[发明专利]一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法

权利要求书

1.一种亚光砖去磨痕抛光液，其特征在于：其组成成分包括：抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，所述抛光液A组分为硅溶胶，所述抛光液B组分为铝溶胶，所述抛光液C组分为分散剂和催化剂，所述抛光液D组分为去离子水，所述抛光液A组分、抛光液B组分、抛光液C组分和抛光液D组分，按照质量配比为，硅溶胶10-30份、铝溶胶10-30份、分散剂0.1-0.5份和去离子水40-80份。

2.根据权利要求1所述的一种亚光砖去磨痕抛光液，其特征在于：所述抛光液A组分的硅溶胶为浓度30%的硅溶胶。

3.根据权利要求1所述的一种亚光砖去磨痕抛光液，其特征在于：所述抛光液B组分的铝溶胶为12%铝含量的铝溶胶。

4.根据权利要求1所述的一种亚光砖去磨痕抛光液，其特征在于：其制备方法包括：

步骤一：铝溶胶的制备，量取定量的二次蒸馏水，放入烧瓶内加热至80-85摄氏度，按水与异丙醇铝的摩尔比为200：1的配比，加入研细的异丙醇铝，水解反应1.5小时，再升温至90-95摄氏度，敞口搅拌1小时，蒸去大部分醇类物质，得到白色勃姆石沉淀，加入硝酸，PH控制在3.0-4.1之间，回流陈化24小时，制得稳定透明的铝溶胶；

步骤二：硅溶胶的制备，将稀释后的水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，制得高纯度活性硅酸溶液，将硅酸溶液加入到含晶种的母液中，控制加入速度和反应温度，将完成结晶聚合过程的聚硅酸溶液进行加热蒸发浓缩，从而得到合适浓度的硅溶胶；

步骤三：铝溶胶混合，将铝溶胶缓慢添加入抛光液D组分的去离子水内，在添加过程中，持续使用玻璃棒对铝溶胶和去离子水进行搅拌，从而使铝溶胶与去离子水充分混合；

步骤四：硅溶胶混合，将硅溶胶添加入铝溶胶的混合液内，在添加硅溶胶过程中缓慢加入抛光液C组的分散剂和催化剂，并不断搅拌混合。

5.根据权利要求4所述的一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法，其特征在于：所述步骤一铝溶胶的制备过程中，异丙醇铝的添加方式为，将异丙醇铝定量分开后，缓慢分批加入到二次蒸馏水中。

6.根据权利要求4所述的一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法，其特征在于：所述步骤二硅溶胶的制备过程中，将稀释后的水玻璃依次通过强酸型阳离子交换树脂和阴离子交换树脂，制得高纯度活性硅酸溶液后，由技术人员使用适量的NaOH或氨水调节其溶液PH值，使PH值处于8.5-10.5之间。

7.根据权利要求4所述的一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法，其特征在于：所述抛光液C组分中的催化剂包括固化剂、消泡剂和抗老化剂，所述固化剂的主要成分为改性聚硫醇。

8.根据权利要求4所述的一种亚光砖去磨痕抛光液及其制备方法，其特征在于：步骤二硅溶胶的制备过程中，将完成结晶聚合过程的聚硅酸溶液进行加热蒸发浓缩，若聚硅酸溶液内的硅溶胶成分含量过低，需要对聚硅酸溶液进行进一步的纯化，采用离心分离法除去其中杂质。