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[发明专利]社会信息提供系统和社会信息发布装置以及用户终端装置-CN201380078072.1有效
发明人：栗原伸一;斋藤雄一朗;井村和久;山崎聪;三腰稔洋;小堀理 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2013-08-08 - 公布日： 2018-07-10 - 主分类号： H04H20/59 文献下载
摘要：社会信息发布装置针对预先划分的每个项目分配并蓄积包含多个信息源各自的位置的基本信息和从所述多个信息源按时间序列发出的社会信息，将蓄积的社会信息依照指定的目的进行分析，根据需要进行修正加工，更新为项目的一部分，从蓄积的社会信息中挑选出作为广播对象的社会信息，决定包含广播挑选出的社会信息时的至少广播范围域的分类、广播时间带、该广播时间带内的重复次数的广播方式，将挑选出的社会信息按照所决定地发送方式向指定的广播范围域通过广播波进行发送。用户终端装置对当前位置进行定位，包含从社会信息发布装置发布的社会信息所示的位置与定位的当前位置的关系地将社会信息显示到显示器。
社会信息发布装置蓄积用户终端装置广播时间带范围域信息源广播发送方式广播对象广播方式基本信息时间序列项目分配广播波显示器发送修正分类重复发布更新加工分析

[发明专利]灰阶掩模坯料,灰阶掩模的制造方法和灰阶掩模及图案转写方法-CN200810186896.1有效
发明人：佐野道明;井村和久;三井胜 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2008-09-27 - 公布日： 2009-06-17 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明提供一种灰阶掩模坯料，在根据部位选择性地降低对被转写体的曝光光的照射量，在被转写体上的光刻胶上形成包含残膜值不同的部分的期望转写图案的灰阶掩模的制造中使用，在透明基板上依次具有半透光膜和遮光膜，分别在该半透光膜和该遮光膜上实施规定的图案化，从而形成遮光部、透光部和半透光部，作为灰阶掩模。遮光膜在膜厚方向上的组成变化，降低对图案化时采用的绘制光的表面反射率，半透光膜对图案化时采用的绘制光的表面反射率调整为在面内不超过45％。
灰阶掩模坯料制造方法图案转写

[发明专利]灰色调掩模的制造方法和灰色调掩模以及图案转印方法-CN200810178589.9无效
发明人：佐野道明;井村和久;三井胜 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2008-09-26 - 公布日： 2009-04-15 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种灰色调掩模的制造方法、灰色调掩模及图案转印方法。其中，准备在透明基板上依次具有半透光膜和遮光膜的灰色调掩模板，对该灰色调掩模板施加第一次构图，在包含被构图的遮光膜和露出的半透光膜的透明基板整个表面上形成抗蚀剂膜之后，通过进行第二次构图，在该半透光膜和该遮光膜上分别进行预定构图，从而形成灰色调掩模。并且，相对于所述第一次构图时的描绘光的所述遮光膜的表面反射率和相对于所述第二次构图时的描绘光的所述半透光膜的表面反射率的差，被调整为35％以下。
色调制造方法以及图案

[发明专利]灰色调掩模板及灰色调掩模及它们的制造法、图案复制法-CN200810161087.5无效
发明人：佐野道明;井村和久;木村泰树;三井胜 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2008-09-26 - 公布日： 2009-04-01 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种灰色调掩模板，其用于根据部位选择性地减少对被复制体的曝光光线的照射量，并在被复制体上形成包含残膜值不同的部分的所希望的复制图案的灰色调掩模的制造中使用，该灰色调掩模板在透明基板上具有半透光膜和遮光膜，半透光膜在基板面内至少形成掩模图案的区域内的曝光光线透过率的分布在4.0％以内。通过在该掩模板上实施规定的构图，形成遮光部、透光部、由半透光膜构成的半透光部，由此得到灰色调掩模。
色调模板它们制造图案复制

[发明专利]光掩模的制造方法、图案复制方法、光掩模以及数据库-CN200810134032.5有效
发明人：吉田光一郎;井村和久 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2008-07-22 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩模的制造方法，具有：利用再现仿真了曝光条件的曝光条件的曝光单元，在形成有规定图案的测试掩模上进行测试曝光，通过摄像单元取得该测试掩模的透过光图案，并根据所取得的透过光图案得到透过光图案数据的工序；和根据透过光图案数据在曝光条件下取得有效透过率的工序；根据该有效透过率对该区域的形状、该区域上所形成的膜的材料或膜厚进行确定。
光掩模制造方法图案复制以及数据库

