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[发明专利]用于成像和干涉测量的设备和方法-CN202080083407.9在审
发明人：阿兰·库特维尔;吉莱斯·弗莱斯阔特 -专利权人： FOGALE 纳米技术公司
申请日： 2020-09-21 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于测量物体(100)的表面的设备(1000、2000、3000、4000、5000、6000)，该设备包括：‑至少一个光源(112、212、320、520)；‑至少一个光学传感器(102、202、624)；以及‑干涉测量装置，其具有测量臂和参考臂，该测量臂被配置成通过光学聚焦系统(107、207)将来自至少一个光源(112、212、320、520)的光朝向物体的待测量表面引导，并将来自待测量表面的光朝向至少一个光学传感器(102、202、624)引导；根据被称为干涉测量配置的第一配置，测量设备被配置为用至少一个光源(112、212、320、520)照射参考臂和测量臂，并将来自测量臂和参考臂的光朝向至少一个光学传感器(102、202、624)引导，以便形成干涉信号；根据被称为成像配置的第二配置，测量设备被配置为至少照射测量臂，并仅将来自测量臂的光朝向至少一个光学传感器(102、202、624)引导，以便形成待测量表面的图像；测量设备还包括数字处理单元，所述数字处理单元被配置为根据干涉信号和图像产生关于待测量表面的信息。本发明还涉及一种测量物体(100)的表面的方法(10)。
用于成像干涉测量设备方法

[发明专利]光学元件的界面测量方法和设备-CN202080018726.1在审
发明人： 吉莱斯·弗莱斯阔特;西尔万·珀蒂格朗德 -专利权人： FOGALE纳米技术公司
申请日： 2020-03-02 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：一种用于测量形成包括称为“参考”光学元件的至少一个光学元件的多个类似光学元件的一部分的待测量光学元件(5)的界面的设备和方法(100)，该方法(100)包括以下步骤：所述参考光学元件和测量光束(11)的相对定位(102)；获取(104)“参考”图像；相对于视场定位(106)待测量光学元件(5)，以允许获取“测量”图像；确定(107)所述待测量光学元件(5)相对于参考光学元件的位置差别；调整(110)所述待测量光学元件(5)的位置，以消除所述位置差别；以及，借助于所述测量光束(11)来测量(112)待测量光学元件(5)的界面。
光学元件界面测量方法设备

[发明专利]用于加工期间的晶片控制的表面轮廓测定的设备和方法-CN201580052115.8有效
发明人： 吉莱斯·弗莱斯阔特 -专利权人：统一半导体公司
申请日： 2015-09-18 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于相对于存在于晶片(12)的第一表面(13)下方的结构(14)对所述第一表面(13)进行形状测量的设备或仪器，其包括(i)轮廓测定装置(10)，其被布置为根据至少一个测量区域对晶片(12)的所述第一表面(13)进行形状测量；(ii)成像装置(11)，其面对所述轮廓测定装置(10)，并且被布置为根据至少一个成像区域在晶片(12)的与所述第一表面(13)相对的第二表面上或通过所述第二表面获取所述结构(14)的参考图像；所述轮廓测定装置(10)和所述成像装置(11)被布置成使得测量区域和成像区域在公共参考系(15)内参照就位。本发明还涉及在所述设备或仪器中实施的方法。
用于加工期间晶片控制表面轮廓测定设备方法

[发明专利]用于晶片等对象的2D/3D检测的色差共焦装置和方法-CN201780020034.9有效
发明人： 吉莱斯·弗莱斯阔特;阿兰·库特维尔;菲利普·加斯塔尔多 -专利权人： FOGALE纳米技术公司
申请日： 2017-03-13 - 公布日： 2020-07-24 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于检测诸如晶片等对象(10)的表面的共焦色差装置，包括具有收集孔(14)的多个光学测量通道(24)，收集孔(14)布置为在多个测量点(15)处通过色差透镜(13)收集由对象(10)反射的光，所述多个光学测量通道(24)包括具有用于测量所收集的光的总强度的强度检测器(20)的光学测量通道(24)。本发明还涉及一种用于检测诸如包括三维结构(11)的晶片等对象(10)的表面的方法。
用于晶片对象检测色差装置方法

[发明专利]用于以可变空间分辨率对晶片等对象进行2D/3D检测的共焦色差装置和方法-CN201780020086.6有效
发明人： 吉莱斯·弗莱斯阔特;阿兰·库特维尔;菲利普·加斯塔尔多 -专利权人： FOGALE纳米技术公司
申请日： 2017-03-13 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于检测诸如晶片等对象(10)的表面的共焦色差装置，其包括具有收集孔(14)的多个光学测量通道，收集孔(14)被布置用于在多个测量点(15)处通过色差透镜(13)收集由对象(10)反射的光，以及放大透镜(31)，用于引入收集孔(14)和测量点(15)的空间重新分配之间的变化的或可变的例因子。本发明还涉及一种用于检测诸如包括三维结构(11)的晶片等对象(10)的表面的方法。
用于可变空间分辨率晶片对象进行检测色差装置方法

