[发明专利]一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法

说明书

本发明公开了一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法，属于抛光液技术领域，一种亚光砖去磨痕抛光液，其组成成分包括：抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，所述抛光液A组分为硅溶胶，所述抛光液B组分为铝溶胶，所述抛光液C组分为分散剂和催化剂，所述抛光液D组分为去离子水，所述抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，按照质量配比为，硅溶胶10‑30份、铝溶胶10‑30份、分散剂0.1‑0.5份和去离子水40‑80份，可以实现选择两种无机材料混合，既能修补亚光砖在砖坯水磨抛光过程中产生的磨痕，不改变原有瓷砖的光度，从而同时达到修补瓷砖磨痕和不改变瓷砖原有光度的双重效果。

技术领域

本发明涉及抛光液技术领域，更具体地说，涉及一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法。

背景技术

目前市场上亚光砖、柔光砖越来越流行，它们更接近石材自然光的效果，看起来更高档，它们是将砖胚水磨抛光至一定的光度，一般来说10-20度是亚光，30-60度是柔光；不用再经过常用的超洁亮工艺，而是直接均匀涂抹一层防污剂后打包即可得到成品。在外国已普遍流行起来，国内市场也在每年翻倍递增，但是水磨抛光工艺目前存在有磨头痕的问题，很难通过调整磨具来解决，之前是经过超洁亮工艺后就可以修补，但若只是涂抹防污剂，磨头痕会更明显，如果磨头痕不能很好解决，会极大的阻碍它的发展。

发明内容

1．要解决的技术问题

针对现有技术中存在的问题，本发明的目的在于提供一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法，它可以实现选择两种无机材料混合，既能修补亚光砖在砖坯水磨抛光过程中产生的磨痕，不改变原有瓷砖的光度，从而同时达到修补瓷砖磨痕和不改变瓷砖原有光度的双重效果。

2．技术方案

为解决上述问题，本发明采用如下的技术方案。

一种亚光砖去磨痕抛光液，其组成成分包括：抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，所述抛光液A组分为硅溶胶，所述抛光液B组分为铝溶胶，所述抛光液C组分为分散剂和催化剂，所述抛光液D组分为去离子水，所述抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，按照质量配比为，硅溶胶10-30份、铝溶胶10-30份、分散剂0.1-0.5份和去离子水40-80份，可以实现选择两种无机材料混合，既能修补亚光砖在砖坯水磨抛光过程中产生的磨痕，不改变原有瓷砖的光度，从而同时达到修补瓷砖磨痕和不改变瓷砖原有光度的双重效果。

进一步的，所述抛光液A组分的硅溶胶为浓度30%的硅溶胶，浓度30%的硅溶胶是氧化硅的水合溶液，具有一定的粘性，能填充瓷砖的微细毛孔，增强研磨的亚光砖的光度。

进一步的，所述抛光液B组分的铝溶胶为12%铝含量的铝溶胶，12%铝含量的铝溶胶便于降低瓷砖的光度，同时因为铝溶胶涂层均匀，对磨痕的影响较小。

一种亚光砖去磨痕抛光液，其制备方法包括：

步骤一：铝溶胶的制备，量取定量的二次蒸馏水，放入烧瓶内加热至80-85摄氏度，按水与异丙醇铝的摩尔比为200：1的配比，加入研细的异丙醇铝，水解反应1.5小时，再升温至90-95摄氏度，敞口搅拌1小时，蒸去大部分醇类物质，得到白色勃姆石沉淀，加入硝酸，PH控制在3.0-4.1之间，回流陈化24小时，制得稳定透明的铝溶胶；

步骤二：硅溶胶的制备，将稀释后的水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，制得高纯度活性硅酸溶液，将硅酸溶液加入到含晶种的母液中，控制加入速度和反应温度，将完成结晶聚合过程的聚硅酸溶液进行加热蒸发浓缩，从而得到合适浓度的硅溶胶；

步骤三：铝溶胶混合，将铝溶胶缓慢添加入抛光液D组分的去离子水内，在添加过程中，持续使用玻璃棒对铝溶胶和去离子水进行搅拌，从而使铝溶胶与去离子水充分混合；