[发明专利]一种精密金属遮罩及其蚀刻激光复合制作方法

权利要求书

1.一种精密金属遮罩，其特征在于，包括金属基材，所述金属基材的一侧面为第一主表面，另一侧面为第二主表面，所述金属基材上开通若干暴露孔，所述暴露孔位于第一主表面上设置蚀刻孔，所述暴露孔位于第二主表面上设置激光孔，中心相重合的所述蚀刻孔与所述激光孔呈连通状态，所述蚀刻孔的外口大、内口小，所述外口与所述内口之间通过凹弧孔壁过渡衔接，所述外口与所述内口连线的倾斜夹角为蒸镀角，所述激光孔具有垂直孔壁，所述激光孔具有高精度孔径。

2.根据权利要求1所述的精密金属遮罩，其特征在于，所述蚀刻孔的蒸镀角的角度范围是50°～60°。

3.根据权利要求1所述的精密金属遮罩，其特征在于，所述激光孔的高精度孔径的精度范围是≤±2um。

4.根据权利要求1所述的精密金属遮罩，其特征在于，所述蚀刻孔的内口孔径与所述激光孔的高精度孔径一致。

5.根据权利要求1所述的精密金属遮罩，其特征在于，所述蚀刻孔与所述激光孔之间的衔接夹角≥90°。

6.根据权利要求1所述精密金属遮罩的蚀刻激光复合制作方法，其特征在于，包括以下工艺步骤：

1)、在金属基材的第一主表面上完整涂覆固态光刻胶层，在金属基材的第二主表面上完整涂覆固态光刻胶层；

2)、在第一主表面上进行单面的曝光显影制程，制作出镂空区形成预留的蚀刻区域；

3)、在镂空区上进行单面蚀刻制程以蚀刻出凹陷区，即形成蚀刻孔；

4)、在凹陷区内进行激光制程以轰击刻制出贯穿孔洞，即形成激光孔。

7.根据权利要求6所述的精密金属遮罩的蚀刻激光复合制作方法，其特征在于，在步骤4)中，以凹陷区的中心作为中点，按照激光孔的半径进行激光制程开孔。

8.根据权利要求6所述的精密金属遮罩的蚀刻激光复合制作方法，其特征在于，在步骤3)中，蚀刻制程将金属基材蚀刻成凹弧坑体，且蚀刻部分延伸至固态光刻胶层的周边下方；在步骤4)中，激光制程垂直于金属基材进行穿孔轰击刻制。