专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]等离子体处理装置和处理方法-CN202211121933.7在审
  • 舆水地盐;玉虫元;井上雅博;上坂友佑人;松山昇一郎 - 东京毅力科创株式会社
  • 2022-09-15 - 2023-03-28 - H01J37/32
  • 本发明提供能够在等离子体处理装置中从反映高频电源的负载的阻抗的匹配状态的信号中除去不需要的成分的等离子体处理装置和处理方法。在本发明的等离子体处理装置中,高频电源能够供给高频电功率以使得生成等离子体。偏置电源能够向基片支承部的电极供给具有偏置频率的电偏置能量,以使得将离子引向基片。高频电源能够对电偏置能量的周期内的多个相位期间各自中的高频电功率的频率进行调节。传感器能够检测反映高频电源的负载的阻抗相对于匹配状态的偏差的电信号。滤波器能够从在多个相位期间各自中由传感器检测出的电信号中除去高频电功率与电偏置能量的互调失真成分。
  • 等离子体处理装置方法
  • [发明专利]等离子体处理装置-CN202110495002.2在审
  • 金俸奭;井上雅博;大秦充敬;小林宪 - 东京毅力科创株式会社
  • 2021-05-07 - 2021-11-19 - H01J37/32
  • 本发明提供一种等离子体处理装置,其包括等离子体处理腔室、基片支承部、生成源RF产生部和偏置RF产生部。基片支承部配置在等离子体处理腔室内。生成源RF产生部构成为能够产生生成源RF信号。生成源RF信号包含多个生成源周期,各生成源周期包含生成源接通状态和生成源关断状态。生成源接通状态具有至少两个生成源功率级。偏置RF产生部耦合于基片支承部,构成为能够产生偏置RF信号。偏置RF信号包含分别与多个生成源周期对应的多个偏置周期,各偏置周期包含偏置接通状态和偏置关断状态。偏置接通状态具有至少两个偏置功率级。根据本发明,能够提高等离子体蚀刻的处理性能。
  • 等离子体处理装置
  • [发明专利]鲜味增强剂-CN201780077354.8在审
  • 辻美咲;德地隆宏;井上雅博 - J-制油株式会社
  • 2017-12-13 - 2019-08-02 - A23L35/00
  • 本发明提供能够通过添加至调味料、提取物、食品等中从而增强鲜味的鲜味增强剂以及增强鲜味的方法。本发明涉及一种以过氧化值为12~180、包含10质量%以上100质量%以下的乳脂的氧化油脂为有效成分的鲜味增强剂。此外,本发明涉及一种通过该鲜味增强剂的添加而增强了鲜味的调味料、提取物及食品。进一步,本发明涉及一种通过添加过氧化值为12~180、包含10质量%以上100质量%以下的乳脂的氧化油脂而增强调味料、提取物及食品的鲜味的方法。
  • 鲜味鲜味增强剂调味料提取物氧化油脂过氧化乳脂
  • [发明专利]难闻气味抑制剂-CN201780077303.5在审
  • 辻美咲;德地隆宏;井上雅博 - J-制油株式会社
  • 2017-12-13 - 2019-07-30 - A23L35/00
  • 本发明提供能够通过添加至难闻气味的食品等中从而抑制其难闻气味的难闻气味抑制剂以及抑制食品的难闻气味的方法。本发明涉及一种以过氧化值为15~180、包含10质量%以上100质量%以下的乳脂的氧化油脂为有效成分的难闻气味抑制剂。此外,本发明涉及一种通过该难闻气味抑制剂的添加而抑制了难闻气味的食品。进一步,本发明涉及一种通过添加过氧化值为15~180、包含10质量%以上100质量%以下的乳脂的氧化油脂而抑制食品的难闻气味的方法。
  • 难闻气味抑制剂氧化油脂过氧化乳脂

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