专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]MEMS探针表层绝缘涂层的制备方法-CN202111601406.1在审
  • 殷岚勇;施元军;刘凯 - 苏州晶晟微纳半导体科技有限公司
  • 2021-12-24 - 2022-04-01 - C09D165/04
  • 本发明涉及一种MEMS探针表层绝缘涂层的制备方法,包括如下步骤:将MEMS探针放置在真空纳米涂层设备的沉积室;将纳米原材料放入真空纳米涂层设备的蒸发室;纳米原材料在蒸发室内蒸发为气态分子并进入裂解室;气态分子在裂解室内裂解为反应活性的单体,反应活性的单体在沉积室聚合并在MEMS探针表面形成纳米镀膜;将镀膜的MEMS探针取出并整列在排列治具上;将整列好MEMS探针的治具放置到激光加工平台,利用激光将探针针头和针尾的绝缘涂层剥离。本发明在MEMS探针的中间区域生长纳米绝缘涂层,可以有效防止相邻探针接触短路的风险;通过派瑞林母粒利用真空气相趁机制备聚对二甲苯绝缘涂层,可以耐受1000V以上的高压。
  • mems探针表层绝缘涂层制备方法
  • [发明专利]薄的聚对二甲苯的可靠沉积-CN201680076264.2有效
  • 戴聿昌;王玮;康冬阳 - 加州理工学院
  • 2016-10-21 - 2021-01-12 - C09D165/04
  • 描述了沉积薄的聚对二甲苯和超薄的聚对二甲苯的设备、系统和方法。在实例中,使用芯沉积室。芯沉积室包括底座和刚性的、可移除的盖,所述盖被配置成与底座配合并密封以形成芯沉积室并限定芯沉积室的内部和外部。芯沉积室还包括穿过盖的顶部的导管。导管具有将芯沉积室的内部与外部连接的管腔。管腔具有长度和横截面。横截面具有在50μm和6000μm之间的宽度。长度小于横截面宽度的140倍。芯沉积室可以被放置在外部沉积室中,并且可以在芯沉积室内实现小于1μm厚的聚对二甲苯沉积。
  • 二甲苯可靠沉积
  • [发明专利]一种介电润湿复合材料的制备方法-CN201911281812.7在审
  • 石雅琴 - 江苏海獭新材料科技有限公司
  • 2019-12-13 - 2020-05-01 - C09D165/04
  • 本发明涉及一种介电润湿复合材料的制备方法,属于介电润湿材料技术领域。本发明以正硅酸乙酯作为前驱体,采用溶胶‑凝胶法在聚对二甲苯中原位制备了纳米二氧化硅微球,然后分别用端环氧基聚二甲基硅氧烷和全氟硅烷进行疏水化处理,制备出一种介电润湿复合材料;聚对二甲苯化学性质不活泼,表面涂层保形,而且是一种很好的聚合物绝缘层,二氧化硅介电常数较高,能够有效降低驱动电压,在聚对二甲苯中原位制备了纳米二氧化硅微球,使得聚对二甲苯即具有良好的疏水性能,又具有较高的介电常数;聚二甲基硅氧烷的化学状态二甲基硅油,二甲基硅油无毒无味,具有生理惰性、良好的化学稳定性,使得制备的介电润湿复合材料具有良好的疏水性和耐候性。
  • 一种润湿复合材料制备方法
  • [发明专利]一种器件的后处理方法-CN201710813865.3在审
  • 杨兴;姚嘉林;徐若煊 - 清华大学
  • 2017-09-11 - 2018-02-02 - C09D165/04
  • 本发明公开了一种器件的后处理方法,用于在器件上形成防护层,其包括步骤S10、将所述器件在真空环境下进行偶联反应,在所述器件的表面上形成偶联剂分子的自限分子层;S20、在所述器件的表面上形成聚合物涂层。本发明的后处理方法具有如下优点处理后的几乎不影响器件尺寸,能较好地保留器件原有性能,并且成本低、工艺简单、防护可靠、安全、以及具有较高的疲劳强度等。
  • 一种器件处理方法

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