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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]焊料粒子-CN201980041928.5在审
发明人：赤井邦彦;江尻芳则;冈田悠平;森谷敏光;须方振一郎;宫地胜将 -专利权人：昭和电工材料株式会社
申请日： 2019-06-26 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： B23K35/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种在表面的一部分具有平面部的焊料粒子。通过使用这种焊料粒子，能够将相向的电极彼此适当地连接，能够获得导通可靠性及绝缘可靠性优异的各向异性导电材料。
焊料粒子

[发明专利]焊料粒子及焊料粒子的制造方法-CN201980041913.9在审
发明人：赤井邦彦;江尻芳则;冈田悠平;森谷敏光;须方振一郎;宫地胜将 -专利权人：昭和电工材料株式会社
申请日： 2019-06-26 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： B23K35/40 文献下载
摘要：一种焊料粒子的制造方法，其包括：准备工序，准备具有多个凹部的基体与焊料微粒；收纳工序，将所述焊料微粒的至少一部分收纳于所述凹部中；以及熔合工序，使收纳于所述凹部中的所述焊料微粒熔合，在所述凹部的内部形成焊料粒子，所述焊料粒子的平均粒径为1μm～30μm，所述焊料粒子的C.V.值为20％以下。
焊料粒子制造方法

[发明专利]各向异性导电膜及其制造方法以及连接结构体的制造方法-CN201980042261.0在审
发明人：赤井邦彦;江尻芳则;冈田悠平;森谷敏光;须方振一郎;宫地胜将 -专利权人：昭和电工材料株式会社
申请日： 2019-06-26 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： B23K35/40 文献下载
摘要：一种各向异性导电膜的制造方法，其包括：准备工序，准备具有多个凹部的基体与焊料微粒；收纳工序，将所述焊料微粒的至少一部分收纳于所述凹部中；熔合工序，使收纳于所述凹部中的所述焊料微粒熔合，在所述凹部的内部形成焊料粒子；转印工序，使绝缘性树脂材料与在所述凹部中收纳有所述焊料粒子的所述基体的所述凹部的开口侧接触，获得转印有所述焊料粒子的第一树脂层；以及层叠工序，在转印有所述焊料粒子的一侧的所述第一树脂层的表面上形成由绝缘性树脂材料构成的第二树脂层，由此获得各向异性导电膜。
各向异性导电及其制造方法以及连接结构

[发明专利]掩模形成用组合物、太阳能电池用基板的制造方法及太阳能电池元件的制造方法-CN201410419013.2无效
发明人：织田明博;吉田诚人;野尻刚;仓田靖;岩室光则;野部茂;冈田悠平 -专利权人：日立化成株式会社
申请日： 2013-01-10 - 公布日： 2015-01-28 - 主分类号： H01L31/0224 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模形成用组合物，其含有硅化合物、含碱土金属或碱金属的金属化合物、和分散介质。
形成组合太阳能电池用基板制造方法元件

[发明专利]掩模形成用组合物、太阳能电池用基板的制造方法及太阳能电池元件的制造方法-CN201380005060.6在审
发明人：织田明博;吉田诚人;野尻刚;仓田靖;岩室光则;野部茂;冈田悠平 -专利权人：日立化成株式会社
申请日： 2013-01-10 - 公布日： 2014-09-24 - 主分类号： H01L31/0224 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模形成用组合物，其含有硅化合物、含碱土金属或碱金属的金属化合物、和分散介质。
形成组合太阳能电池用基板制造方法元件

[发明专利]喷墨用二氧化硅系被膜形成组合物、二氧化硅系被膜的形成方法、半导体设备及太阳能电池系统-CN201280019477.3无效
发明人： 冈田悠平;吉川贵浩;野部茂 -专利权人：日立化成株式会社
申请日： 2012-03-23 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： C09D11/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种喷墨用二氧化硅系被膜形成组合物，其含有硅化合物、溶剂和表面调节剂，溶剂含有γ-丁内酯、沸点为80～100℃的第二溶剂以及沸点为180～230℃的第三溶剂，相对于溶剂的总质量，所述γ-丁内酯的质量比为0.2以上，相对于溶剂的总质量，第二溶剂的质量比为0.2～0.5。
喷墨二氧化硅系被膜形成组合方法半导体设备太阳能电池系统

[发明专利]铜研磨用研磨液及使用了其的研磨方法-CN201180017611.1有效
发明人：小野裕;筱田隆;冈田悠平 -专利权人：日立化成工业株式会社
申请日： 2011-06-06 - 公布日： 2012-12-19 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明的铜研磨用研磨液含有第1有机酸成分、无机酸成分、氨基酸、保护膜形成剂、磨粒、氧化剂和水，所述第1有机酸成分是选自具有羟基的有机酸、该有机酸的盐及该有机酸的酸酐中的至少一种，所述无机酸成分是选自2价以上的无机酸及该无机酸的盐中的至少一种，以铜研磨用研磨液整体为基准计，无机酸成分以无机酸换算的含量为0.15质量%以上，氨基酸的含量为0.30质量%以上，保护膜形成剂的含量为0.10质量%以上，第1有机酸成分以有机酸换算的含量相对于保护膜形成剂的含量的比率为1.5以上。
研磨使用方法

[发明专利]铜研磨用研磨剂的应用-CN201210135608.6无效
发明人：小野裕;筱田隆;冈田悠平 -专利权人：日立化成工业株式会社
申请日： 2010-02-12 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：铜研磨用研磨剂，其含有(A)二元以上的无机酸、(B)氨基酸、(C)保护膜形成剂、(D)磨粒、(E)氧化剂和(F)水，(A)成分的含量为0.08摩尔/千克以上，(B)成分的含量为0.20摩尔/千克以上，(C)成分的含量为0.02摩尔/千克以上，满足下述(i)和(ii)的至少一者。(i)(A)成分的含量与(C)成分的含量的比率为2.00以上。(ii)还含有(G)选自有机酸及其酸酐中的至少一种。
研磨研磨剂应用

[发明专利]铜研磨用研磨剂和使用了其的研磨方法-CN201210135053.5无效
发明人：小野裕;筱田隆;冈田悠平 -专利权人：日立化成工业株式会社
申请日： 2010-02-12 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：铜研磨用研磨剂，其含有(A)二元以上的无机酸、(B)氨基酸、(C)保护膜形成剂、(D)磨粒、(E)氧化剂和(F)水，(A)成分的含量为0.08摩尔/千克以上，(B)成分的含量为0.20摩尔/千克以上，(C)成分的含量为0.02摩尔/千克以上，满足下述(i)和(ii)的至少一者。(i)(A)成分的含量与(C)成分的含量的比率为2.00以上。(ii)还含有(G)选自有机酸及其酸酐中的至少一种。
研磨研磨剂使用方法

[发明专利]铜研磨用研磨剂和使用了其的研磨方法-CN201080007580.7无效
发明人：小野裕;筱田隆;冈田悠平 -专利权人：日立化成工业株式会社
申请日： 2010-02-12 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：铜研磨用研磨剂，其含有(A)二元以上的无机酸、(B)氨基酸、(C)保护膜形成剂、(D)磨粒、(E)氧化剂和(F)水，(A)成分的含量为0.08摩尔/千克以上，(B)成分的含量为0.20摩尔/千克以上，(C)成分的含量为0.02摩尔/千克以上，满足下述(i)和(ii)的至少一者。(i)(A)成分的含量与(C)成分的含量的比率为2.00以上。(ii)还含有(G)选自有机酸及其酸酐中的至少一种。
研磨研磨剂使用方法

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