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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]曝光装置、器件制造方法-CN201710164773.7有效
发明人：马込伸贵;小林直行 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-07-26 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置、器件制造方法。一种曝光装置，透过液体对基板照射曝光用光以使该基板曝光，具备：投影光学系统，将像透过液体透影；可动构件，支承该基板并移动；液体供应机构，从该可动构件的上方透过供应口对该投影光学系统下供应液体；以及液体回收机构，从该可动构件的上方透过吸引口将该供应的液体与气体一起回收；该液体回收机构具有收容从该吸引口回收且与气体分离的液体的槽、及检测收容在该槽的液体的量的检测器。
曝光装置器件制造方法

[发明专利]曝光装置、器件制造方法-CN201410333238.6有效
发明人：马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-07-26 - 公布日： 2017-04-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置、器件制造方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
曝光装置器件制造方法

[其他]非接触充电模块、非接触充电设备以及受电侧电子设备-CN201190000973.5有效
发明人： 小林直行;西野德次;田畑健一郎 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2011-12-28 - 公布日： 2014-01-29 - 主分类号： H01F38/14 文献下载
摘要：本实用新型提供能够在可靠地使导线和磁性薄片绝缘的状态下，实现薄型化的非接触充电模块。该非接触充电模块包括：缠卷导线而成的平面线圈部(2)；隔着绝缘膜(4)载置平面线圈部(2)且具有导电性的磁性薄片(3)；以及从平面线圈部(2)的卷绕开始点延伸至磁性薄片(3)的端部的凹部(33)或狭缝(4)，平面线圈部(2)的导线将绝缘膜(4)压入到凹部(33)或狭缝(34)内且该导线被容纳在凹部(33)或狭缝(34)内，平面线圈部(2)的导线因绝缘膜(4)而与具有导电性的磁性薄片(3)绝缘。
接触充电模块设备以及受电侧电子设备

[其他]非接触充电模块以及使用该非接触充电模块的接收侧非接触充电设备及发送侧非接触充电设备-CN201190000810.7有效
发明人：田畑健一郎;西野德次;日高晃男;小林直行 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2011-12-28 - 公布日： 2013-12-25 - 主分类号： H01F38/14 文献下载
摘要：本实用新型提供即使使用用于位置对准的磁铁，也能够特别防止磁铁对线圈的内侧部分造成的不良影响，提高电力传输效率的非接触充电模块。该非接触充电模块是接受从具备磁铁的发送侧非接触充电模块通过电磁感应传输的电力的接收侧非接触充电模块，其特征在于，具备：将导线缠卷成漩涡状而成的平面线圈部；以及与平面线圈部的线圈的面相对设置，并与发送侧非接触模块的磁铁互相吸引的磁性薄片，平面线圈部的内径比磁铁大。
接触充电模块以及使用接收设备发送

[发明专利]液浸曝光装置及其制造方法、曝光装置、器件制造方法-CN201110268975.9有效
发明人：马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-07-26 - 公布日： 2012-01-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
曝光装置及其制造方法器件

[发明专利]曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法-CN201110022027.7有效
发明人：马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-07-26 - 公布日： 2011-05-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
曝光装置器件制造方法控制

[发明专利]曝光装置、器件制造方法-CN201010240704.8有效
发明人：马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-07-26 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
曝光装置器件制造方法

[发明专利]曝光装置和器件制造方法-CN201010155625.7无效
发明人：根井正洋;小林直行;荒井大;大和壮一 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2003-12-08 - 公布日： 2010-10-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光装置包括：在局部用液体(50)充满投影光学系统(PL)的像面一侧，通过液体(50)和投影光学系统(PL)将图案像投影到衬底(P)上，曝光衬底(P)，回收向衬底(P)的外侧流出的液体的回收装置(20)。在使用浸液法进行曝光处理时，即使向衬底外侧流出液体，也能抑制环境的变动，复制出精度优良的图案。
曝光装置器件制造方法

[发明专利]曝光装置、器件制造方法-CN200810173396.4有效
发明人：马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-07-26 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
曝光装置器件制造方法

[发明专利]曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法-CN200810173395.X有效
发明人：马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-07-26 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
曝光装置器件制造方法控制

[实用新型]天线装置-CN200920001424.4有效
发明人：中村浩一;清末邦昭;谷口贤二;小林直行 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2009-01-08 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： H01Q7/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种天线装置及其调整方法，在利用电磁感应方式或微波方式进行通信的天线装置中，可以扩大天线装置中的共振频率的调整范围，并且可以满足携带式电话厂商所要求的相对于天线中心频率的较窄公差。本实用新型的天线装置，在基材(4)上具有天线部(3)和天线图形(2)，该天线图形(2)被以在与天线部(3)相同的方向上产生磁场的方式缠绕，并且该天线图形(2)由并联连接的多个环形形成。
天线装置

[发明专利]曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法-CN200810173386.0有效
发明人：马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-07-26 - 公布日： 2009-05-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
曝光装置器件制造方法控制

[发明专利]曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法-CN200810173388.X有效
发明人：马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-07-26 - 公布日： 2009-05-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
曝光装置器件制造方法控制

[发明专利]曝光装置、器件制造方法-CN200810173387.5有效
发明人：马込伸贵;小林直行;榊原康之;高岩宏明 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2004-07-26 - 公布日： 2009-05-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
曝光装置器件制造方法

[发明专利]橡胶状聚合物的制备方法和制备装置-CN200580010656.0无效
发明人：引田和浩;久田见博隆;小林直行;D·R·厄尔比 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2005-03-30 - 公布日： 2007-04-11 - 主分类号： C08J3/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种橡胶状聚合物的制备方法，通过在聚合物胶乳中加入凝固剂，使橡胶状聚合物成分凝固以制备橡胶状聚合物，其中具有使用带粉碎功能的泵使橡胶状聚合物成分凝固制得屑粒浆的工序，并且作为带粉碎功能的泵，使用具有10m以上的扬程的泵。根据本发明，通过在聚合物胶乳中加入凝固剂，使橡胶状聚合物成分凝固以制备橡胶状聚合物的方法，可以提高操作性、并削减制备工艺和制备装置，可以谋求降低设备费和制备成本。
橡胶聚合物制备方法装置

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