[发明专利]一种金属剥离机晶圆浸泡装置在审
申请号: | 202310778200.9 | 申请日: | 2023-06-29 |
公开(公告)号: | CN116504687A | 公开(公告)日: | 2023-07-28 |
发明(设计)人: | 任潮群;陈泳;周军奎;吴荣崇;杨冬野 | 申请(专利权)人: | 北京芯士联半导体科技有限公司;苏州芯慧联半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;G03F7/42 |
代理公司: | 北京清大紫荆知识产权代理有限公司 11718 | 代理人: | 张梦龙 |
地址: | 100085 北京市海淀区信*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 金属 剥离 机晶圆 浸泡 装置 | ||
1.一种金属剥离机晶圆浸泡装置,用于使用在有机溶剂类型的金属剥离机的浸泡工艺中,其特征在于,所述浸泡装置包括用于夹持待浸泡晶圆的浸泡机构(1)、用于控制浸泡机构(1)倾斜的倾斜机构(3)和用于控制浸泡机构(1)升降的垂直升降机构(2),其中,
所述浸泡机构(1)包括浸泡腔以及用于夹持待浸泡晶圆置入浸泡腔的浸泡治具,所述浸泡治具设有用于固定晶圆的晶圆夹持块(11),所述晶圆夹持块(11)上设有多个用于固定晶圆的凹槽。
2.根据权利要求1所述的金属剥离机晶圆浸泡装置,其特征在于,所述浸泡机构(1)还包括与待浸泡晶圆尺寸弧度相同的挡轴支架(13)以及安装在挡轴支架(13)上的挡轴(12)。
3.根据权利要求2所述的金属剥离机晶圆浸泡装置,其特征在于,多个所述凹槽均匀排布,
多个所述凹槽分为不同组,不同组凹槽上下排布,不同组凹槽尺寸不同以配合不同尺寸的待浸泡晶圆,
每组凹槽对应2个挡轴(12)和2个挡轴支架(13)。
4.根据权利要求1所述的金属剥离机晶圆浸泡装置,其特征在于,所述浸泡机构(1)还包括夹具支架(15)和夹具轴(14)。
5.根据权利要求1所述的金属剥离机晶圆浸泡装置,其特征在于,所述垂直升降机构(2)包括用于与浸泡机构(1)连接的连接子机构(21)以及用于控制升降的升降子机构(22),
所述连接子机构(21)包括提升底板(213)、提升支柱(214)、提升轴(215)和与提升轴(215)连接的提升轴支架(216),所述提升底板(213)与浸泡机构(1)通过提升底板滑动轴承(211)固定,所述提升轴支架(216)通过滑动轴承(212)来控制所述浸泡机构(1)的旋转角度,
所述升降子机构(22)包括与倾斜机构(3)固定的滑块组件、夹持提升支柱(214)的升降固定板(2211)、与滑块组件连接的滚珠组件、用于带动滑块组件在滚珠组件上上下移动的同步带(226)、带动同步带(226)转动的同步轮(227)以及为同步轮(227)提供动力的第一步进电机(228),
所述滑块组件包括滑块(221)、导轨滑块(222)以及与滑块(221)连接的滑块固定板(2213),所述滑块固定板(2213)与倾斜机构(3)固定连接,
所述滚珠组件包括丝杆(225)、套设在丝杆(225)上的第一滚丝螺母(224)以及固定在丝杆(225)上用于限位的限位块(223)和丝杆固定板(2210),
所述第一滚丝螺母(224)通过螺母固定块(229)固定在滑块固定板(2213)上。
6.根据权利要求5所述的金属剥离机晶圆浸泡装置,其特征在于,所述倾斜机构(3)包括与提升轴(215)连接的升降顶板(31)、导向螺杆(33)以及用于提供动力的第二步进电机(34),其中,所述导向螺杆(33)的上端与顶部固定板(2212)连接,升降顶板(31)在导向螺杆(33)上通过第二步进电机(34)的控制上下运动。
7.根据权利要求1所述的金属剥离机晶圆浸泡装置,其特征在于,所述浸泡腔设有前端开口,所述前端开口设有升降门。
8.根据权利要求1所述的金属剥离机晶圆浸泡装置,其特征在于,所述装置还包括用于控制倾斜机构(3)和所述垂直升降机构(2)工作的控制机构,所述控制机构包括设置在所述倾斜机构(3)和所述垂直升降机构(2)的多个传感器。
9.根据权利要求1所述的金属剥离机晶圆浸泡装置,其特征在于,所述倾斜机构(3)和所述垂直升降机构(2)四周设有防护盖板形成的保护腔,所述保护腔内通入保护气体。
10.根据权利要求1所述的金属剥离机晶圆浸泡装置,其特征在于,所述浸泡装置还包括浸泡液回收机构,所述浸泡液回收机构包括依次连接在浸泡腔的浸泡液出口的一级网筛过滤器、二级过滤器和浸泡液暂存槽。
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