[发明专利]用于诸如晶片等对象的2D/3D检测的方法-CN201780019774.0在审
发明人： 吉莱斯·弗莱斯阔特;阿兰·库特维尔;菲利普·加斯塔尔多 -专利权人：统一半导体公司
申请日： 2017-03-13 - 公布日： 2018-11-23 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种检测诸如包括三维结构(11)的晶片等对象(10)的表面的方法，其使用具有多个光学测量通道(24)的共焦色差装置和色差透镜(13)，色差透镜(13)允许宽频带光源(19)的光学波长聚焦在限定色差测量范围的不同的轴向距离处，该方法包括以下步骤：通过测量由共焦配置的光学测量通道(24)中的至少一些测量通道收集的光在全光谱上的总强度，来获得与在对象(10)上的多个测量点(15)处，实际聚焦在色差测量范围内的对象(10)的界面上的光的强度相对应的强度信息。
光学测量色差测量色差透镜共焦晶片聚焦色差宽频带光源测量通道光学波长强度信息三维结构轴向距离测量点配置的全光谱种检测测量

[发明专利]用于可控地显示隐藏在对象如晶片中的结构的方法和装置-CN201380043727.1有效
发明人： 吉莱斯·弗莱斯阔特;西尔万·佩罗 -专利权人：统一半导体公司
申请日： 2013-08-20 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于在对象(20)、如晶片的区域中检查包围在所述对象(20)中的结构(70a、70b、70c)、如通孔的存在的成像方法和装置，其采用：成像传感器(22)；能够在所述成像传感器(22)上产生在视场中的对象(20)的图像(73、74)的光学成像单元(34)；和用于产生照明光束(25、30)并以反射方式照亮所述视场的照明单元(23、27)，其特征在于其包括以下步骤：通过用第一照明光束(25、30)照明所述对象(20)来获取第一图像(73)，所述第一照明光束(25、30)的光谱成分适合于对象(20)的性质以使得所述光束(25、30)的光基本能够射入到所述对象(20)中；通过用第二照明光束(25、30)照明所述对象(20)来获取第二图像(74)，所述第二照明光束(25、30)的光谱成分适合于对象(20)的性质以使得所述光束(25、30)的光基本上被对象(20)的表面反射；和比较所述第一图像(73)和第二图像(74)以识别出现在第一图像(73)中但不出现在第二图像(74)中的结构(71a)。
照明光束图像成像传感器方法和装置晶片视场光谱光学成像单元表面反射反射方式照明单元可控射入通孔成像照亮包围检查

[发明专利]用于通过无接触式光学法定位光刻掩模的装置和方法-CN201480066168.0有效
发明人： 吉莱斯·弗莱斯阔特;格纳尔·瑞贝特 -专利权人： FOGALE纳米技术公司
申请日： 2014-11-28 - 公布日： 2017-09-08 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于相对于晶片(11)的表面定位掩模(10)以暴露所述晶片(11)的装置。所述装置包括(i)第一定位单元(20)，其能够使所述掩模(10)和所述晶片(11)相对于彼此保持和移动；(ii)成像单元(20、22、23、30)，其能够沿着至少一个视场(14)生成掩模(10)的和晶片(11)的表面的至少一个图像，以在所述视场(14)内对所述掩模(10)和所述晶片(11)的定位标记(12、13)同时成像；和(iii)至少一个光学距离传感器(26)，其能够利用至少部分穿过成像单元的测量光束(15、28)在所述视场(一个或更多个)(14)内产生晶片(11)的表面和掩模(10)之间的距离测量。本发明还涉及在所述装置中实施的方法和一种设备。
用于通过接触光学法定光刻装置方法

[发明专利]用于在多层对象如晶片上进行尺寸测量的装置和方法-CN201380044286.7在审
发明人： 吉莱斯·弗莱斯阔特;西尔万·佩罗 -专利权人： FOGALE纳米技术公司
申请日： 2013-08-16 - 公布日： 2015-05-13 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于透过对象(20)、如晶片的表面来定位结构以相对于所述结构布置测量传感器(45、46、47)的成像装置，其包括：(i)成像传感器(22)；(ii)能够在所述成像传感器(22)上产生在视场中的对象(20)的图像的光学成像单元(34)；和(iii)用于产生照明光束(25、30)并以反射方式照亮所述视场的照明单元(23、27)，其中所述照明单元能够产生照明光束(25、30)，所述照明光束(25、30)的光谱成分适合于所述对象(20)的性质以使得所述光束(25、30)的光基本能够射入到所述对象(20)中。本发明还涉及用于在对象(20)、如晶片上进行尺寸测量的系统和方法。
用于多层对象晶片进行尺寸测量装置方法

[发明专利]用于检查结构化对象的光学设备和方法-CN201180021226.4有效
发明人： 吉莱斯·弗莱斯阔特 -专利权人：纳米技术公司
申请日： 2011-04-19 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：本发明涉及用于检查结构化对象（4）的显微镜设备，包括：相机（1）；光学成像装置（2），其能够根据视场在相机（1）上产生对象的图像，光学成像装置（2）包括远透镜（3），远透镜布置在对象（4）侧；以及低相干红外干涉仪（5），包括具有多个红外波长的测量光束（6），低相干红外干涉仪能够通过测量光束（6）的回射与至少一个单独的光学参考之间的干涉产生测量。设备还包括耦合装置（7），用于以这样的方式将测量光束射入光学成像装置，使得测量光束穿过远透镜（3），低相干红外干涉仪（5）以这样的方式平衡，使得仅在与光束（6）覆盖的至对象（4）的光程相接近的光程下发生的测量光束回射（6）产生测量，限定测量范围。
用于检查结构对象光学设备方法

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