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[发明专利]移载机、清洗组件及基板处理装置-CN202180076294.4在审
发明人：真继阿沙葵;谷泽昭寻;古泽磨奈人;青山英治;斋藤步;笹谷祐介;小林贤一;宫泽康之;相马刚;能条启一 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：实现能够以简单的构造使基板的清洗力提高的清洗组件及基板处理装置。清洗组件包含：第一搬送机构(210‑1)，该第一搬送机构用于将被研磨面朝向下方的状态的基板(WF)沿着搬送路径(405)搬送至下游侧的基板交接位置(418)；超声波清洗槽(440)，该超声波清洗槽配置于从搬送路径(405)离开的位置，并用于清洗被研磨面朝向下方的状态的基板(WF)；移载机(420)，该移载机用于在搬送路径(405)的基板交接位置(418)与超声波清洗槽(440)之间移载基板(WF)；及第二搬送机构(210‑2)，该第二搬送机构用于将通过移载机(420)而从超声波清洗槽(440)移载至基板交接位置(418)的基板(WF)沿着搬送路径(405)进一步向下游侧搬送。
移载机清洗组件处理装置

[发明专利]研磨装置、处理系统及研磨方法-CN202180038346.9在审
发明人： 古泽磨奈人;赤泽贤一;小林贤一 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2021-05-07 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： B24B41/02 文献下载
摘要：实现一种适合表面基准研磨的研磨装置。研磨装置100包含：沿着基板300的第一方向(X方向)配置的多个基板保持机构200；沿着与第一方向(X方向)交叉的第二方向(Y方向)配置的多个研磨头201；夹着基板300而与多个研磨头201相对，并在第二方向(Y方向)延伸的载台202；及用于使多个研磨头201与载台202在第一方向(X方向)移动的驱动机构500、600。
研磨装置处理系统方法

[发明专利]用于保持基板的顶环及基板处理装置-CN202011291745.X在审
发明人：石井游;佐鸟博俊;柏木诚;古泽磨奈人 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2020-11-18 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种用于保持基板的顶环及基板处理装置，顶环能够将基板均匀地按压于研磨垫。用于保持基板(WF)的顶环(302)包括：基座部件(301)，该基座部件与顶环轴(18)连结；弹性膜(320)，该弹性膜安装于基座部件(301)，在该弹性膜与基座部件(301)之间形成用于对基板(WF)进行加压的加压室(322)；以及基板吸附部件(330)，该基板吸附部件保持于弹性膜(320)，并包括多孔质部件(334)，该多孔质部件具有用于吸附基板(WF)的基板吸附面(334a)和与减压单元(31)连通的减压部(334b)。
用于保持处理装置

[发明专利]测量装置、曝光装置以及物品的制造方法-CN201780048850.0有效
发明人：前田浩平;高桥彰宏;古泽磨奈人;本间英晃 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2017-06-15 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种测量装置，针对具有与互不相同的第一方向和第二方向中的一个方向上的高度偏差相比另一个方向上的高度偏差较大的表面的基板测量该表面的高度分布，该测量装置包括：检测部，其对检测区域内的检测对象部位的高度进行检测；以及处理部，其通过相对地扫描所述基板和所述检测区域来求出扫描方向上的所述基板的表面的高度分布，其中，所述处理部通过沿所述第一方向相对地扫描所述基板和所述检测区域，来求出所述第一方向上的所述基板的表面的高度分布作为第一分布，判断所述第一分布中的高度偏差是否为基准值以上，在判断为所述第一分布中的高度偏差小于基准值的情况下，通过沿所述第二方向相对地扫描所述基板和所述检测区域来求出所述第二方向上的所述基板的表面的高度分布。
测量装置曝光以及物品制造方法

[发明专利]冷却装置、照明光学系统、曝光装置和制造物品的方法-CN201510882884.2有效
发明人：昼间健太郎;古泽磨奈人;大阪昇 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2015-12-04 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及冷却装置、照明光学系统、曝光装置和制造物品的方法，并具体提供一种用于冷却光源单元的冷却装置。冷却装置包括：被设置在来自光源单元的光的路径外面的冷却单元；和被配置为连接光源单元的发热部分与冷却单元的热导管。热导管还用作光源单元的电极线。
冷却装置照明光学系统曝光制造物品方法