[发明专利]光掩模信息的获取方法、光掩模的品质表示方法-CN200810134031.0有效
发明人：吉田光一郎;井村和久 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2008-07-22 - 公布日： 2009-02-25 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供光掩模信息的获取方法、光掩模的品质表示方法、电子器件的制造支援方法、电子器件的制造方法及光掩模制品，用与规定的曝光条件近似的曝光条件对光掩模进行曝光，通过拍摄装置获取该光掩模的透过光图形，并基于获取的透过光图形得到透过光图形数据。
光掩模信息获取方法品质表示

[发明专利]光掩模和光掩模的制造方法-CN200810130876.2有效
发明人：吉田光一郎;井村和久 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2008-08-21 - 公布日： 2009-02-25 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩模，具有多个遮光部、多个透光部和多个半透光部(灰色调部)光掩模(灰色调掩模)，即使在形成多个半透光部的半透光膜中产生膜厚倾斜等膜厚的不均一之际，多个半透光部的曝光光的透过量也不随着光掩模上的位置而受所述不均一影响，能良好控制在使用该灰色调掩模形成的抗蚀图中的抗蚀剂膜厚。在透明衬底1上形成遮光膜(6)和半透光膜(5)，对遮光膜(6)和半透光膜(5)分别进行图案化，形成多个遮光部(2)、多个透光部(3)和曝光光一部分透过的多个半透光部(4)。半透光膜(5)随着膜面的位置而曝光光的透过率不同，按照在曝光条件下多个半透光部(4)的有效透过率变为大致均一的方式进行所述图案化。
光掩模制造方法

[发明专利]灰色调掩模及图案转印方法-CN200810001273.2无效
发明人： 井村和久;木村泰树 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2008-01-17 - 公布日： 2008-07-30 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明的课题是提供一种灰色调掩模，在半透光部中具有透过光的光强度分布平坦的部分，且具备能得到规定的光强度的半透光部。再有，提供一种在将半透光部转印到被转印体的抗蚀剂膜上时能形成具有大致恒定膜厚的平坦部且具有所希望膜厚范围的抗蚀剂图案的高精度灰色调掩模。本发明的灰色调掩模(30)在透明基板上形成有遮光部(31)、透光部(32)及半透光部(33)，该灰色调掩模(33)具有与遮光部(31)相邻并被夹持的半透光部(33)，该半透光部(33)具有：形成了半透光膜(36)的半透光膜形成部(33a)；和设置在半透光部(33)相邻的遮光部(31)的边界上且露出透明基板(34)的透光狭缝部(33b、33c)。
色调图案方法

[发明专利]掩膜壳体、掩膜盒、图案转录方法及显示装置的制造方法-CN200710163007.5有效
发明人： 井村和久 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2007-09-28 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： B65D85/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩膜壳体，该掩膜壳体(1)是一种可运送地收置光掩膜(10)和掩膜盒(100)的掩膜壳体，具备掩膜保持部件(4)和盒保持部件(5)，当从掩膜盒(100)中取出光掩膜(10)时，以光掩膜(10)被设置于掩膜盒(100)的状态取出。
壳体掩膜盒图案转录方法显示装置制造

[发明专利]光掩模坯料和光掩模及它们的制造方法、光掩模中间体及图案的复制方法-CN200710154387.6有效
发明人： 井村和久;中西胜彦 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2007-09-26 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明的课题，在于提供能够在搬运及往光刻机上安装等的处理中，防止遮光膜周边部分的剥离、抑制起因于遮光膜的剥离而产生的微粒的光掩模坯料。在本发明中，通过下列工序制造光掩模坯料：成膜工序，该成膜工序将沿着透光性基板(1)的主表面(1a)的周边的外周部分，作为非形成区域(2a)，在该主表面(1a)上，形成遮光膜(2)；涂敷工序，该涂敷工序向包含形成遮光膜(2)的区域的涂敷抗蚀剂膜(3)，利用抗蚀剂膜(3)覆盖所述遮光膜(2)的周边；抗蚀剂膜周边除去工序，该抗蚀剂膜周边除去工序除去涂敷的抗蚀剂膜(3)的周边部分(3a)，从而使所述遮光膜(2)的周边部分(2b)露出。
光掩模坯料它们制造方法中间体图案复制

