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- [发明专利]NOR闪存存储器的刷新方法及装置-CN202310800165.6在审
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孙天宇
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东芯半导体股份有限公司
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2023-06-30
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2023-09-19
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G11C16/08
- 本发明所涉及的NOR闪存存储器的刷新方法中用于在闪存单元的刷新中产生新的页地址,所述NOR闪存存储器中的闪存单元分为多个阵列,每个阵列包含多个块,每个块包含多个字线,每个字线包含多个页,所述刷新包括:从闪存单元的阵列的起始页地址开始,基于闪存单元的阵列的页地址,通过验证和扫描来判定是否存在需要刷新的闪存单元的第一步骤;依次产生新的页地址,对于新产生的每个页地址重复所述第一步骤的步骤;以及对于在所述第一步骤中判定为需要进行刷新的闪存单元,利用刷新程序进行刷新的第二步骤,所述NOR闪存存储器的刷新方法基于前一次的页地址以乱序方式产生下一个页地址。
- nor闪存存储器刷新方法装置
- [发明专利]半导体器件的金属层布局方法-CN202310573621.8在审
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唐力
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东芯半导体股份有限公司
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2023-05-19
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2023-08-11
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H10B12/00
- 本发明提供一种半导体器件的金属层布局方法,用于对形成有MOS结构的半导体器件的金属层中的金属连接路径进行增强,以降低基体上的衬底有源区与源/漏极金属接触区之间的电阻,其包括:获取基体上的所有隔离阱区域的隔离阱获取步骤;在金属层中,获取在所有MOS结构的源极和/或漏极侧连接到阱电压的阱电压金属连接路径,并获取不连接到阱电压的其他金属连接路径的金属连接路径识别步骤;针对每一隔离阱区域,分别生成新的金属连接路径以填充到阱电压金属连接路径与其他金属连接路径之间的自由区域的金属连接路径生成步骤;及将新生成的金属连接路径与阱电压金属连接路径进行合并的金属连接路径合并步骤。
- 半导体器件金属布局方法
- [发明专利]NAND闪存及其制作方法-CN202211729243.X在审
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金镇湖
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东芯半导体股份有限公司
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2022-12-30
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2023-04-18
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H10B41/35
- 本发明公开一种NAND闪存及其制作方法,其中制作方法包括以下步骤:提供一硅基底,经掩膜刻蚀、在硅基底内形成沿第一方向阵列排布的多个U型沟槽;依次沉积隧道氧化物和浮栅多晶硅,经刻蚀、在硅基底表面及U型沟槽表面依次形成沿第二方向阵列排布的多个条带状的隧道氧化层和浮栅,在相邻浮栅之间的硅基底内形成浅沟槽隔离结构,第二方向垂直于第一方向;经沉积、刻蚀,在浅沟槽隔离结构内形成绝缘层;沉积阻隔氧化材料、覆盖浮栅和绝缘层形成一层阻隔氧化层;沉积控制栅多晶硅、覆盖阻隔氧化层并充满浮栅之间,形成控制栅;沉积栅极材料,在控制栅上形成栅极。本发明的NAND闪存及其制作方法,能够克服短通道效应。
- nand闪存及其制作方法
- [发明专利]存储器-CN202210714079.9在审
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赖荣钦
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东芯半导体股份有限公司
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2022-06-22
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2022-10-14
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G11C29/12
- 本发明提供一种存储器,在校准启动时,向比较器发送预定模式的数据输入信号,对于第一DFE部、第二DFE部、第三DFE部、第四DFE部中的任一个,多次施加不同的DFE偏置电流,并求出每次施加时所对应的数据眼窗口的宽度,并且对各个数据眼窗口的宽度进行比较以得到宽度最大的数据眼窗口,将该宽度最大的数据眼窗口所对应的DFE偏置电流设为最佳DFE偏置电流,从而可通过自动校准来设置施加到DFE部的最佳DFE偏置电流,能够最大限度地抑制后标对后续的脉冲信号产生的不良影响,降低发生误判的可能性。
- 存储器
- [发明专利]一种占空比调节器-CN202210849584.4在审
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赖荣钦
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东芯半导体股份有限公司
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2022-07-19
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2022-09-30
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G11C7/22
- 本发明涉及一种占空比调节器,包括:第一占空比调节DCA模块,所述第一DCA模块包括M个并联的调节单元,每个调节单元包括与非门和NMOS晶体管,每个调节单元被配置成用于:输入到所述与非门的从低电平转换到高电平的时序延迟使所述NMOS在信号的上升沿不被打开,从而所述NMOS不会改变所述信号的上升沿;并且输入到所述与非门的从高电平转换到低电平的时序延迟使所述NMOS在信号的下降沿被打开,从而所述NMOS将所述信号的下降沿推迟,以增大所述信号的占空比。
- 一种调节器
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