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[发明专利]表面测量方法、零件的制造方法、零件的检查方法以及零件的测量装置-CN201980057651.5在审
发明人： J.钟;宫田一史;丸山重信 -专利权人：日立安斯泰莫株式会社
申请日： 2019-08-14 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： G01N21/952 文献下载
摘要：该表面测量方法向被测量面(100d)照射相干光束(10)，将由被测量面(100d)反射的反射光投射至屏幕(102)而形成光学像(280)，在由光学传感器(107)对光学像(280)进行拍摄时，在使屏幕(102)向一个方向连续移动的状态下实施由该光学传感器(107)进行的拍摄。
表面测量方法零件制造方法检查以及测量装置

[发明专利]蚀刻方法和基板处理系统-CN202010926933.9在审
发明人：高桥信博;宫田一史;浅田泰生 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-09-07 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明涉及蚀刻方法和基板处理系统。[课题]适当地进行硅锗层的侧面蚀刻。[解决方案]一种蚀刻方法，其为对交替地层叠有硅层与硅锗层的基板的硅锗层进行侧面蚀刻的方法，所述方法包括如下工序：对前述硅锗层的暴露端面上的附着物供给等离子体化的包含氢的气体，从而对前述附着物的表面进行改性的工序；和，对前述硅锗层供给含氟气体，从而对前述硅锗层进行侧面蚀刻的工序。
蚀刻方法处理系统

[发明专利]部件的制造方法和使用它的制造装置、体积测定方法-CN201580035534.0在审
发明人：谷口敦史;宫田一史 -专利权人：日立汽车系统株式会社
申请日： 2015-06-22 - 公布日： 2017-03-08 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：现有技术中仅从单一方向使用称为光切法的方法测定产品的体积，在面的倾斜相对于入射光线较陡的情况下，精度下降而不能得到要求的结果。由利用这样的体积测定方案的制造方法难以制造高精度的产品。本发明包括对部件进行加工的加工步骤、采用光学方式对在加工步骤中排出的部件的体积进行测定并计算的检查步骤、对检查步骤中得到的部件的体积值与预先设定的基准值进行比较来判断部件的质量的评价步骤、根据评价步骤的评价结果对部件进行分选并将其分路的分路步骤、和输送在分路步骤中分路后的部件的输送步骤，由此提供一种高精度的部件的制造方法和使用它的制造装置。
部件制造方法使用装置体积测定

[发明专利]成膜装置-CN201110183672.7有效
发明人：浮贺谷信贵;曾田岳彦;荣田正孝;宫田一史;川口昌宏;野田彰一 -专利权人：佳能株式会社;株式会社日立显示器
申请日： 2011-07-01 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及成膜装置。提供能够减少可传送到对准机构的振动和变形并由此抑制在表面方向上的基板和掩模之间的不对准的成膜装置。所述成膜装置包括：成膜室；对准机构支撑部件；和设置在对准机构支撑部件上的对准机构，其中：对准机构支撑部件包含用于放置对准机构的支撑板、和腿部；支撑板被设置为借助于腿部与成膜室的顶板分开；并且，支撑板的至少一部分由能够将传送到支撑板的振动转换成热能而由此抑制振动的阻尼材料形成。
装置

[发明专利]成膜装置及使用该成膜装置的成膜方法-CN200910165014.8有效
发明人：曾田岳彦;荣田正孝;宫田一史 -专利权人：佳能株式会社;株式会社日立显示器
申请日： 2009-07-28 - 公布日： 2010-02-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供一种成膜装置和使用该成膜装置的成膜方法，它们能够形成具有良好尺寸精度以及具有基板与掩模之间在将基板压向掩模时于平面方向上的减小的不对准的像素图案。该成膜装置包括使基板和掩模相互对准的对准机构以及用设置于挤压体的一端的接触部件将基板压向掩模的挤压机构，其中该挤压体被设置于真空室中。在通过对准机构使基板与掩模之间对准之后，使挤压体的接触部件和在与掩模相对的一侧上的基板的表面达到接触以压基板。
装置使用方法

[发明专利]磁头及制造磁头的方法-CN200810125361.3有效
发明人：安井启人;田中秀明;大川贵子;难波明博;与名本欣树;宫田一史;并木健太郎 -专利权人：日立环球储存科技荷兰有限公司
申请日： 2008-06-20 - 公布日： 2008-12-24 - 主分类号： G11B5/39 文献下载
摘要：通过减小磁头的空气支承面保护层的厚度，此外，抑制读元件的S/N比率的减小，以高成品率提供一种适合于高密度记录的磁头。磁头1的读元件12在下磁屏蔽层14和上磁屏蔽层16之间具有磁阻效应膜(TMR膜)2，以及在TMR膜2的两侧中具有再充填膜18和磁畴控制膜19。TMR膜2由下金属层3、反铁磁层4、铁磁钉扎层5、中间层6、铁磁自由层7和上金属层8构成。在TMR膜2的记录介质面对表面9上，形成包括厚度为约2.0nm的氮化硅膜的空气支承面保护层100。由于氮化硅膜中的硅被氮钝化，硅不损坏TMR膜2。因此，读元件12的噪声可以被控制在低水平。
磁头制造方法

[发明专利]图像显示装置-CN200710006909.8无效
发明人：田村太久夫;佐野靖;宫田一史 -专利权人：株式会社日立显示器
申请日： 2007-01-30 - 公布日： 2007-09-12 - 主分类号： H01J31/12 文献下载
摘要：本发明提供一种图像显示装置。具有2维配置的多个像素和薄膜电子源，该薄膜电子源具备设置在各个前述像素且由信号布线之一形成的下部电极、由该下部电极表面的阳极氧化形成的电子加速层、以及层叠在该电子加速层上且发射电子的上部电极，本发明通过将设置在各个前述像素的前述电子加速层(阳极氧化膜)中所包含的含水氧化铝成分相对于该含水氧化铝成分与无水氧化铝成分之和的比率调整在0.25～0.42的范围，来抑制该电子加速层的二极管特性的劣化，提高前述图像显示装置的可靠性。
图像显示装置

[发明专利]制造磁头浮动块的方法和磁头浮动块-CN200610105839.7无效
发明人：安井启人;稻叶宏;佐佐木新治;宫田一史 -专利权人：日立环球储存科技荷兰有限公司
申请日： 2006-07-13 - 公布日： 2007-01-17 - 主分类号： G11B5/187 文献下载
摘要：本发明提供了具有飞行表面保护膜的磁头浮动块，所述飞行表面保护膜具有极好的耐蚀性和耐磨性而不管其非常小的厚度。制造磁头浮动块的方法包含以下步骤：在浮动块的飞行表面上，形成飞行表面保护膜(100)，其为非晶硅膜(102)和硬非晶碳膜(101)的叠层；通过用关于飞行表面的法线倾斜的离子束照射，从硬非晶碳膜(101)去除表面区域；以及在其上已形成了飞行表面保护膜(100)的飞行表面中形成轨。硬非晶碳膜(101)中金刚石成分的量必须不小于45％，并且希望地在60％到85％的范围内。在去除部分的飞行表面保护膜(101)的步骤中，当照射离子束的角度从磁头浮动块的飞行表面的法线不小于60度时，并且当用于离子束的加速电压不高于300V时，获得高密度和覆盖性能。
制造磁头浮动方法