专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种金属气凝胶原位生长碳纳米管的制备方法-CN202310277905.2在审
  • 胡悦;叶涛;杜然;张鑫宇;杨植 - 温州大学
  • 2023-03-21 - 2023-06-23 - C23C16/26
  • 本发明公开了一种金属气凝胶原位生长碳纳米管的制备方法,包括如下步骤:步骤一,将金属溶液、溶剂,配体溶液、还原剂、引发剂通入反应容器中,再通过改变外界条件,例如磁场,温度等来使其自组装形成金属水凝胶,洗涤多次后用醇溶液交换进行冷冻干燥,得到金属气凝胶;步骤二,将上述所得金属气凝胶放入反应腔体中,并惰性气体保护下将反应腔体升温至300℃‑1500℃;步骤三,向反应腔体中持续通入还原性气体、惰性气体和气态含碳有机物持续通入,持续反应,即可得到金属气凝胶原位生长碳纳米管的复合材料。通过溶胶‑凝胶、超临界干燥/冷冻干燥、化学气相沉积相结合的方法,首次实现了金属气凝胶原位控制生长碳纳米管。
  • 一种金属凝胶原位生长纳米制备方法
  • [发明专利]一种全自动卧式真空镀碳装置及其使用方法-CN202310328868.3在审
  • 曹宇;魏守冲 - 磐石创新(江苏)电子装备有限公司
  • 2023-03-30 - 2023-06-23 - C23C16/26
  • 本发明涉及全自动卧式真空镀碳装置及其使用方法,包括机架、真空泵、高真空获得系统、丙酮储存罐、液氮冷阱、真空管道、全量程真空规保护装置、阻隔碳膜附着装置、压力变送器、水冷密封法兰、匀气装置、加热装置、石英真空腔室和直线运动系统;高真空获得系统通过真空管道与阻隔碳膜附着装置的一端连接;全量程真空规保护装置设置在真空管道上;水冷密封法兰与石英真空腔室配合连接;石英真空腔室内设置有加热装置;真空泵与高真空获得系统、水冷密封法兰连接;直线运动系统与石英真空腔室驱动连接;压力变送器与水冷密封法兰连接。其具有结构设计合理、操作使用方便、运行可靠稳定等优点,能够有效提高镀碳质量和效率,具有较好的市场应用前景。
  • 一种全自动卧式真空装置及其使用方法
  • [发明专利]类金刚石薄膜制备方法-CN202310222342.7在审
  • 戴辉;尹士平;郭晨光 - 安徽光智科技有限公司
  • 2023-03-09 - 2023-06-23 - C23C16/26
  • 一种类金刚石薄膜制备方法包括步骤:将陪镀片置于射频等离子增强化学气象沉积设备的腔体内部的阴极工件盘上;将腔体抽真空,阴极工件盘加热;通入丁烷、氩气、锗烷/硅烷,以体积总量计,丁烷占65%‑75%,氩气占5%‑15%,锗烷/硅烷占20%‑30%,开启射频电源,通过射频电源使混合气体离子化并化学反应以在陪镀片的表面上沉积膜厚大于0但在200nm以下的膜,该膜为软膜;软膜制备完成后,通入丁烷和氩气的混合气,以体积总量计,丁烷占85%‑95%,氩气占5%‑15%,开启射频电源,通过射频电源使混合气离子化并化学反应以在软膜的表面上沉积膜厚为200nm‑800nm的膜,该膜为硬膜,陪镀片上的软膜和硬膜构成类金刚石薄膜。能够降低整体类金刚石薄膜的应力,能够制备整体膜厚更厚的类金刚石薄膜。
  • 金刚石薄膜制备方法
  • [发明专利]碳化硅-氮化硼-热解石墨复合加热片及制备方法和应用-CN202211672868.7在审
  • 陈宏;董家海;斯超波 - 常熟通乐电子材料有限公司
  • 2022-12-26 - 2023-06-09 - C23C16/26
  • 本发明公开了碳化硅‑氮化硼‑热解石墨复合加热片及制备方法和应用,首先采用CVD工艺在热解氮化硼基片表面沉积热解石墨发热层;其次,采用CVD工艺在沉积有热解石墨发热层的热解氮化硼基片上继续沉积热解氮化硼绝缘层,将热解石墨发热层及热解氮化硼基片全覆盖住;最后,在热解氮化硼绝缘层表面沉积致密碳化硅保护层。热解石墨发热层被热解氮化硼绝缘层包裹在中间位置,碳化硅保护层进一步将热解氮化硼绝缘层完全包裹住。本申请利用热解石墨发热层的高导电性和碳化硅保护层的耐高温、抗氧化以及高辐射特性,制备的碳化硅‑氮化硼‑热解石墨复合加热片可以实现800‑1600℃的电加热要求,具有轻薄、高纯净,高稳定性、长寿命的优点。
  • 碳化硅氮化石墨复合加热制备方法应用
  • [发明专利]AlN掺杂的类金刚石涂层工艺-CN202310513817.8在审
  • 毛昌海;祖全先;帅小锋 - 艾瑞森表面技术(苏州)股份有限公司
  • 2023-05-09 - 2023-06-06 - C23C16/26
  • 本发明提供了一种AlN掺杂的类金刚石涂层工艺,包括如下步骤:S1:提供PECVD涂层机,配置有至少两组溅射阴极,其中一组为Cr靶,一组为Al靶,开启溅射Cr靶,溅射PVD工艺沉积Cr底层、CrC过渡层;S2:提供微波发生器作为离子源,以微波等离子体辅助技术离化乙炔气体,通过偏压电源施加偏压在CrC过渡层之上沉积DLC涂层,同时沉积的过程中通入氮气和氩气,开启溅射Al靶,氮气和溅射出的Al原子优先反应生成AlN并掺杂进入DLC涂层中,AlN相以嵌入式分布在DLC涂层中。本发明的AlN掺杂的类金刚石涂层工艺得到的DLC涂层退涂时,采用碱性退涂液即可溶解DLC涂层中的AlN相,达到退涂的目的。
  • aln掺杂金刚石涂层工艺
  • [发明专利]触摸屏的镀膜方法-CN202111424063.6在审
  • 郭振新 - 东莞新科技术研究开发有限公司
  • 2021-11-26 - 2023-05-30 - C23C16/26
  • 本发明公开了一种触摸屏的镀膜方法,该方法包括:将触摸屏放置在处理室内;向所述处理室内通入氩气;开启Si靶材的中频溅射电源,在所述触摸屏的表面进行Si膜的沉积;对所述触摸屏表面的Si膜进行离子刻蚀,以在所述Si膜上形成粗糙表面;以含氟气体为掺杂气体,采用射频化学气相沉积法在所述触摸屏的表面制备含氟类金刚石薄膜。采用本发明实施例,能够在触摸屏的表面形成均匀致密的保护膜,该保护膜具有高透光率、高硬度及疏水疏油性良好的特性,并且,该保护膜与触摸屏之间的结合力高。
  • 触摸屏镀膜方法

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