[发明专利]黑色低反射膜及积层体的制造方法

说明书

本发明提供一种正反射及散射反射的任一者均小而低反射性优异、表面具有充分的平滑感且黑度高的黑色低反射膜。本发明的黑色低反射膜以50:50～100:0的体积比率包含空隙率为50％以上的多孔质黑色颜料与粘合剂成分，表面的粗糙度参数Rt、Ra中，Rt为0.15μm～5μm、Ra为0.01μm～0.5μm，L*值为20以下，在400nm～700nm中，正反射率的最大值为0.8％以下、散射反射率的最大值为2％以下、光透过率的最大值为5％以下。

技术领域

本发明涉及一种黑色低反射膜及具有黑色低反射膜的积层体的制造方法。

背景技术

作为对膜赋予低反射性的方法，已知有如下方法：使膜含有有机微粒子或无机微粒子而在膜的表面形成凹凸，从而对膜消光。在此方法中，能够减小正反射率，但存在凹凸导致的散射强、散射反射率变大的倾向。

作为另一方法，有在膜的表面上配置低折射率膜的方法。例如，在专利文献1中揭示了一种多层膜，其是通过在包含高导电性碳黑的着色低电阻膜上、形成折射率比该着色低电阻膜低的膜而形成(权利要求1、权利要求6～8)。并揭示了作为构成低折射率膜的物质，就折射率及膜强度的观点而言，优选为Si化合物(段落0038)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开平08-054502号公报

发明内容

发明要解决的课题

在膜的表面上配置低折射率膜的方法中，构成低折射率膜的有机物及无机物的折射率的下限为1.3左右，与空气的折射率1.0之差较大，反射率的减小程度不充分。

不过，黑色系的防反射膜优选用于漏光成为问题的制品，如相机等光学设备、及电视机等的显示器。对于这种用途中所使用的黑色系的防反射膜，除了低反射性以外，也也期望较高的漆黑性及无粗糙感的平滑性。

通过使用包含大量空气的多孔质材料，可使膜的折射率下降。但是，一般而言，多孔质材料的比表面积高，所以对分散介质的分散性或分散稳定性差，有难以进行膜形成的倾向。而且，因膜表面的凹凸变大，所以有着散射反射增加、平滑性也降低的倾向。

当为了改良包含多孔质材料的分散液的分散状态，对分散液相对大量地添加分散剂或树脂时，有因树脂等侵入至多孔质材料的微细孔内而多孔质性受损、或者因存在分散剂或树脂而膜的折射率变大、反射率变大的可能性。当为了改良包含多孔质材料的分散液的分散状态，而加长分散时间、或者施加剪切力(shear)进行分散时，有多孔质结构受到破坏的可能性。

例如，在专利文献1的实施例中，获得了包含分散粒径为130nm的碳黑的着色低电阻膜形成用涂布液(实施例1等)。使用包含如此小的分散粒径的多孔质材料的涂布液而形成的膜的表面非常平滑，有着正反射变大的倾向。而且，所获得的膜的厚度薄至100nm，所以除了透明性高、反射率的下降不充分，也有漆黑性不足的倾向。

如此，一直以来，在技术上而言，难以消除正反射率与散射反射率之间的此消彼长(trade-off)，尤其，难以获得具有可解决该课题的低反射性、且具有充分的平滑感及漆黑性的膜。

解决手段

本发明的目的在于，提供一种正反射及散射反射的任一者均小而低反射性优异、表面具有充分的平滑感且黑度高的黑色低反射膜。

本发明涉及以下的[1]～[11]。

[1]一种黑色低反射膜，其以50:50～100:0的体积比率包含空隙率为50％以上的多孔质黑色颜料与粘合剂成分，

表面的粗糙度参数Rt、Ra中，Rt为0.15μm～5μm、Ra为0.01μm～0.5μm，L*值为20以下，