干锁紧架支撑，进气主管的侧壁等距离连接若干曝气管，曝气管通过支撑架水平设置在腔体底部位置，并且曝气管通过垂直设置的曝气喷嘴垂直向上曝气，下壳体的圆周表面固定连接有固定框，固定框与上壳体之间设置有压紧机构，压紧机构用于将上壳体压紧于下壳体上，通过设置进气主管和曝气管进行均匀曝气，使得基材能够得到均匀镀膜；同时本实用新型中的整个装置结构简单，通过手动调节压紧机构使上壳体能够与下壳体进行密封。
- 一种原子沉积装置
- [发明专利]一种真空镀膜机-CN202111276041.X在审
-
应世强;应佳根
-
南京丙辰表面技术有限公司
-
2021-10-29
-
2022-02-25
-
C23C14/50
- 本发明公开了一种真空镀膜机，涉及镀膜机技术领域，包括真空炉、转架、推车和抽空机构，抽空机构连接真空炉用于将真空炉抽取真空，转架滑动连接在推车上并被推车送入至真空炉的内部，转架包括转动部和滑动部，转动部包括通过支撑杆连接的第一固定架和第二固定架，滑动部包括两呈圆弧形结构的底架，两底架之间通过连杆固定，底架两端分别设置转轮，采用卧式设计，通过推车将转架送入到真空炉的内部，推车上的丝杆能够上下调节导轨的高度，使得导轨的高度能够与滑架的高度持平，方便将转架平稳的推入到真空炉内，并且通过限位杆不仅能够保证转架移动能够保持稳定，还可以通过限位杆旋接锁紧螺帽将转架的位置进行固定。
- 一种真空镀膜
|
