[发明专利]黑色矩阵光罩、制备黑色矩阵的方法及其应用在审
| 申请号： | 201610493901.8 | 申请日： | 2016-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN105892142A | 公开（公告）日： | 2016-08-24 |
| 发明（设计）人： | 沈嘉文;贾迎宾;孙浩然 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1362;G03F1/32 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种黑色矩阵光罩、制备黑色矩阵的方法及其应用。该黑色矩阵光罩沿所述黑色矩阵光罩上的黑色矩阵图案的边缘涂有具有特定穿透率的遮光层。本发明还提供了制备黑色矩阵、彩色滤光片、阵列基板、液晶显示装置的方法。该制备黑色矩阵的方法包括：步骤100、使用所述黑色矩阵光罩对基板上的黑色矩阵材料层进行曝光；步骤200、对曝光后的黑色矩阵材料层进行显影；步骤300、对显影后的黑色矩阵材料层进行烘烤，最终在所述基板上形成黑色矩阵。本发明的黑色矩阵光罩以及制备黑色矩阵、彩色滤光片、阵列基板、液晶显示装置的方法，能够使得黑色矩阵锥角变高，有助于提升产品开口率。 | ||
| 搜索关键词： | 黑色 矩阵 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种黑色矩阵光罩，其特征在于，沿所述黑色矩阵光罩上的黑色矩阵图案的边缘涂有具有特定穿透率的遮光层。
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