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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]产生浮雕图象的方法-CN201210311213.7有效
  • M.阿利;D.布朗;E.福伦坎;M.赫勒 - 伊斯曼柯达公司
  • 2005-04-06 - 2013-02-27 - G03F1/62
  • 本发明涉及用于产生浮雕图象的方法。一种包含载体片材和可成象材料的薄膜用于形成对固化辐射不透明的遮蔽图象。在一个实施方案中，所述遮蔽图象在载体片材上形成，而在另一个实施方案中，所述遮蔽图象在接收体片材上形成。然后所述遮蔽图象转印至感光材料例如柔性版印刷板前体。所生成的组合曝光于固化辐射产生感光材料的曝光和非曝光区域。所述载体片材或接收体片材可在曝光于固化辐射之前或之后自所述遮蔽图象除去。最后，所述感光材料和遮蔽图象组合用合适的显影剂显影形成浮雕图象。
  • 产生浮雕图象方法
  • [实用新型]印刷掩模板-CN201120544772.3有效
  • 魏志凌;高小平;张炜平;杨志龙 - 昆山允升吉光电科技有限公司
  • 2011-12-23 - 2013-01-23 - G03F1/62
  • 本实用新型涉及一种印刷掩模板，包括基板、主栅线和细栅线，其特征在于，在掩模板的四周设有边孔。本实用新型涉及的掩模板是通过用粘结力较强的胶水固定，边孔处胶水能够直接与掩模板的固定对象相结合，如此结合方式使得掩模板与其固定对象间结合更紧密。另外，大量按一定规律排列的边孔可以保证掩模板在绷紧受力过程中受力均匀。能够解决掩模板边缘连接点脱落，局部受力不均，容易造成掩模板报废的问题。
  • 印刷模板
  • [发明专利]光掩模单元及其制造方法-CN201180017361.1有效
  • 秋山昌次;久保田芳宏 - 信越化学工业株式会社
  • 2011-03-10 - 2012-12-12 - G03F1/62
  • 本发明提供了一种适宜于使用EUV曝光技术，在感光膜上形成32nm或其以下的微小图案的光刻用光掩模，以提供能确实地防止光掩模的平坦度发生恶化的光掩模单元为目的。本发明的光掩模单元1为：防尘薄膜6、在其一个表面粘贴有防尘薄膜6的侧部近旁区域的防尘薄膜组件框架7、光掩模2、其一个表面固定有光掩模2及防尘薄膜组件框架7的台子3，防尘薄膜组件框架7在比固定有光掩模2的台子3的范围还要靠外的侧被固定于台子3上。
  • 光掩模单元及其制造方法
  • [发明专利]用于黑底的掩模-CN201110375525.X有效
  • 金镇必;朴承烈;卢韶颖;李振福 - 乐金显示有限公司
  • 2011-11-23 - 2012-10-24 - G03F1/62
  • 本发明公开了一种用于为显示装置形成黑底的掩模，所述显示装置包括数据线，所述数据线具有相对于像素区的中心部分的折弯结构，所述掩模包括：边框，其具有矩形形状；以及基板，其布置在所述边框上，并且包括透光部分和阻光部分，其中，所述透光部分包括第一透光图案和处于相邻的第一透光图案之间的光控制部分，并且所述透光部分还包括与所述像素区的所述中心部分相对应的折弯部分，并且其中，所述折弯部分布置为距与其相邻的透光图案的距离相等。
  • 用于黑底
  • [实用新型]为掩模版贴附保护膜的装置-CN201220106657.2有效
  • 黄执祥;侯广杰 - 深圳市龙图光电有限公司
  • 2012-03-20 - 2012-10-17 - G03F1/62
  • 本实用新型提供了一种为掩模版贴附保护膜的装置，包括：用于安装保护膜的出膜轴、用于平整拉平保护膜并能够将其贴附到掩膜版上的贴膜辊轴、以及用于驱动出膜轴和贴膜辊轴运转的驱动装置，出膜轴和贴膜辊轴之间由保护膜连接。本实用新型所述为掩模版贴附保护膜的装置，通过设置出膜轴、贴膜辊轴、以及驱动装置，使得保护膜可以自动贴附到掩膜版上。克服了背景技术中所述手工贴附保鲜膜时不易操作且容易在保鲜膜和掩膜版之间形成气泡的弊端。又由于本实用新型所述装置贴附的保护膜是保护膜，克服了背景技术中所述贴附保鲜膜的弊端。
  • 模版保护膜装置
  • [发明专利]EUV用防尘薄膜及防尘薄膜组件，以及该膜的制造方法-CN201210015148.3无效
  • 秋山昌次;久保田芳宏 - 信越化学工业株式会社
  • 2012-01-17 - 2012-07-18 - G03F1/62
  • 本发明提供一种EUV用防尘薄膜组件，其将膜厚均匀的单晶硅膜作为防尘薄膜。该防尘薄膜由厚度为20nm-1μm的单晶硅薄膜以及强化该薄膜的辅助结构构成，其特征在于上述单晶硅薄膜与辅助结构通过硅氧化物层而牢固地结合。上述防尘薄膜的制造方法，其特征在于含有将辅助结构用图案设置在SOI基板的硅支持基板表面后，进行干式蚀刻直到硅氧化膜露出为止，接着除去露出的硅氧化物层的工序，所述SOI基板由单晶硅层、硅氧化物层以及上述硅支持基板构成，且上述单晶硅层以及硅氧化物层的厚度分别为20nm-1μm，而上述硅支持基板的厚度为30μm-300μm。
  • euv防尘薄膜组件以及制造方法
  • [发明专利]薄膜及其掩模粘接剂-CN201080041077.3有效
  • 村上修一;河关孝志;森峰宽 - 三井化学株式会社
  • 2010-10-06 - 2012-06-20 - G03F1/62
  • 本发明的目的在于提供一种具有适度的柔软度且从掩模剥离后的糊残留少、处理性良好的掩模粘接剂层的薄膜；尤其在于提供一种能够抑制双图案化时的图形的位置偏差的薄膜。本发明的薄膜是具有薄膜框、配置于前述薄膜框的一端面的薄膜的膜和配置于前述薄膜框的另一端面的掩模粘接剂层的薄膜，前述掩模粘接剂层含有相对于100质量份的苯乙烯系树脂(A)为35质量份以上170质量份以下的含有聚丙烯(b1)和丙烯系弹性体(b2)的硬度调整剂(B)，在前述掩模粘接剂层的电子显微镜照片中观察到苯乙烯系树脂(A)的连续相和硬度调整剂(B)的分散相的相分离结构。
  • 薄膜及其掩模粘接剂
  • [实用新型]一种曝光膜-CN201120163308.X有效
  • 左德龙;张庭主;邓峻 - 深圳市崇达电路技术股份有限公司
  • 2011-05-20 - 2012-01-04 - G03F1/62
  • 本实用新型提供了一种曝光膜，所述曝光膜为膜上设有抽气孔的聚乙烯膜，所述曝光膜的厚度为0.06mm至0.15mm。所述抽气孔为若干均匀设置的抽气孔。相邻抽气孔之间的距离为2cm至7cm。本实用新型的有益效果是：在手动曝光机上增加PE膜（聚乙烯膜），可缓解生产菲林受到MYLAR膜拉力而变形的影响，在PE膜中设置抽气孔，利于抽气。解决因抽气不良产生的曝光不良。
  • 一种曝光
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