[发明专利]一种强脉冲极紫外光源系统

说明书

本发明公开了一种强脉冲极紫外光源系统，其等离子体源与真空腔室相连通，电极靶设置于真空腔室内腔下部，等离子体源与等离子体电源电连接，等离子体源具有进气口，等离子体源位于进气口下部区域具有放电区，放电区下部具有喷嘴，进气口通过放电区与喷嘴连通，喷嘴侧面连通有导气口，喷嘴底部具有喷口，真空腔室顶部具有顶部开口，喷口与顶部开口连通，喷嘴所在区域外侧套装有第一线圈，电极靶所在区域外侧套装有第二线圈，第一线圈和第二线圈通过线圈电源提供电源，真空腔室侧面具有引出口，真空腔室底部与真空泵连通，真空腔室与接地端电连接，解决现有技术中需要产生稳定高效的13.5nm光源的技术问题。

技术领域

本发明属于检测装置领域，尤其涉及一种强脉冲极紫外光源系统。

背景技术

光刻是芯片制造技术的主要环节之一，光刻机分为紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、极紫外光源（EUV）。随着集成电路的发展，高度集成技术需求也逐渐提高，大部分电子元器件和存储单元趋于超小型化。采用极紫外光源（EUV）生产超小型芯片已最为核心的是新一代曝光技术。对于工业生产用EUV光刻机，其关键部件多层涂层镜、光收集器等，因其性能参数要求较高，如果不满足要求会影响到光学系统的工作效率。所以装机前要采用13.5nm光源对其检测评估，判断是否满足使用要求。这些器件使用过程中，会受到碳污染，影响到光学系统的工作效率，需对其进行清洗并重新检测。也需要采用13.5nm光源对其检测评估，所以如何开发一款高效稳定产生13.5nm光源的系统是本领域技术人员一直思考的难题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种强脉冲极紫外光源系统，解决上述现有技术中需要产生稳定高效的13.5nm光源的技术问题。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种强脉冲极紫外光源系统，包括：等离子体源、真空腔室、电极靶、第一磁场线圈、第二磁场线圈、真空泵、等离子体电源和线圈电源，所述等离子体源与真空腔室相连通，所述电极靶设置于真空腔室内腔下部，所述等离子体源与等离子体电源电连接，所述等离子体源具有进气口，所述等离子体源位于进气口下部区域具有放电区，所述放电区下部具有喷嘴，所述进气口通过放电区与喷嘴连通，所述喷嘴侧面连通有导气口，所述喷嘴底部具有喷口，所述真空腔室顶部具有顶部开口，所述喷口与顶部开口连通，所述喷嘴所在区域外侧套装有第一线圈，所述电极靶所在区域外侧套装有第二线圈，所述第一线圈和第二线圈通过线圈电源提供电源，所述真空腔室侧面具有引出口，所述真空腔室底部与真空泵连通，所述真空腔室与接地端电连接。

本发明的一种强脉冲极紫外光源系统，所述电极靶与脉冲电源电连接，所述脉冲电源另一端与等离子体电源电连接。

本发明的一种强脉冲极紫外光源系统，所述等离子体源与真空腔室之间设置有第一绝缘垫，所述真空腔室的顶部开口内设置有第一绝缘套。

本发明的一种强脉冲极紫外光源系统，所述电极靶包括：靶头和导杆，所述靶头与导杆连接，所述导杆上具有连接孔，所述连接孔与脉冲电源连接。

本发明的一种强脉冲极紫外光源系统，所述导杆上具有安装板，所述安装板上具有若干安装孔，所述安装孔内穿设有连接螺钉与真空腔室连接。

本发明的一种强脉冲极紫外光源系统，所述靶头外侧设置有循环冷却水管，所述循环冷却水管沿着导杆延伸至真空腔室外部。

本发明的一种强脉冲极紫外光源系统，所述安装板与真空腔室之间设置有第二绝缘套，所述第二绝缘套的截面形状呈T字形结构。

本发明的一种强脉冲极紫外光源系统，所述连接螺钉外套装有第三绝缘套。

本发明的一种强脉冲极紫外光源系统，所述等离子体电源的正极输出端设置有反冲保护电路，所述反冲保护电路由单向二极管 和接触器组成。

本发明的一种强脉冲极紫外光源系统，所述电极靶上方设置有隔板，所述隔板与电极靶位置对应处设置有通过孔。