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[实用新型]一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置-CN202221292326.2有效
发明人：张雪奎;牛立久;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置，包括储液槽，储液槽上设置有循环出口、循环入口和减压循环入口，循环出口和循环入口之间连接有带循环泵的循环管道，储液槽内安装有温度传感器和对储液槽内药液进行加热的加热装置，储液槽上设置有出液口，出液口与带出液泵的出液管道一端连通，出液管道的另一端分别与供液管道和减压循环管道相连通，供液管道的另一端与单片湿法刻蚀机的刻蚀腔内的喷淋头连通，减压循环管道的另一端与储液槽上的减压循环入口连通，供液管道和减压循环管道上分别设置有第一控制阀和第二控制阀，该恒温供液装置不但能够实现恒温供液，而且能够避免在刻蚀等待过程中管道内的药液温度低于要求温度。
一种单片湿法刻蚀恒温装置

[实用新型]湿法腐蚀机的晶圆水洗装置-CN202221292332.8有效
发明人：张雪奎;牛立久;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了湿法腐蚀机的晶圆水洗装置，包括第一输送组件和第二输送组件，第二输送组件的第二输送条位于水洗腔室内，水洗腔室的顶部安装有对晶圆上表面进行喷射超纯水的喷射水洗机构，水洗腔室在喷射水洗机构的输送下游安装有对晶圆上下表面进行喷淋超纯水的喷淋机构，喷射水洗机构和喷淋机构均与超纯水供应系统连通，第二机架上设置有检测晶圆定位于喷射水洗机构下方的检测传感器，该检测传感器与控制所述第二输送轮组运转的输送动力装置电连接。该晶圆水洗装置能够更彻底的清除晶圆表面残留的刻蚀液。
湿法腐蚀水洗装置

[实用新型]一种芯片生产中的光刻胶恒温供给装置-CN202221292384.5有效
发明人：张雪奎;牛立久;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种芯片生产中的光刻胶恒温供给装置，包括光刻胶储存瓶和储液罐，光刻胶储存瓶和储液罐之间设置有补液装置，储液罐的出液口连接有出液管道，出液管道上设置有出液泵，供给装置还包括调温水槽和调温循环管道，调温水槽或/和调温循环管道上设置有调温装置，调温循环管道的两端分别连接调温水槽的入口和出口，调温循环管道上设置有循环水泵，调温循环管道上设置有穿入口和穿出口，穿入口和穿出口之间的调温循环管道形成了恒温热交换管段，出液管道从穿入口穿入到恒温热交换管段内并从穿出口穿出，所述出液管道的末端连接有光刻胶喷头。该恒温供给装置能够更精确的控制光刻胶的温度，从而涂胶工艺的稳定性更好。
一种芯片生产中的光刻恒温供给装置

[实用新型]一种芯片生产用的湿法刻蚀机-CN202123240149.1有效
发明人：牛立久;张雪奎;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种芯片生产用的湿法刻蚀机，包括晶圆湿法刻蚀装置，晶圆水洗装置和晶圆干燥装置，晶圆湿法刻蚀装置包括第一机架，第一机架上安装有的刻蚀输送辊组，所述刻蚀输送辊组一对输送辊组之间安装有若干条间隔的刻蚀输送带，晶圆水洗装置包括相互衔接的第一输送组件和第二输送组件，水洗腔室的顶部内安装和有对晶圆上下表面进行喷射超纯水的喷射水洗机构装置，晶圆干燥装置包括第四机架，第四机架上依次安装有上游输送装置、干燥输送装置和下游输送装置，干燥输送装置包括若干个干燥输送辊，该湿法刻蚀机能够完成晶圆的刻蚀、清洗以及干燥，更彻底的清除晶圆表面残留的刻蚀液，更好的将晶圆彻底干燥。
一种芯片生产湿法刻蚀

[实用新型]一种蒸发台的等离子清洗装置-CN202123134966.9有效
发明人：张雪奎;牛立久;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种蒸发台的等离子清洗装置，所述等离子清洗装置安装于蒸发台的真空腔的内部且位于下隔板的底部，所述真空腔的下隔板的底部滑动安装有滑台，所述蒸发台的金属坩埚和等离子清洗装置安装于所述滑台上，所述滑台由工位切换装置驱动使金属坩埚或者等离子清洗装置处于工作工位，当金属坩埚处于工作工位时与下隔板上的工作口位置对应用于金属蒸发镀膜；当等离子清洗装置处于工作工位时与下隔板上的工作口位置对应，等离子清洗装置产生等离子体从工作口溢出用于清洗真空腔上部的晶圆，该装置能够有效清洁晶圆表面，减少加热时间，改善镀膜表面，提高了生产质量，提升效率。
一种蒸发等离子清洗装置