[发明专利]灰调掩模-CN200510112885.5无效
发明人： 井村和久 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2002-06-25 - 公布日： 2006-04-05 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明提供一种灰调掩模。目的是使利用具有灰调部的灰调掩模的图形转印工序实用化，其中该灰调部由具有使用灰调掩模的曝光机的分辨极限以下的微遮光图形构成。在该灰调掩模中，例如，沿着与灰调部(3)相接的遮光图形(1)的轮廓形状，在灰调部(3)一侧形成轮廓图形(30)。
灰调掩模

[发明专利]基板处理装置、基板处理方法及图案形成方法-CN200510079688.8无效
发明人： 井村和久 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2005-06-24 - 公布日： 2006-01-18 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种节省空间、处理能力高、且可进行高均一性处理的基板处理装置及基板处理方法。所述基板处理装置包括：基板保持单元，以基板20主表面向斜上方倾斜的状态保持基板20呈规定范围内的倾斜角度；处理液供给单元，向倾斜状态的基板20的至少一边方向大致均匀地提供处理液，使基板20主表面的全部区域布满处理液；使上述基板20与上述处理液供给单元相对移动的移动单元。通过上述基板保持单元使得基板20相对于水平方向的倾斜角度(α)在25度～80度的范围内。上述处理液供给单元包括能够向基板20的一边方向均匀提供处理液的喷嘴30，上述移动单元使喷嘴30在基板20的主表面上与上述一边垂直移动。
处理装置方法图案形成

[发明专利]正相抗蚀膜的剥离方法、曝光用掩模的制造方法以及抗蚀剂剥离装置-CN200510059701.3无效
发明人： 井村和久 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2005-03-29 - 公布日： 2005-10-05 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：提供一种正相抗蚀膜的剥离方法、曝光用掩模的制造方法及抗蚀剂剥离装置，无须基于消防法及各种环境法的特别管理，能以低成本进行处理，即使对于大型基板也不必使用大型的处理装置。覆有正相抗蚀膜的基板的抗蚀膜面曝光后，使抗蚀膜与能将已曝光的抗蚀膜部分溶解的处理液接触，将正相抗蚀膜从基板上剥离去除。在基板上设置作为转印掩模图样的薄膜，制成掩模板，在掩模板上形成规定的正相抗蚀图样，以该抗蚀图样作为掩模，对已曝光的上述薄膜进行蚀刻，使其形成规定的图样形状，从而得到曝光用掩模，在此制造方法中，通过将残存的抗蚀图样曝光后与上述处理液接触，剥离去除该正相抗蚀图样。抗蚀膜的剥离装置具有曝光室、处理室及搬运基板的装置。
正相抗蚀膜剥离方法曝光用掩模制造以及抗蚀剂装置

[发明专利]灰调掩模的制造方法-CN200410062538.1无效
发明人： 井村和久 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2004-06-30 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：提供一种可以制造高品质的TFT的中间色彩膜类型的灰调掩模的制造方法，具有下述工序：准备在透明基板(21)上顺序形成半透光膜(22)和遮光膜(23)的掩模坯料的工序；在该掩模坯料上形成抗蚀膜的工序；对抗蚀膜进行曝光的工序，该工序包含：在所述抗蚀膜的形成半透光部的部分，将用于对该抗蚀膜实施图形曝光的曝光装置的分辨率限度以下的图形进行曝光；进行显影处理，形成使形成遮光部的部分和形成半透光部的部分的抗蚀剂残留膜的值不同的抗蚀图形(24a)的工序；把该抗蚀图形(24a)作为掩模，蚀刻遮光膜(23)和半透光膜(22)并形成透光部的工序；仅去除残留在半透光部上的抗蚀图形的工序；把所残留的抗蚀图形作为掩模，蚀刻遮光膜(23a)并形成半透光部的工序。
灰调掩模制造方法

[发明专利]灰调掩模及其制造方法-CN02124776.5无效
发明人： 井村和久 -专利权人：保谷株式会社
申请日： 2002-06-25 - 公布日： 2003-12-31 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种灰调掩模及其制造方法。目的是使利用具有灰调部的灰调掩模的图形转印工序实用化，其中该灰调部由具有使用灰调掩模的曝光机的分辨极限以下的微遮光图形构成。在该灰调掩模中，例如，沿着与灰调部3相接的遮光图形1的轮廓形状，在灰调部3一侧形成轮廓图形30。
灰调掩模及其制造方法

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