[发明专利]一种微型二极管显示承载基板及显示面板、显示装置有效

专利信息
申请号: 202110292215.5 申请日: 2021-03-18
公开(公告)号: CN113066813B 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 蔡雨 申请(专利权)人: 武汉天马微电子有限公司
主分类号: H01L27/15 分类号: H01L27/15;H01L21/67;H01L23/544
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 高飞
地址: 430205 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 微型 二极管 显示 承载 面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种微型二极管显示承载基板,包括:

第一衬底;

像素电路阵列层,位于所述第一衬底的一侧,所述像素电路阵列层包括多个像素电路;

第一键合层,位于所述像素电路阵列层远离所述第一衬底的一侧;所述第一键合层包括至少一个第一键合结构,且所述第一键合结构与所述像素电路电连接;

第一连接电极,所述第一连接电极位于所述第一键合结构与其对应的电连接的所述像素电路之间,所述第一键合结构与其对应的所述像素电路之间通过所述第一连接电极实现电连接;

至少一个所述第一键合结构远离所述第一衬底的一侧设置有对位槽或者对位凸起;所述对位槽或者所述对位凸起用于在所述微型二极管绑定至所述承载基板时,配合所述微型二极管的电极进行对位操作。

2.根据权利要求1所述的承载基板,其特征在于,

所述对位槽或者所述对位凸起在所述第一衬底上的投影为圆形、矩形、十字形中的任意一种。

3.根据权利要求1所述的承载基板,其特征在于,

在平行于所述第一衬底的截面内,所述对位槽的截面积为第一截面积;沿垂直于所述第一衬底且逐渐远离所述第一衬底的方向,所述第一截面积逐渐增大;或者,

在平行于所述第一衬底的截面内,所述对位凸起的截面积为第二截面积;沿垂直于所述第一衬底且逐渐远离所述第一衬底的方向,所述第二截面积逐渐减小。

4.根据权利要求3所述的承载基板,其特征在于,多个所述第一键合结构中设置有所述对位槽;

在平行于所述第一衬底的一个截面内,沿平行于所述第一衬底且逐渐远离所述第一衬底的中心位置的方向,所述第一截面积逐渐增大。

5.根据权利要求4所述的承载基板,其特征在于,多个所述第一键合结构中设置围墙结构且所述围墙结构围绕所述对位槽,所述围墙结构沿所述承载基板厚度方向的高度为第一高度;

沿平行于所述第一衬底且逐渐远离所述第一衬底的中心位置的方向,所述第一高度逐渐增大。

6.根据权利要求3所述的承载基板,其特征在于,相邻设置的两个所述第一键合结构之间的距离为第二距离,沿平行于所述第一衬底且逐渐远离所述第一衬底的中心位置的方向,所述第二距离逐渐增大。

7.一种微型二极管显示面板,其特征在于,包括:

承载基板,所述承载基板包括:

第一衬底;

像素电路阵列层,位于所述第一衬底的一侧,所述像素电路阵列层包括多个像素电路;

第一键合层,位于所述像素电路阵列层远离所述第一衬底的一侧;所述第一键合层包括第一键合结构,且所述第一键合结构与所述像素电路电连接;

第一连接电极,所述第一连接电极位于所述第一键合结构与其对应的电连接的所述像素电路之间,所述第一键合结构与其对应的所述像素电路之间通过所述第一连接电极实现电连接;

微型二极管,所述微型二极管包括:

第一电极,所述第一电极包括第二键合结构;所述第二键合结构与所述第一键合结构电连接;

其中,至少一个所述第一键合结构中远离所述第一衬底的一侧设置有对位槽,至少一个所述第二键合结构中靠近所述第一衬底的一侧包括对位凸起;

或者,至少一个所述第一键合结构中远离所述第一衬底的一侧包括对位凸起,至少一个所述第二键合结构中靠近所述第一衬底的一侧设置有对位槽;

电连接的所述第一键合结构与所述第二键合结构中,所述对位凸起与所述对位槽对应,且在垂直于所述第一衬底的方向上,所述对位凸起至少部分位于所述对位槽内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉天马微电子有限公司,未经武汉天马微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110292215.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top