[实用新型]光刻机掩膜版盒的智能存取装置-CN202123120948.5有效
发明人：牛立久;张雪奎;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：本实用新型公开了光刻机掩膜版盒的智能存取装置，包括柜体，柜体分隔成上腔体、前腔体、后腔体和下腔体，前腔体内抽拉安装有收纳盒，后腔体内安装有过滤器，后腔体上设置有进气口，下腔体上设置有电控柜和抽气风机，抽气风机的进气口与后腔体联通，抽气风机的出气口与前腔体连通，前腔体与上腔体连通，上腔体上设置有排气口，前腔体内安装有顶推机构，顶推机构在前腔体内移动顶推任意一个收纳盒，柜体的前面板上设置有操作面板。该智能存取装置可以更好的储存掩膜版盒，不但可以减少灰尘的附着，而且方便准确的分类储存和取出，避免出错。
光刻机掩膜版盒智能存取装置

[实用新型]一种晶圆载片台-CN202123102737.9有效
发明人：牛立久;张雪奎;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2021-12-08 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆载片台，包括板体，所述板体的中部设置有用于放置晶圆的放置区域，所述放置区域上设置有若干圈同心的环形槽，所述环形槽之间的槽沿用于支撑晶圆底部，所述板体上位于每个环形槽内均设置有至少一个吸气口，所述本体的侧壁上设置有抽吸口，所述抽吸口通过抽吸通道与每个吸气口联通，所述板体上位于放置区域的四周设置有用于定位所述晶圆的定位装置。该晶圆载片台可以更好的支撑晶圆，晶圆的受力更均匀，降低载片台的加工难度。
一种晶圆载片台

[实用新型]一种晶圆湿法刻蚀装置-CN202123238926.9有效
发明人：牛立久;张雪奎;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆湿法刻蚀装置，包括机架，机架上安装有一对输送辊组，一对输送辊组之间安装有若干条间隔的输送带，机架上位于输送带的上游端安装有导向装置，输送带的下方竖直升降安装有升降座，升降座上绕竖直中心线转动安装有旋转座，旋转座由安装于升降座上的旋转电机驱动，旋转座上安装有方便从输送带之间的空隙区域露出的托盘，托盘上设置有若干个支撑柱，若干个支撑柱之间形成了方便晶圆放置的放置区域，机架上位于输送带的上方设置有喷淋刻蚀液的喷淋装置，该装置能够有效改善晶圆破碎，方便定位，夹持牢固，避免晶圆破碎导致刻蚀液进入其他部分，提高生产安全，提升生产质量。
一种湿法刻蚀装置

[实用新型]一种单片湿法刻蚀机晶圆干燥装置-CN202123237819.4有效
发明人：张雪奎;牛立久;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种单片湿法刻蚀机晶圆干燥装置，该晶圆干燥装置安装于上游输送装置和下游输送装置之间，包括机架，所述机架上转动安装有若干个干燥输送辊，所述干燥输送辊的输送平面与上游输送装置和下游输送装置的输送平面衔接，每个干燥输送辊上均套装固定有吸水套，所述干燥输送辊由输送动力装置驱动，所述机架上位于干燥输送辊的上方安装有气吹干燥装置，该装置能够短时间内逐个将去胶好的晶圆彻底的干燥、防止水痕产生，有效减少对晶圆表面的腐蚀，提高生产质量。
一种单片湿法刻蚀机晶圆干燥装置

[实用新型]一种光刻机掩膜版盒的储存柜-CN202123120949.X有效
发明人：牛立久;张雪奎;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： B65D25/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光刻机掩膜版盒的储存柜，包括柜体柜体被分隔成上腔体、中间腔体和下腔体，中间腔体被分隔为前腔体和后腔体，前腔体内抽拉安装有收纳盒，收纳盒的前板面上均设置有标签纸，后腔体内安装有过滤器，所述后腔体上设置有进气口，所述下腔体上设置有抽气风机，所述抽气风机的进气口与后腔体联通，所述抽气风机的出气口与前腔体连通，所述前腔体与上腔体连通，所述上腔体上设置有排气口，所述上腔体上设置有用于检测腔体内部温度和湿度的温湿度传感器。该储存柜可以更好的储存掩膜版盒，方便掩膜版盒的寻找，避免空间中的灰尘污染掩膜版盒。
一种光刻机掩膜版盒储存

[发明专利]一种芯片生产用的湿法刻蚀方法-CN202111578425.7在审
发明人：牛立久;张雪奎;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种芯片生产用的湿法刻蚀方法，S1、设备的前期准备；S2、刻蚀输送带带动晶圆输送并停留在托盘上方的刻蚀工位；S3、托盘上升支托晶圆，再由旋转座带动托盘旋转；S4、刻蚀喷淋装置喷淋刻蚀液；S5、晶圆由刻蚀输送带输送至第一输送组件上，再输送至第二输送组件上；S6、当水洗检测传感器检测到晶圆时，喷射水洗装置对晶圆表面喷射超纯水；S8、上游输送装置将晶圆输送至干燥输送装置的干燥工位上，吸水套与晶圆下表面接触吸水干燥；气吹干燥装置对晶圆上表面气吹干燥；S9、下游输送装置将干燥的晶圆送出，该湿法刻蚀方法能够防止晶圆破裂，更彻底的清除晶圆表面残留的刻蚀液，更好的将晶圆彻底干燥，防止水痕产生。
一种芯片生产湿法刻蚀方法

[发明专利]一种光刻机掩膜版的智能存取方法-CN202111515215.3在审
发明人：牛立久;张雪奎;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： A47B81/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机掩膜版的智能存取方法，包括以下步骤：S1、提供一个智能存取装置；S2、将各种规格的掩膜版放置在对应的掩膜版盒中；S3、将各掩膜版盒放入到对应的收纳盒中，其对应关系通过操作面板进行存储；S4、抽气风机启动；S5、从操作面板中输入所要取出掩膜版的规格；S6、电控柜驱动顶推机构移动到收纳盒的后方；S7、顶推机构动作将该收纳盒推出；S8、取出该收纳盒中的掩膜版盒并关闭收纳盒。该智能存取方法能够更好更迅速的存取掩膜版，避免灰尘的附着，避免掩膜版放错。
一种光刻机掩膜版智能存取方法

[发明专利]一种晶圆湿法刻蚀装置-CN202111577981.2在审
发明人：牛立久;张雪奎;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆湿法刻蚀装置，包括机架，机架上安装有一对输送辊组，一对输送辊组之间安装有若干条间隔的输送带，机架上位于输送带的上游端安装有导向装置，输送带的下方竖直升降安装有升降座，升降座上绕竖直中心线转动安装有旋转座，旋转座由安装于升降座上的旋转电机驱动，旋转座上安装有方便从输送带之间的空隙区域露出的托盘，托盘上设置有若干个支撑柱，若干个支撑柱之间形成了方便晶圆放置的放置区域，机架上位于输送带的上方设置有喷淋刻蚀液的喷淋装置，该装置能够有效改善晶圆破碎，方便定位，夹持牢固，避免晶圆破碎导致刻蚀液进入其他部分，提高生产安全，提升生产质量。
一种湿法刻蚀装置

[发明专利]一种芯片生产用的湿法刻蚀机-CN202111579124.6在审
发明人：牛立久;张雪奎;刘增增;周一雷;徐金鑫 -专利权人：山东华楷微电子装备有限公司
申请日： 2021-12-22 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种芯片生产用的湿法刻蚀机，包括晶圆湿法刻蚀装置，晶圆水洗装置和晶圆干燥装置，晶圆湿法刻蚀装置包括第一机架，第一机架上安装有的刻蚀输送辊组，所述刻蚀输送辊组一对输送辊组之间安装有若干条间隔的刻蚀输送带，晶圆水洗装置包括相互衔接的第一输送组件和第二输送组件，水洗腔室的顶部内安装和有对晶圆上下表面进行喷射超纯水的喷射水洗机构装置，晶圆干燥装置包括第四机架，第四机架上依次安装有上游输送装置、干燥输送装置和下游输送装置，干燥输送装置包括若干个干燥输送辊，该湿法刻蚀机能够完成晶圆的刻蚀、清洗以及干燥，更彻底的清除晶圆表面残留的刻蚀液，更好的将晶圆彻底干燥。
一种芯片生产湿法刻蚀

[实用新型]一种脱硫系统管路的穿舱结构-CN201921843455.4有效
发明人： 周一雷;李翔;邹荡平 -专利权人：上海铠韧气体工程股份有限公司
申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2020-10-13 - 主分类号： B01D53/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种脱硫系统管路的穿舱结构，包括系统舱室、系统管路和舱室接管。系统舱室的舱壁材料为碳钢且内表面上具有耐腐蚀涂层，舱壁的外表面上对应每个穿舱孔焊接一个内径大于系统管路的外径的舱室座板法兰，并在舱室座板法兰的端面上均布地开设若干螺纹盲孔；系统管路的材料为双相不锈钢且端头焊接一个端头法兰；舱室接管的材料为双相不锈钢且端头焊接一个接管法兰，该舱室接管的头部还焊接一个中间法兰；舱室接管插入系统舱室的穿舱孔中，并将中间法兰通过若干螺栓安装在舱室座板法兰上，再将接管法兰通过若干螺栓和螺母与系统管路的端头法兰连接。本实用新型的穿舱结构，解决了小口径管路如何进入具有耐腐蚀层舱室的问题。
一种脱硫系统管路结构

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